高效气体尘埃超净过滤器的研制

高效气体尘埃超净过滤器的研制王瑞升邱长春（中国科学院大连化学物理研究所大连１１６０１２）１前言作为高（超）纯气体净化设备最后一关的气体尘埃过滤器，在设备中起着至关重要的作用，对它的要求随着电子工业的发展而愈加严格，在大规格集成电路中，电子线路的宽度只...     

国外电子气体供气系统洁净技术

电子气体是发展大规模、超大规模和兆位级集成电路必不可少的材料。目前国外256K DRAM(动态存取存储器)已进入成熟期,1兆位DRAM进入全盛期,4兆位DRAM已正式销售,1987年首先由日本开发成功16兆位DRAM。为适应IC(集成电路)发展对材料的需求,国外许多特种气体公司先后开发出电子级、超大规模集成电路级(VLSI)和兆位级电子气体。线宽进入亚微米级后,尘埃、金属粒子污染问题更为人们所关注。本文简介粒子污染及其洁净技术的进展。一、尘埃和金属粒子源及其对半导体器件质量的影响在用于制造半导体器件的气体中,如存     

大规模集成电路制造工艺对特种气体的要求

叙述了大规模集成电路的发展,包括线宽、管芯面积与制造工艺对特种气体中尘埃数和粒径的要求、颗粒与成品率的关系,以及在不同级别洁净室中生产器件对成品率的影响。详细介绍了工艺气体中杂质对器件性能的影响。还介绍了大规模集成电路材料及器件和化合物半导体材料及器件生产工艺中使用的各种气体。对国外用于MOCVD、LSI及亚微米集成电路制造用气体的污染控制也作了介绍。     

影响SMIF微环境中气流状态因素的探讨

在洁净室中应用SMIF微环境技术可以有效减少气体微粒，并实现硅片同工作人员及工艺设备的相互隔离。本文主要论述气流对微粒运动的影响，在微环境SMIF系统中的气流状况，以及影响微环境中的气流因素进行分析。     

半导体工业对特种气体的要求

特种气体在国防、化工、电子、冶金、能源等现代科研部门和国民经济的一些领域中有着广泛的用途。尤其是对于电子部门中的半导体领域，这类气体更显得重要。从半导体材料、半导体器件、集成电路的制造到半导体材料、器件的理论物理的研究都离不开各类特种气体。也就是说，如果没有合格的高纯、超纯气体和各种组成的混合气体就制造不出成品率高的集成电路，也就没有电子计算机。     

高纯液氧、液氮的研制及其供应

电子工业的迅速发展是现代科学的重要标志，大规模集成电路的生产技术更体现一个国家工业发展的水平。高纯氧、氮、氢、氩等气体，是半导体电子器件、集成电路生产工艺中必不可少的原料。这些气体纯度的高低，是直接影响电子器件质量和成品率的重要因素之一。世界工业发达国家的半导体集成电路生产工艺，不仅普遍应用高纯气体，而且有90％以上是采用高纯度液态气体直接汽化的输送气体。     

高纯气体输送装置的洁净

随着电子工业的发展和大规模集成电路的研制与生产，高纯气体已成为电子工业不可缺少的材料。虽然各半导体生产工艺对所用气体的纯度和洁净度要求不同，但同一种杂质给半导体生产带来的危害是一样的，总是使半导体产品质量劣化，成品率下降。例如，高纯氮、氢和氩气中有氧和水份时，会使半导体产品表面生成氧化膜；有碳化物时，会使半导体产品发生漏电；若有金属微粒子时，会使半导体产品出现漏电、耐压不良、晶格缺陷和断线等现象；如有其它尘埃粒子，同样会使半导体产品出现晶格缺陷和断线现象。     

电子级高纯气体过滤器研制成功

高纯气体中尘埃粒子的存在,不但严重影响了电子产品的质量,而且使电子元件制备工艺不稳定和成品率降低。因此,排除尘埃粒子对高纯气体的污染,是气体洁净技术中的一项必不可少的重要工作。为了满足电子工业的需要,1986年9月,北京市特种气体研究所承担了“七五”科技攻关项目高纯气体净化的研究。对于4.5N氧、4.5N氮、5.5N氩、5.5N氢5.5N、氦等5种电子级高纯气体,要求研制的过滤器能有效地控制尘埃粒子使对5微米(16K位)的电路,粒径>0.5     

《超纯气体制备、分析与应用》专集出版预告

伟大的无产阶级文化大革命和批邓、反击右倾翻案风的斗争,促进了我国工业建设和科学技术的蓬勃发展。当前,有关工业部门对超纯气体的需要愈来愈迫切。为适应社会主义工业化和国防现代化,特别是大规模集成电路发展的需要,我院刊物《国外稀有气体》 1976年第2期拟出版超纯气体制备、分析与应用专集。主要内容为超纯氦、氩、氢、氧、氮典型生产工艺,分析方法以及超纯气体的应用与使用常识。     

气相色谱法分析高纯气体的几个问题

前言随着新技木的发展,各领域对高纯气体的品种和质量要求愈来愈高,半导体微电子器件工业,电真空材料加工,各种金属的冶炼和处理,大规模集成电路的研究和生产,色谱等精密仪器用的载气、零点气、标准气的制备,金属有机化合物的合成,石油化     

半导体工业中气体的应用技术

在实现大规模集成电路和电路元件微型化的过程巾，低温过程和干燥过程是不可缺少的。作为实现上述目的的手段，陆续开发了减压下的薄片工艺，bing且进一步提高了对气体应用技术重要世的认识。本文以硅集成电路为例，对所用气体的种类、特性，以及气体的供应和控制系统作了扼要叙述。     

高纯气体输送管路的防污染措施

由于微粒污染对高纯气体的重要影响，本文从系统设计、材料选择、配管技术等方面介绍了控制微粒污染的方法。     

前进中的我国特种气体行业

前进中的我国特种气体行业梁国仑，申屠棠（化工部光明化工研究所大连４８１信箱１１６０３１）新材料对国民经济建设和国防建设起着关键的支撑作用，是当今科技发展最为活跃的领域之一。电子材料是发展电子工业的基础。电子气体作为电子信息材料之一，是集成电路制造必不...     

电子气研制国内、外概况及发展趋势

大规模和超大规模集成电路研制与生产过程中，需要使用多品种、高质量的特种气体。这些气体统称电子气。     

空气净化除菌的超滤膜

一、前言现今生活环境中,空气悬浮着尘埃、含有机物的雾滴微粒。工业弛放气和机动车辆排放尾气夹着氧化碳、氧化氮、硫化物和重金属铅等其他有害气体,污染了大气,这些不洁物严重影响人类的健康。对于精细加工工场,例如:制膜工艺、精细化工、电子工业和半导体加工业等,往往因为尘埃微粒导致产品不合格,因而有将空气净化的必要。此外,地球的空气、海洋和陆地都布满种类繁多的细菌,其重量总和超过动物界。在生物化学工程中往往利用某一种纯粹单一的菌种放入原料中,并在反应罐内繁殖增长,利用这种生化过程可产生另一种新的物质,与此同时需要不断输入纯净无菌的空气。在制药、发酵、酿造等反应罐的空气入口和气体排放口都要求滤去细菌。现代化粮食储存仓库和某些易于发酵霉烂物品的储槽,在灭菌后要定期输入低温的无菌空气。在无菌包装室正常运转程序中,也要用无菌空气通风。食物和其他对细菌敏感产物的气动输送也要求无菌的供气源。在食品工业、医疗和医药领域中,     

射频等离子体中尘埃空洞演化研究

本文利用实验过程中直接产生尘埃粒子的方法,实验气体是乙烯和硅烷,氩气是载气.在射频等离子体鞘层内形成尘埃云及尘埃空洞.通过观察尘埃云体积的变化及尘埃空洞随时间的周期振荡现象,分析尘埃空洞的基本性质,通过记录尘埃颗粒随时间的运动轨迹,初步推断出尘埃颗粒的受力情况,结合尘埃颗粒和尘埃空洞的运动规律,得出射频等离子体中尘埃空洞的特性及形成原因.     

尘埃粒子计数器标准粒子信号幅度分布统计分析

为了研究激光尘埃粒子计数器标准粒子信号幅度分布,对激光尘埃粒子计数器计数信号幅度分布与传感器光敏区光强分布、采样气流中的粒子数密度、气体层流速度分布之间的关系进行了理论分析.采用自设计的带保护气套的光电传感器测定粒子计数信号幅度分布,给出的分布模型与理论分析相吻合.结果表明,尘埃粒子计数器标准粒子信号幅度分布满足对数正态分布,描述其分布的参数σ只与光敏区光强的均匀性有关.这为尘埃粒子计数器的设计提供了理论依据.     

纳米粒子在气体流动中的团聚过程研究

采用气相合成法制备纳米微粉时，由反应合成区生成的纳米微粒在随气流流向收集装置的过程中，因相互碰撞，粘附而发生聚现象，形成较大的颗粒，本论述了团聚现象发生的原因，借用气体分子动力学理论，计算了纳米粒子在气体流动中的团聚过程，得到了粒子直径，质量，体积，微观热运动速度及空间密度的沿程分布函数。     

气体中微量水份的测定一露点法和氧化铝电容法

在半导体材料及电子器件生产中，要用到诸如氢、氮、氧、氩和氦等高纯气体，气体纯度严重影响产品质量。如氢，氮等气体及其流经的系统中的水份和氧，对硅及Ⅲ一V族化合物是极其有害的杂质。在硅外延工艺中，氢中水份达100vpm时，硅外延层会变成多晶结构。在MOS大规模集成电路的硅栅多晶薄膜工艺中，若稀释气体中含有微量水份，使多晶硅薄膜中夹有“氧化硅集团”，从而在刻蚀多晶硅薄膜时，造成多晶硅脱落，致使电学性能变坏。由上可知，对高纯气体及其流经系统中的微量氧和水份必须进行监测和控制。     

液化气体的微型过滤器

现在,在Messer Grishiem使用的Megabran过滤系统只能在气体状态下过滤液化气体。在法兰克福的空分装置中已将这种过滤系统成功地用于生产高纯无微粒气体。用两组串联的真空绝缘过滤器可有效地控制>0.1μm的微粒。采用Megabran系统