中国无机氟化工五十年发展进程

回顾了中国无机氟化工近50 a的发展历程,包括氟资源储量、生产工艺技术水平,以及产品品种、产量和质量。介绍了目前中国生产无机氟化工产品现状,主要包括无水氟化氢、氟化铝、氟化钠等产品,以及六氟磷酸锂、四氟硼酸锂、高纯氟气、六氟化硫、三氟化氮、四氟化碳、六氟化钨、五氟化碘、五氟化磷、三氟化硼、四氟化硫等产品,阐述了这些产品的产量、生产工艺技术水平、供需情况。指出目前中国无机氟化工存在的问题和今后的发展方向。     

电解制氟生产中废气处理方法的探讨

氟气又称元素氟,因其特殊的理化性质常被做为氟化剂以制取优良性能的各种含氟材料。介绍了电解制氟的生产方法及机理,同时就电解槽阴极产生氢气中夹带少量的HF、电解槽阳极在预电解阶段及事故状态下氟气及夹带少量HF的不同处理方法、反应原理及工艺流程示意图做了阐述。     

六氟化钨中微量氟化氢的红外光谱分析

采用红外光谱法对六氟化钨(WF6)中的氟化氢(HF)进行定量分析,HF共有8个吸收峰,考虑定量的灵敏度及避免测定干扰,选择波数4 039.2 cm–1作为HF的定量峰位。通过测定不同含量的HF标准气体,建立其含量与定量峰位的吸光度相对应的标准曲线。标准曲线的线性范围(体积分数)为1.60×10–6~10×10–6,相关系数为0.999 4。该方法简便快捷,结果重复性好,可应用于工业化生产的分析。     

电解制氟与石墨阳极表面氟化石墨钝化层的研究

合成氟化石墨的关键原料是单质氟气。利用自制的电解装置,通过电解熔盐KF·2HF成功地制取了氟气。采用特制的“阳极罩”使电解制得的F2与H2隔离,提高了安全性。用石墨材料作阳极,表面易生成不利于电解电流通过的“钝化层”,经红外光谱测试分析,其组成为富含F-C健的氟化石墨,而用无定型炭材料作电解阳极,不易生成该钝化层,且使用寿命较长。     

半导体工业的新型氟化学产品

AEC公司经过深入的技术研究在南非比勒陀利亚附近的Pelindaba建立了２所独立的工厂，生产专用于半导体工业的六氟化钨（WF６）和三氟化氯（ClF３）。集成电路在现代电子设备中是关键的高精确度元件，这些元件的市场正迅速发展。除计算机外，高增长的领域有蜂窝电话和照相机等。在生产集成电路时半导体工业会使用大量的无机和有机氟化学品。其中包括金属层的沉积、硅材的蚀刻和装配车间的清洗。WF６是通过钨金属和氟气反应生产的。WF６可用于生产集成电路过程中沉积钨金属和钨化合物。ClF３是通过控制反应氯气和氟气生产的。中试研究始…     

制造氟或三氟化氮的电解装置

本发明的任务在于提供一种通过电解含氟化氢的熔盐而制造氟或三氟化氮的电解装置,此电解装置的优点在于可进行电解,而即使在大电流密度下也不会出现阳极效应,而且不会发生阳极溶解。在本发明中,此任务通过下面的电解装置完成,所述电解装置通过施加1到1000A／dm^2的电流密度电解含氟化氢的熔盐以制造氟或三氟化氮,该电解装置以涂覆导电金刚石的电极作为阳极。     

含氟特种气体及电子化学品市场与竞争力分析(待续)

介绍了属于高端无机氟精细品的部分含氟特种气体及电子化学品氟气、六氟化硫、六氟化钨和五氟化碘等,这些产品大多用于电子、新材料、航空航天等高新领域,普遍具有技术含量、产品附加值较高的特点,在国民经济中占有重要地位。叙述了产品性能、生产方法、用途、国内外市场现状、生产厂家规模及分布等。     

气相法合成氟化石墨的研究

配制的电解质熔盐组成为：KF（60％）、HF（40％）．在100±5℃温度范围内电解该熔盐可制得氟气。将所制备的氟气经纯化处理后与鳞片石墨粉在500℃进行15h的反应,成功地合成制得了氟化石墨,其真密度值为2．549／cm3,含氟量为56．5％,F／C值为0．82。与石墨原料的X-射线衍射谱峰相比,所合成的氟化石墨的（002）衍射峰强度变弱,而（001）和（100）峰变宽。氟化石墨在波数1219cm（－1）和1350cm（－1）附近有F—C共价键红外光谱吸收峰。     

喷射吸收塔在磷肥生产中的应用

高州县化肥厂普钙生产自61年投产以来,一直采用一次配酸、立式搅拌、皮带化成、拨水轮吸收室吸收氟气的工艺.由于硫酸分解磷矿过程中有大量的含氟气体逸出,主要是四氟化硅(SiF4)、氟化氢(HF).根     

高纯六氟化钨的生产

六氟化钨在电子工业中有着广阔的应用前景,论述了目前工业化生产高纯六氟化钨（WF6）的方法、六氟化钨的质量标准、分析检测方法和六氟化钨的发展前景。     

电解氟化及其下游精细氟化工产品(待续)

介绍了电解氟化法制备含氟精细化学品的特点,电解氟化得到R_f基团单一,所生成的衍生物有高憎油憎水性、高溶解性、表面改性能力大,虽电耗高、成本较高,但在某些领域具有不可替代性。叙述了含氟表面活性剂和PFOS、PFOA及其衍生物,氟气、氟化石墨及新能源材料,六氟化硫、三氟化氮等电解氟化法制备的含氟精细化学品的特性、用途、发展历程,以及国内外生产、应用概况。     

四氟化硫的制备和提纯方法

评述了四氟化硫的制备和提纯方法。四氟化硫的制备方法按氟来源可分为五种制备方法：氟气氟化法、氟化氢氟代法、有机碱氢氟酸盐氟代法、金属氟化盐氟代法和非金属氟化物氟化法。四氟化硫的提纯方法可分为汞结合法、吸收法和高温老化法。     

SiF_4气体中(SiF_3)_2O的净化方法

高纯度四氟化硅(SiF4)是电子工业中的一种重要原料,能用于光导纤维、太阳能电池和水泥硬化剂等的原料。详细介绍了SiF4气体中(SiF3)2O的生成原理和(SiF3)2O的净化方法,六氟二甲硅醚的纯化方法有活性炭吸附法,与含氟化氢的浓硫酸,氟气,氟化剂等物质发生反应,其中详细介绍了活性炭对四氟化硅气体中的杂质的净化效果。     

六氟化钨的合成与开发

介绍了国外六氟化钨的制备和精制工艺进展，重点描述了电子工业中应用的高纯度六氟化钨的制备工艺。同时介绍了六氟化钨的性质、产品规范、应用及经济等方面的状况，评述了六氟化钨在国内外的发展前景。     

六氟化钨的合成与开发

介绍了国外六氟化钨的制备和精制工艺进展，重点描述了电子工业中应用的高纯度六氟化钨的制备工艺。同时介绍了六氟化钨的性质、产品规范、应用及经济等方面的状况，评述了六氟化钨在国内外的发展前景。     

高纯氟化氢中微量杂质气体测定

采用气相色谱分析系统,建立了一种精准测定高纯氟化氢(HF)中微量杂质气体的方法。以高纯氦为载气,高纯HF经专用除水装置除水、预分离柱分离、反吹处理,气体杂质通过分子筛柱和Hayesep柱分离后进入氦放电离子化检测器(DID),用外标法定量分析微量杂质组分H_2、O_2+Ar、N_2、CH_4、CO和CO_2,体积分数检出限可达10~(-8),相对标准偏差(RSD)5%。该方法准确、可靠、精密度好,能够精准检测HF气体中的微量气体杂质。     

氟气及其应用

简叙了氟气的性质及其制备方法,介绍了氟气在含氟无机材料、含氟精细化学品、含氟聚合物材料及半导体领域应用,分析了氟气及其在下游产品的应用趋势。认为随着对氟气安全性不断认知和掌控,用氟气氟化将成为氟化工艺中重要方法,在稳定无机氟化试剂制备、含氟有机化合物高效制备、新能源用氟化石墨制备和作为半导体清洁气体等方面发挥重要作用。     

电化学氟化技术及其应用

电化学氟化(ECF)技术是用镍作阳极,在无水氟化氢中电解制备全氟化合物的一种方法.围绕ECF的原理,介绍了其反应机理.讨论了底物、反应介质、电极电压、电流密度等因素对ECF的影响.在不同电解氟化条件下,探讨了合成的相应氟化产物的稳定性和电化学性能.讨论了多种有机物的ECF的特点及应用.     

改性色谱分离树脂的制备及在果糖分离中应用

通过直接对KRS-1色谱分离树脂进行表面氟化改性,调节氟的加量,使氟原子在树脂骨架上分布,在树脂表层形成橡胶弹性体,试验证明,该氟化改性色谱分离树脂用于果葡糖浆中果糖分离,果糖质量分数及分离度均高于未氟化树脂,力学性能也得到提高,树脂破碎率远低于未氟化树脂.最适宜氟化试验反应条件为:V(N2)∶V(F2)为9∶1,氟气...     

氟化石墨工艺技术研究

气相法制备氟化石墨由于工艺简单、产品纯度高而成为合成氟化石墨最常用的方法。氟化石墨的合成过程涉及高温与活性单质氟气两方面的因素,安全控制十分重要。从原料、反应时间、反应温度、反应设备和纯化方法等方面对合成氟化石墨的工艺技术进行对比,旨在避免生产过程中出现潜在的危险,寻求提高氟化石墨产品质量的新方法,提升氟化石墨整体制备工艺的安全性。