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1.
1984年,在日本发生了一起锗烷钢瓶爆炸事故。随后,日本有关部门对这次事故进行了全面的调查,并写出了调查报告。为了引以为戒,把调查报告的有关内容介绍如下。
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2.
在半导体制造过程中,使用哪些气体?这些气体有哪些性质?使用这些气体时婴注意哪些方面?本文将对这些问题进行简要说明。
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3.
为吸附除去三氯化硼中的硅化物,光气及氯化烃,在所用活性炭再生时,首先将该活性炭加热到40-120℃,回收从该活性炭脱附的以三氯化硼为主要成份的气体,接着,再把该活性炭加热到200~700℃。这就是BCl3吸附剂再生方法的特点。
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4.
本发明论述的是有关使充装在钢瓶中的纯度为99.999%及其以上的超纯气体或液化气体,为使其纯度不降低而保存,以及在间断或连续使用时,保持其纯度不变的方法。
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5.
日本的半导体制造业非常发达,它的电器产品在国际市场上具有相当的竞争力。因此,日本在半导体制造用气体的生产和经营方面也有一定的发展。那么,至今,日本到底有多少半导体用气的生产和经营厂家?它们各生产和经营哪些气体?搞清楚这些情况,对我们研究日本的气体行业概况,掌握其动态会有益处。
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6.
在我们低温中心,将液氮从中心贮槽充填到液氮容器中时,用数字电子秤控制充填量。这种方法特别适于充填密闭式容器,容器的最高充填量在“高压气管理法”中已有规定,但即使是非密闭式容器,也需要防止液体溢出。
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