TFT／PDP用真空成膜技术和设备

本文介绍了ＴＦＴ／ＰＤＰ用真空成膜技术和设备，主要介绍了ＴＦＴ用ＩＴＯ膜和ＰＤＰ用ＭｇＯ／Ｃｕ，Ｃｒ，Ａｌ膜的成膜技术和设备。     

CM-1型抄膜机的研制

本文介绍了环保型可食性包装膜制造设备--抄膜机的研制过程,并对该机进行成膜试验,表明其完全可用于可食包装膜的制造,且具有成膜参数可调、适用物料广泛的特点.     

气体分离用复合无机膜的制备技术

本文介绍了无机膜的制备原理。以溶胶－凝胶成膜技术和无电镀成膜技术对无机基质膜进行改性修饰，制成不同性能的无机复合膜，以满足不同的应用需要。详细描述了这两种成膜技术的工艺过程理论和控制参数。     

水溶胶流涎机成膜钢带的张紧与调偏设计研究

介绍了水溶性塑料薄膜成膜原理及生产工艺过程,并比较系统地论述了水溶性塑料薄膜流涎机成膜钢带的张紧与调偏设计原理及应用。     

铝合金稀土转化膜的碱性成膜工艺

用正交法得出了最佳成膜工艺Ｔ２／Ｔ７，并对该工艺的膜层耐蚀性进行了试验。结果表明：经该工艺处理后铝合金在ＮａＣｌ水溶液中的均匀腐蚀速度可降低９０％＿９５％；铝合金腐蚀的阳极过程受到明显阻滞，明显地改善了铝合金在氯化物介质中的耐点蚀性能。     

动态法制备复合膜的研究进展

介绍了动态膜的特点、分类、膜材料和载体、成膜过程和研究现状,重点阐述了采用动态法制备的三种复合膜:动态预涂膜、原液形成膜和动态聚离子复合膜的成膜过程和分离特性.通过对研究现状的总结分析,指出动态成膜具有广泛的应用前景,并展望了对于动态成膜的研究,今后应该关注的一些方面.     

ArF光刻胶成膜树脂研究进展

ArF曝光分为干式光刻和浸没式光刻，结合多重曝光技术，分辨率覆盖90～97nm,是芯片制造的主流工艺。ArF光刻胶要求透光率高(193nm波长处)、分辨率高、感度快、抗刻蚀性强、边缘粗糙度小及缺陷少，因此对成膜树脂提出了更高要求。目前报道的ArF光刻胶成膜树脂大致分为三类：(甲基)丙烯酸酯体系；环烯烃体系；马来酸酐体系。主要对三类成膜树脂进行了分类总结，并介绍成膜树脂结构的特点。     

咪唑啉类成膜缓蚀剂在亚临界面组停用保护中的应用

应用电化学、高压釜试验和XPS等手段，研究了一种用于热力机组停用保护的咪唑啉类成膜缓蚀剂，重点介绍了其在300MW亚临界机组中的应用情况，分析了实施过程中水汽质量变化的特点和趋势，讨论了应用中的一些问题及注意事项。结果表明，这是一种有效的停用保护方法。     

GT应随着技术的进步而发展

生产的发展和市场竞争推动着制造技术的进步和新技术的不断涌现，从而对ＧＴ这个“旧”生产哲理提出如何进一步研究、应用和发展的问题，本文就此讨论了ＧＴ与建立报价系统、并行工程及面向对象设计的结合问题，以说明ＧＴ必然会，而且应该随着技术的进步而不断发展和应用。     

面向工厂应用的KJCAPP

本文结合作者在工厂多年从事ＣＡＰＰ应用开发的经验和教训，用自主开发的应用系统为例，介绍了以ＧＴ应用为基础的ＫＪＣＡＰＰ的开发过程，以及这个系统的功能。     

耐热耐腐蚀聚苯硫醚粉末涂料

主要介绍了聚苯硫醚粉末涂料的特性、国内外研究现状和静电粉末喷涂技术,阐述了流变学在聚苯硫醚粉末涂料成膜过程中的应用,并对聚苯硫醚粉末涂料的发展前景进行了展望.     

重型车车桥水性漆涂装工艺

简要介绍了磷化成膜和水性漆成膜原理，重点介绍了车桥涂装材料和工艺设备，对提高载重车车桥涂装质量具有一定的指导意义。     

常温磷化过程中的开路电位-时间曲线以及成膜规律

目前,对常温磷化成膜机理及规律的认识十分有限,进而影响了常温磷化膜的开发和应用.通过测量常温磷化过程中磷化液的开路电位-时间曲线分析了成膜规律,采用扫描电镜(SEM)考察了成膜过程中磷化膜的形貌变化,测定了膜层的耐蚀性、孔隙率随成膜时间的变化,通过X射线衍射(XRD)分析了磷化膜的相结构.结果表明:常温磷化成膜过程主要...     

武钢RH—KTB设备及精炼技术

ＲＨ－ＫＴＢ是武钢从日本川崎制铁引进的一大产炉外精炼新设备新技术，本介绍了武钢ＲＨ－ＫＴＢ设备及工艺技术，特别是ＫＴＢ氧枪结构及喷嘴设计，讨论了与ＫＴＢ处理相适应的真空系统抽气能力设计，介绍了ＲＨ－ＫＴＢ在武钢的应用现状及进展。     

超细孔二氧化硅膜的制备研究

以正硅酸乙酯（ＴＥＯＳ）为原料，采用溶胶－凝胶技术在多孔陶瓷载体上制备出具有３．０ｎｍ孔径的ＳｉＯ２陶瓷膜。考察了制膜过程中ＴＥＯＳ、乙醇、水的相对量；酸碱催化和ｐＨ值；热处理温度及成膜助剂对膜性能的影响。在自制的单管膜分离器上，测定了Ｏ２、Ｎ２、ＣＯ２和ＣＨ４等气体在ＳｉＯ２陶瓷膜上的渗透性能。     

宇航材料国际标准化动向

介绍了ＩＳＯ／ＴＣ２０／ＳＣ１１（宇航材料及工艺）从成立到解散的变动过程，对ＩＳＯ／ＴＣ２０准备采用的“承认”现有宇航材料的新办法也做了介绍，此外，还介绍了ＩＳＯ／ＴＣ２０推荐的由ＮＡＴＯ编制的宇航材料标准等效性手册。     

离心沉积成膜法在AFM表征纳米粉体中的应用

研究了原子力显微镜在表征纳米粉体微观形貌中的应用,介绍了离心沉积成膜制备纳米粉末待测试样的方法。结果表明,与普通的沉淀成膜法制样相比,离心沉积成膜法以云母片为基底材料,在分散液中加入了凝聚剂,AFM表征结果表明,离心沉积成膜法使纳米粉体的微观形貌在测试中能更好地反映。该方法拓宽了原子力显微镜在表征粉末状样品微观形貌上的应用。     

航空钛合金及其制件的真空热处理

本文论述了国产航空钛合金的应用概况，着重介绍了ＴＣｌ，ＴＣ４，ＴＣ１１，ＺＴＣ４，ＺＴ３等合金的性能及其制作的部分航空零件的真空热处理工艺。     

最佳无损检测手段—工业CT技术的发展

介绍了工业ＣＴ的基本原理、系统组成、国外ＩＣＴ的发展情况，及我国ＩＣＴ研制现状。还重点介绍了ＸＮ－１３００型我国首台γ射线工业ＣＴ机的实际应用情况，是后提出了关于开发我国ＩＣＴ产业的对策建议和展望。     

液晶显示器用ITO透明导电膜技术现状

随着液晶显示器件产业的飞速发展，对作为平板显示器透明电极的ＩＴＯ导电玻璃的需求也日益增，由于ＬＣＤ正向大型化和高精细化发展，因而对ＩＴＯ膜的特性提出了许多新的更为严格的要求，本文综述性介绍透明导电膜制造中最常的ＩＴＯ膜磁控溅射成膜技术和设备以及靶的现状主。