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液晶光学器件中液晶分子的转动由施加在ITO薄膜电极间的电场来控制,ITO晶体结构中空穴和自由电子与强激光的相互作用,使ITO薄膜电极成为液晶光学器件结构中激光损伤的薄弱环节.为探索ITO薄膜电极的激光损伤机制,使用原子力显微镜(AFM)对厚度约为10nm的ITO薄膜的表面形貌进行了测量.采用多重分形理论,定量分析了薄膜表面粗糙度及微孔洞分布情况,对薄膜在脉冲宽度为10ns,能量分别为50mJ、lOOmJ、200mJ激光辐照下所获得薄膜的表面粗糙度分布情况进行比较分析,结果显示,随着激光功率的增加,多重分形谱的谱宽△a呈增大趋势,且△f为负值,表明ITO.薄膜表面粗糙度增大并形成微孔洞缺陷. 相似文献
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利用动态反射法对手性液晶Bragg反射的分析 总被引:2,自引:0,他引:2
利用动态反射法对手性液晶材料的选择性反射特性进行了分析。根据理论分析结果,利用MATLAB程序计算了手性液晶膜层的反射光谱,得到了反射光谱随手性液晶的螺距和折射率变化的关系;利用动态反射法可以较为方便、快速地对手性液晶膜的Bragg反射特性进行数值求解分析,分析和计算结果可以为反射式液晶显示的设计和计算提供理论参考。由于在数值求解中引入了简化条件,因此该计算方法只能应用于△n值较小的情况,当Δn值较大时,应该用其他求解方法来完成计算分析工作。 相似文献
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探讨了应力三维度用于层裂分析的必要性和可能性。结合体胞模型的尺寸无关性特征,讨论了高应变率下高应力三维度对孔洞扩展影响的数值模拟方法。在此基础上,对轴对称体胞在不同的应力三维度下孔洞扩展进行了数值模拟。结果表明:宏观定义的等效应力-等效应变关系、孔洞体积分数与球应力关系不存在单值对应关系,它与应力三维度密切相关,因而,以应变等价原理为基石构建的含损伤本构或者状态方程在推广到其它应力状态时存在一定的局限,特别是以空心球模型在球对称应力加载下获得的含损伤本构和状态方程不能用于其它非球对称应力状态下的损伤演化。 相似文献
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为了研究含铝炸药的反应过程,采用激光烧蚀手段激发了RDX基含铝炸药粉末的快速反应,并对反应过程中的发射光谱分布进行了实时监测,并基于Al O分子光谱对反应区域的瞬态温度进行了计算。结果表明,含铝炸药在前期和后期的光谱分布和反应行为存在明显区别:前期主要为RDX和空气在激光烧蚀下形成的等离子冷却和耗散过程,O/H/N元素的发射光谱在这一阶段占主导地位,其谱线高度呈指数型衰减;后期以铝的氧化反应为主,该反应具有一定自持性,对应的反应中间产物Al O分子的光谱具有持续久、非单调变化的典型特征。温度变化趋势与整个反应发展趋势紧密相关,反应较剧烈的初期温度较高,并随着反应的持续变弱而变低。 相似文献
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根据弗琅和费衍射理论,建立了19路、37路和91路光纤激光相干合成模型,仿真模拟了不同占空比情况下,大阵列合成光束在远场的强度分布和光束质量,分析了占空比排布与合成路数对远场光束质量的影响。仿真结果表明,随着光纤阵列占空比的下降, 远场艾里斑内的光强逐渐减小, 合成效果变差;反之,远场艾里斑内的光强逐渐增大,合成光束远场能量集中度增强,光束质量变好。因此,提高相干合成的效果,必须提高光束阵列的占空比。 相似文献
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粘土矿物粒度细且易泥化,在煤泥水中能够形成稳定的胶体悬浮液,严重影响煤泥水的絮凝沉降,是选煤厂智能化加药模型的重要决策因素。本文以煤泥水中最常见的主要粘土矿物蒙脱石为代表,设计絮凝沉降正交实验,在显著性评价的基础上,用线性回归法分别拟合沉降速率和上清液浊度与煤泥水浓度、蒙脱石含量和凝聚剂加药量的关系模型。结果显示,以氯化铝为凝聚剂,实验范围内煤泥水沉降速度与浓度负相关,与凝聚剂加药量正相关;上清液浊度随着加药量的增加而降低,随着蒙脱石含量的增加而增加。所得凝聚剂药剂量与煤泥水浓度及蒙脱石含量的关系模型,可以作为煤泥水智能加药控制模型的参考。 相似文献