CdTnTe（CZT）单晶体的Raman—PL光谱的再分析

本文对碲锌镉（CZT）（111）取向的Raman光谱和PL光谱作了分析。在Raman光谱中,用Stokes测量检测无峰,而反斯托克斯(anti-Stokes)测出了它的Raman光谱,其中在－125cm^-1处是横声子振动（TO）－142cm^-1处是纵声子振动（LO）。由于晶体的各向异性,在一个平面上,同一晶粒旋转不同方向TO／LO比值与（111）平面等能截面图相符。另它的PL光谱在807nm(1.535eV),FWHM为30nm（0．057eV),旋转方向对PL光谱无影响。故在生长HgCdTe单晶薄膜时,要注意衬底CZT的晶体摆放位置。     

碲锌镉体单晶的Raman—PL光谱的分析

文章对碲锌镉（CZT）（111）取向的拉曼光谱和光荧光谱作了分析。在拉曼光谱中,用正斯托克斯测量检测无峰,而反斯托克斯（Anti-Stokes）测出了它的拉曼光谱。其中在（－125cm^-1）处是横声子振动（TO）,（－142cm^-1）处是纵声子振动（LO）。由于晶体的各向异性,在一个平面上,同一晶粒旋转不同方向TO／LO比值与（111）平面等能面截面图相符。另它的PL光谱在807nm(1.535eV),FWHM为30nm(0.057eV),旋转方向对PL光谱无影响。故在生长HgCdTe单晶薄膜时,要注意衬底CZT的晶体摆放位置 。     

掺杂超晶格的等离子激元与纵光学声子的耦合模

在T＝77K,测量出掺杂（Si)GaAs/AlGaAs超晶格的拉曼散射谱,观察到拉曼位移分别为223cm^-1和422cm^-1的两个光散射峰。理论分析认为,这两个散射峰是掺杂超晶格的等离子激元与纵光学声子耦合模引起的。这事模引起的光散射峰位置的理论计算值与拉曼测量结果相当一致。     

GaN基PIN紫外探测器的质子辐照效应

制备了GaN基PIN结构紫外探测器。用能量为2MeV的质子对器件依次进行注量为5×10^14cm^-2和2×10^15cm^-2的辐照。通过测量辐照前后器件的Ⅰ-Ⅴ曲线和光谱响应曲线，讨论了不同注量的质子辐照对GaN基紫外探测器件性能的影响。Ⅰ-Ⅴ特性表明，辐照使器件的反向暗电流增大，正向开启电流减小，并减小了器件的响应率，使峰值响应波长向短波方向稍有移动。为分析器件的辐照失效机理，研究了质子辐照对GaN材料的拉曼散射谱（Raman谱）和光致发光谱（PL谱）的影响。拉曼散射谱表明，A1（LO）模式随辐照注量向低频移动，通过拟合A1（LO）谱形，得到辐照使材料的载流子浓度降低的结果。PL谱表明，辐照使主发光峰和黄光峰强度降低，并出现一些新的发光峰，分析认为这是由于辐照引起了N空位缺陷和其他一些缺陷的亚稳态造成。     

液相法电沉积类金刚石薄膜的结构分析

采用脉冲直流电源,以甲醇有机溶液作为碳源,在低温(60 ℃～70 ℃)常压条件下,在(100)硅片上沉积了类金刚石薄膜.用扫描电镜、透射电镜、电子衍射谱和拉曼光谱表征了薄膜的表面形貌和结构.结果表明:类金刚石薄膜致密均匀,表面粗糙度小;Raman光谱在1 332 cm-1附近有一强峰,与金刚石的特征峰接近;电子衍射谱的分析结果表明薄膜中含有多晶金刚石和石墨碳相.     

碲锌镉晶片退火的显微Raman光谱分析

测量了4块不同退火条件处理碲锌镉晶片的显微Raman光谱,观察到了与碲锌镉材料及材料中Te沉积晶格振动相对应的Raman散射峰,发现了位于327cm^-1／332cm^-1的新峰。通过对碲锌镉晶片进行退火处理,有效的消除了Te沉积,比较碲锌镉晶片退火前后的显微Raman光谱,指出327cm^-1／332cm^-1散射峰只可能由来源于类CdTe或类ZnTe的二级声子散射引起,与碲锌镉材料中的Te沉积无关。     

组分离子浓度对铁电铌酸钾锂晶体Raman光谱的影响

测量了一批不同组分的铌酸钾锂晶体Raman光谱,发现晶体中位于C格位的Li离子浓度对晶体Raman光谱产生了强烈的影响：低Li含量晶体中[NbO6]^7-八面体所对应的3个Raman特征光谱线没有发生峰分裂,在100～400cm^-1范围出现的小峰与C格位Li离子浓度相关;当晶体中Li离子浓度增加时,与v5所对应的Raman峰在散射几何为X（ZY）Z对应的光谱中加宽．v2振动模式在两种散射几何中均出现分裂峰,并在100～400cm^-1范围出现小峰数量增多;当Li离子浓度接近晶体化学组分时,微扰进一步加强,v5所对应峰分裂成3个峰,v1和v2振动模式发生部分分裂,在100～400cm^-1范围小峰更为突出．     

快速热退火温度对纳米晶氢-硅薄膜及其p-n结性能的影响

采用快速热退火(RTA)对热丝化学气相沉积HWCVD制 备的非晶氢-硅(a-Si:H)薄膜进行晶化处理,并在此基础上制备了 纳米晶氢-硅(nc-Si:H)薄膜p-n结。利用拉曼(Raman)光谱、X射线衍射(XRD)、 扫描电子显微镜(SEM)和分光光 度计研究了所制备(nc-Si:H)薄膜的结构、光学性能与退火温度的关系;同时, 研究了不同RTA条 件下制备p-n结的整流特性随温度变化的规律。研究发现,随RTA温度由700℃升高至 1100℃,薄膜的晶化率由46.3%提高到96%,拉曼峰半高宽(FWHM)由19.7cm－1降低至7. 1cm－1。当退火 温度为700℃时,薄膜的XRD谱中只有一个较弱的Si(111)峰;当退火 温度高于900 ℃时,薄膜 的XRD谱中除Si(111)峰外,还出现了Si(220)、Si(311)峰。同时,随退火温度的升高,薄膜 的禁 带宽度由1.68eV升高至2.05eV。由于禁带宽 度的增加,相应的p-n结最高工作温度也由180℃升高至300℃。     

MOCVD生长的GaN膜的光学性质研究

本文报道（0001）晶向蓝宝石衬底上金属有机化学气相淀积（MOCVD）方法生长的单晶六角GaN薄膜室温光学性质．由光吸收谱和488umAr+激光激发的光调制反射光谱（PR）确定的禁带宽度分别为3．39和3．400eV，从光吸收谱得到了GaN薄膜的折射率随光谱能量的变化关系．对PR谱的调制机理进行的分析，发现信号来自缺陷作用下的表面电场调制．应用喇曼光谱研究了GaN薄膜中的声子模，通过对LO声子-等离激元的耦合模散射峰的研究，得到了材料中的载流子浓度和等离激元阻尼常数．     

碲镉汞体材料的显微Raman光谱

利用Raman显微镜测量了ACRT-Bridgman方法和Te溶剂方法生长的碲镉汞体材料的显微Raman光谱，在碲镉汞体材料的显微Raman光谱中识别出了碲镉汞的基本光学振动模，由此证明了碲镉汞按晶格振动的分类方法属于二模混晶；识别出了一个来源于类HgTe的TO1模 LO1模的二级Raman散射峰；观察到了碲镉汞体材料中两个新的Raman散射峰，分别位于662cm^-1和749cm^-1；观察到了碲镉汞基本光学振动模的TO1模与LO1模的Raman散射强度比的变化，指出该现象是由于Raman散射几何配置不同引起的。     

分子束外延Hg0.68Cd0.32Te薄膜光致发光和喇曼散射的研究

对利用ＭＥＢ技术生长的Ｈｇ０．６８Ｃｄ０．３２Ｔｅ薄膜进行了光致发光和喇曼光谱的研究，拟合薄膜光致发光谱得到的禁带宽度，与红外透射谱得到的薄膜带宽相近；其半宽仅为５ｍｅＶ，带尾能量小于１．３ｍｅＶ，显示了较高的薄膜质量。     

ZnMgSe/ZnCdSe多量子阱的光学性质

通过光致发光 (PL)和拉曼 (Raman)光谱研究了分子束外延 (MBE)生长的 Zn Mg Se/ Zn Cd Se多量子阱的光学性质。在 80 K到 3 0 0 K温度范围内 ,观测到了 PL光谱中来自量子阱的自由激子发光 ,通过发光强度与温度的变化关系 ,计算了激子束缚能。结果表明在 Zn Mg Se/ Zn Cd Se多量子阱 (MQWs)势垒层中 ,Mg的引进增强了量子阱的限制效应 ,导致激子具有较好的二维特性。在室温下的 Raman光谱中观测到了多级纵光学声子(LO)和横光学声子 (TO)的限制模 ,表明多层结构具有较高的质量     

(113)B和(100)面InAs/GaAs量子点光致发光光谱特性研究

利用分子束外延技术在(100)和(113)B GaAs衬底上进行了有/无AlAs盖帽层量子点的生长,测量了其在4～100 K温度区间的PL光谱。通过对PL光谱的积分强度、峰值能量和半高宽进行分析进而研究载流子的热传输特性。无AlAs盖帽层的(113)B面量子点的PL光谱的热淬灭现象可以由载流子极易从量子点向浸润层逃逸来解释。然而,有AlAs盖帽层的(113)B量子点的PL热淬灭主要是由于载流子进入了量子点与势垒或者浸润层界面中的非辐射中心引起的。并且其PL的温度依存性与利用Varshni定律计算的体材料InAs的温度依存性吻合很好,表明载流子通过浸润层进行传输受到了抑制,由于AlAs引起的相分离机制(113)B量子点的浸润层已经消失或者减小了。(100)面有AlAs盖帽层的PL半高宽的温度依存性与无AlAs盖帽层的量子点大致相同,表明在相同外延条件下相分离机制在(100)面上不如(113)B面显著。     

Optical properties of CdS micro/nanocrystalline structures prepared via a thermal evaporation method

Cadmium sulfide (CdS) micro/nanocrystalline structures were fabricated by thermal evaporation in the absence of a catalyst on ITO-coated glass and Si(100) substrates. The samples prepared at 520 °C showed two structures of CdS: nanowires (NWs) and necklace-like microstructures grown on Si(111) and ITO substrates, respectively. The crystalline structures of the grown CdS necklace-like microstructures and NWs were studied using XRD analysis. The CdS necklaces and NWs structures were formed with hexagonal (wurtzite) structure. Two emission bands (green and red) were observed in the photoluminescence spectra of the prepared samples. The green PL emission in both structures showed a strong blue-shift compared with the optical band gap of CdS. Raman spectra of the grown CdS micro/nanocrystalline structures show redshift in the fundamental (1LO) and overtone (2LO) peaks location compared with Raman bands of bulk CdS.     

静压下（CdSe）_m／（ZnSe）_n－ZnSe超短周期超晶格量子阱的共振喇曼散射研究

在静压和液氮温度下观察到（ＣｄＳｅ）ｍ／（ＺｎＳｅ）ｎ短周期超晶格中重空穴激子的复合发光和多达４阶的类ＺｎＳｅＬＯ多声子喇曼散射，并观察到厚ＺｎＳｅ势垒层的带边发光和限制在厚势垒层中的类ＺｎＳｅＬＯ声子散射．结果表明，加压后（ＣｄＳｅ）ｍ／（ＺｎＳｅ）ｎ短周期超晶格中的类ＺｎＳｅ的１ＬＯ和２ＬＯ声子模频率分别以３．７６和７．１１ｃｍ－１／ＧＰａ的速率向高频方向移动，超晶格阱层光致发光峰的压力系数为５９．８ｍｅＶ／ＧＰａ．与（ＣｄＳｅ）ｍ／（ＺｎＳｅ）ｎ短周期超晶格共振时的类ＺｎＳｅ１ＬＯ声子模频率比与ＺｎＳｅ势垒层共振时的类ＺｎＳｅ１ＬＯ声子模频率低２．０ｃｍ－１，反映了（ＣｄＳｅ）ｍ／（ＺｎＳｅ）ｎ短周期超晶格中ＬＯ声子的限制效应     

GaAs/Al_xGa_(1-x)As超晶格中的纵光学声子模(英文)

The long wavelength optical phonon spectra of AlxGa1-xAs mixed crystals appear as "two-mode" behaviour, i.e. there are GaAs-like and AlAs-like optical branches simultaneously. Besides* the LO phonon dispersion curves of bulk GaAs and GaAs-like in AlxGa1-xAs mixed crystal are partly overlapped. Therefore, we expect, in GaAs/AlxGa1-xAs superlattices, that LO phonons are partly in confined modes while partly in folded one, and that AlAs-like modes are confined in AlxGa1-xAs layers.The samples of GaAs/AlxGa1-xAs superlattices were grown by MBE on (001) oriented semi-insulating GaAs substrates. Raman spectra were measured in the back-scattering geometry at room temperature. Only odd modes with B2 symmetry were observed for LO modes confined in the GaAs layer. This result is in agreement with the previous reports. In addition, AlAs-like LO modes confined in AlxGa1-xAs layers were observed for the first time.     

Characterization of Cd1-xZnxTe (0≤x≤1) Nanolayers Grown by Atomic Layer Deposition on GaSb and GaAs (001) Oriented Substrates

ZnTe, CdTe, and the ternary alloy CdZnTe are important semiconductor materials used widely for the detection of an important range of electromagnetic radiation as gamma ray and X-ray. Although, recently these materials have acquired renewed importance due to the new explored nanolayer properties of modern devices. In addition, as shown in this work they can be grown using uncomplicated synthesis techniques based on the deposition in vapour phase of the elemental precursors. This work presents the results obtained from the deposition of nanolayers of these materials using the precursor vapour on GaAs and GaSb (001) substrates. This growth technique, extensively known as atomic layer deposition (ALD), allows the layers growth with nanometric dimension. The main results presented in this work are the used growth parameters and the results of the structural characterization of the layers by the means of Raman spectroscopy measurements. Raman scattering shows the peak corresponding to longitudinal optical (LO)-ZnTe, which is weak and slightly redshift in comparison with that reported for the ZnTe bulk at 210 cm–1. For the case of the CdTe nanolayer, Raman spectra presented the LO-CdTe peak, which is indicative of the successful growth of the layer. Its weak and slightly redshift in comparison with that reported for the CdTe bulk can be related with the nanometric characteristic of this layer. The performed high-resolution X-ray diffraction (HR-XRD) measurement allows to study some important characteristics such as the crystallinity of the grown layer. In addition, the HR-XRD measurement suggests that the crystalline quality has dependence on the growth temperature.     

Si衬底上热壁外延制备GaAs单晶薄膜材料

报道了采用热壁外延（ＨＷＥ）技术,在Ｓｉ表面生长ＧａＡｓ薄膜。先通过活化剂活化Ｓｉ表面,再采取两步生长法外延ＧａＡｓ单晶薄膜,最后进行断续多层循环退火（ＩＭＣＡ）。经电子探针（ＥＰＭＡ）、Ｒａｍａｎ光谱、Ｈａｌｌ测量和荧光（ＰＬ）光谱测试分析,证实在Ｓｉ表面获得了的４μｍ厚的ＧａＡｓ单晶薄膜。