高纯八氟环丁烷的制备与纯化

在常温下,八氟环丁烷是一种无毒气体,具有较低的温室效应指数和适宜比例的碳/氟比,被广泛用作制冷剂以及半导体芯片制造工艺中的蚀刻剂和清洗剂。随着低纳米制程芯片的飞速发展,对八氟环丁烷纯度的要求越来越严苛,给高纯八氟环丁烷的纯化工艺带来了极大挑战。综述了现阶段八氟环丁烷的制备方法和纯化方法：(1)工业上广泛用于合成八氟环丁烷的方法是四氟乙烯二聚法;(2)八氟环丁烷的纯化方法包括精馏、吸附、化学转化和膜分离。通过单一的纯化方法很难得到电子级八氟环丁烷,需要多种纯化技术联合使用才能得到纯度>5N级的八氟环丁烷。     

昭和电工拟建上海第二工厂增产电子化学品

昭和电工株式会社1月8日宣布,为了强化电子材料用高纯度气体事业,决定在上海的生产基地-上海昭和电子化学材料有限公司的旁边取得第二工厂建设用地,建设高纯度一氧化二氮和高纯度八氟环丁烷的生产设施,以及高压气体危险品仓库。第二工厂拟于2021年下半年投产。海第二工厂计划面积约10,000 m 2,计划高纯度一氧化二氮年生产能力1,000 t,计划高纯度八氟环丁烷年生产能力600 t。     

昭和电工拟建上海第二工厂增产电子化学品

正昭和电工株式会社1月8日宣布,为了强化电子材料用高纯度气体事业,决定在上海的生产基地-上海昭和电子化学材料有限公司的旁边取得第二工厂建设用地,建设高纯度一氧化二氮和高纯度八氟环丁烷的生产设施,以及高压气体危险品仓库。第二工厂拟于2021年下半年投产。海第二工厂计划面积约10,000 m~2,计划高纯度一氧化二氮年生产能力1,000 t,计划高纯度八氟环丁烷年生产能力600 t。     

应用市场

正昭和电工拟在上海新建高纯度气体工厂1月8日消息,为了强化电子材料用高纯度气体事业,昭和电工株式会社决定在上海的生产基地-上海昭和电子化学材料有限公司旁边取得第二工厂建设用地,建设高纯度一氧化二氮和高纯度八氟环丁烷的生产设施,以及高压气体危险品仓库。第二工厂拟于2021年下半年投产。第二工厂计划面积约10,000平方米,计划高纯度一氧化二氮年生产能力1,000吨,计划高纯度八氟环丁烷年生产能力600吨。另     

浅谈电子级八氟环丁烷纯化技术

对现有八氟环丁烷的用途和纯化工艺进行简述,并介绍了公司自主研发的纯化工艺,采用精馏-吸附相结合的工艺,产品符合半导体行业使用要求。     

气体工业名词术语

低压液化气体（ＬｏｗＰｒｅｓｓｕｒｅＬｉｑｕｅｆｉｅｄＧａｓｅｓ）临界温度大于７０℃的气体。区分为不燃无毒和不燃有毒、酸性腐蚀性气体；可燃无毒和可燃有毒、酸性腐蚀性气体；易分解或聚合的可燃气体。此类气体在充装时以及在允许的工作温度下贮运和使用过程中均为液态。包括的气体品种有一氟二氯甲烷、二氟氯甲烷、二氟二氯甲烷、二氟溴氯甲烷、三氟氯乙烷、四氟二氯乙烷、五氟氯乙烷、八氟环丁烷、六氟丙烯、氯、三氯化硼、光气、氟化氢、溴化氢、二氧化硫、硫酰氟、二氧化氮、液压石油气、丙烷、环丙烷、丙烯、正丁烷、异丁烷、…     

八氟丙烷纯化研究进展

随着电子工业的迅速发展,高纯八氟丙烷电子气体的需求量日益增加。总结了八氟丙烷的纯化方法,包括精馏法、吸附法、杂质转化法和膜分离法,并对各方法的优缺点进行了分析和讨论。     

6项气体国标通过审查

11月17日,《混合气体称量制备组分相关性控制》、《气体分析校准用混合气体的制备称量法》、《低温液化气体安全指南》、《气体分析痕量分析校准用零点气纯化技术导则》、《电子工业用气体锗烷》、《电子工业用气体八氟丙烷》6项国家标准通过全国气体标准化技术委员会等组织的专家审查。     

六氟-1,3-丁二烯的提纯方法及应用优势

介绍了六氟-1,3-丁二烯的性质、纯化技术以及与传统含氟刻蚀气体刻蚀性能的比较。六氟-1,3-丁二烯是一种新型的电子气体,主要应用于超大规模集成电路的干法刻蚀方面。优越的刻蚀性能和优良的环境性能使其成为具有发展前景的下一代刻蚀气体。     

八氟环丁烷的纯化

简介了制备和纯化八氟环丁烷(c-C_4F_8)的方法。研究了深度脱除水杂质(H_2O)的工艺,可得到H_2O≤0.1×10~(-6)的高纯c-C_4F_8。     

电子级八氟环丁烷中杂质含量的测定

介绍了一种利用氦离子化检测器(DID)分析高纯八氟环丁烷中微量O2、N2、CO、CO2、C3 F6的方法.该方法对杂质的检测限能够达到0.01×10-6,结果表明,该方法能达到较高的灵敏度和较低的检测限.     

电子级六氟丙烷的制备及纯化研究进展

近年来电子级六氟丙烷以其优越的安全性、高效的刻蚀速率、良好的选择性,成为了新一代等离子体刻蚀气体。对六氟丙烷HFC-236fa及其同分异构体HFC-236ea进行了概述,并介绍其制备方法、工业级及电子级纯化方法的研究进展。     

我国含氟电子气体发展现状及技术进展

介绍了我国含氟电子气体发展现状以及技术研究进展。国内含氟电子气体产品在下游应用企业中的接受度较低,与国外发展存在明显差距。研究和开发含氟电子气体的关键技术主要包括合成、纯化、分析和包装等技术。     

全氟己酮灭火剂高温热裂解性能研究

基于GC、GC-MS和KM900手持式烟气分析仪测试手段,研究了全氟己酮在管式反应器中滞留时间为2s和5 s、裂解温度为500~750℃时的热裂解规律。结果表明:全氟己酮在550℃时开始分解,超过650℃裂解剧烈;主要裂解气体产物为十氟丁烷、六氟丙烯和全氟异戊烷;随着裂解温度和滞留时间的增加,全氟己酮裂解程度加剧,十氟丁烷和六氟丙烯生成量增加,全氟异戊烷的生成量先增加后减少;值得重视的是全氟己酮高温热裂解时有剧毒气体全氟异丁烯和毒性气体一氧化碳产生。     

电子气体净化器现状与趋势

电子气体净化器是对电子气体进行在线净化,使主要杂质含量由10-6级降低到10-9、10-12级的关键纯化装置。与电子气体一样,同属我国亟待发展的战略资源与关键技术。从技术和市场角度,对电子气体净化器国内外现状和发展做总体性概括、介绍和展望。     

六氟乙烷的制备及纯化方法概述

六氟乙烷主要用作集成电路的蚀刻气体和清洗气体,介绍了几种六氟乙烷的制备方法和纯化方法。     

三氟化硼制备及纯化进展

三氟化硼是一种具有重要意义的高附加值电子气体,随着半导体产业的高速发展,对电子气体的纯度提出了更高要求,文中详细论述了三氟化硼合成制备及纯化的研究进展,以此根据实际生产制备条件,选择不同纯化方法进行提纯.     

光明院参加起草的两项国家标准正式颁布

<正>根据国家标准公告2015年第25号,中昊光明化工研究设计院参加制定的《电子工业用气体锗烷》和《电子工业用气体八氟丙烷》两项国家标准于2015年9月11日获得国家质检总局、国家标准委批准,正式颁布。     

碳酰氟研究的最新进展

碳酰氟是一种环保性能优良、最具潜力的半导体设备清洗和蚀刻材料。作为电子气体的新宠,其制备方法、反应设备、纯化技术、应用研究等被业界广泛关注。     

中核红华特种气体股份有限公司建成国内唯一高纯氟气生产线

该公司利用电解制氟及氟气纯化技术优势 ,已建成年产 1 0 t高纯氟气生产线 ,首批产品于 1 999年 1 1月出厂 ,用户反映极为满意。氟气是一种淡黄色气体 ,具有极强活泼性 ,它能与除惰性气体外元素周期表中所有其他元素形成化合物。由于其极强的化学活性 ,其提纯处理技术难度大 ,世界上仅英、美、法、德等国掌握了大规模提纯氟气技术。红华公司具有 30多年制氟经验、技术成熟 ,与国际先进水平相当 ,成功生产出纯度≥ 99%的氟气后 ,填补了国内空白 ,满足了相关高新产业的需要。氟气作为半导体生产工艺中使用的特种气体的主要合成气体 ,要求其纯…