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基于国内外多层片式ZnO压敏电阻器的研究及应用,介绍了多层片式ZnO压敏电阻器的结构(阵列及模块)、材料组成(ZnO—Bi2O3系、ZnO—玻璃系、ZnO—V2O5系及ZnO—Pr6O11系等)、电极材料、生产工艺(流延和电镀)等现状,并就多层片式ZnO压敏电阻器的工艺和技术发展趋势提出了见解. 相似文献
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多层片式ZnO压敏电阻器的现状与发展方向 总被引:6,自引:4,他引:2
基于国内外多层片式ZnO压敏电阻器的研究及应用,介绍了多层片式ZnO压敏电阻器的结构(阵列及模块)、材料组成(ZnO-Bi2O3系、ZnO-玻璃系、ZnO-V2O5系及ZnO-Pr6O11系等)、电极材料、生产工艺(流延和电镀)等现状,并就多层片式ZnO压敏电阻器的工艺和技术发展趋势提出了见解。 相似文献
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片式叠层压敏电阻器及其应用 总被引:1,自引:2,他引:1
用流延工艺把电极层和半导体陶瓷交错排布,经烧结而成的片式叠层压敏电阻器,其结构类似多层陶瓷电容器。通过与氧化锌压敏电阻器及其他压敏电阻器比较表明,片式叠层压敏电阻器具有优良的性能。并论述这类压敏电阻器在IC保护、CMOS器件保护、汽车电路系统保护等方面的应用。 相似文献
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介绍叠层片式ZnO压敏电阻器的性能特点和应用范围,论述了其对电路进行ESD保护的基本原理及其在高 线路中的最优化设置,指出其发展方向应为低电容和超低电容化。 相似文献
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叠层压敏电阻器的近期研制动向 总被引:2,自引:0,他引:2
从构成叠层压敏电阻器的生片材料(材料晶粒大小、生片厚度)、内电极材料、叠层结构和表面处理等方面,介绍叠层压敏电阻器的近期研制动向。 相似文献
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多层片式压敏电阻器及其应用 总被引:4,自引:0,他引:4
多层片式压敏电阻器已被广泛应用于IC保护,CMOS,MOSFET器件的保护以及汽车电子线路保护等方面,其生片材料,内电极组成,电极形状,叠层结构以及表面处理等也有很大的发展。 相似文献
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多层片式ZnO压敏电阻器内电极材料研究 总被引:3,自引:2,他引:1
把三种不同钯银比例的浆料用作多层片式ZnO压敏电阻器(MLCV)的内电极材料,并研究了它们对MLCV电性能的影响。结果表明:含钯内电极材料的压敏电阻的电性能,明显优于纯银内电极的压敏电阻。压敏电阻的限制电压与压敏电压比(Vc/V1mA)及漏电流(IL)随着钯含量的升高而减小;非线性系数(α)、峰值电流(Ip)及能量耐量(ET),随着钯含量的升高而提高。分析认为,随着内电极材料中Ag含量的升高,Ag+的扩散增加,导致晶粒电阻增加,即施主浓度(Nd)减少,势垒高度(■)升高,致使MLCV的电性能劣化。 相似文献
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ZnO-Bi2O3系MLCV内电极扩散现象的研究 总被引:2,自引:2,他引:0
为了确定Bi系MLCV的最佳烧结温度。借助于SEM直接观察、内电极间不同位置处的能谱分析及高斯扩散公式的拟合,研究了内电极的扩散过程,并测量了内电极扩散对MLCV电气性能的影响。发现烧结温度高于1040℃时,内电极的扩散较显著;Ag和Pd沿晶界扩散的扩散系数相同,约10–11cm2/s。以Ag/Pd为内电极的MLCV的最佳烧结温度为1000℃左右,在该温度下烧结的试样其非线性指数可达28。 相似文献
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Jianyong Ouyang 《Organic Electronics》2013,14(6):1458-1466
Electronic devices with an polystyrene (PS) layer blended with Au nanoparticles capped with conjugated 2-naphthalenethiol (Au–2NT NPs) sandwiched between Au and Al electrodes exhibit bipolar resistive switches sensitive to the electrodes. This paper reports the effects of materials, including electrode materials, capping ligands of Au nanoparticles and matrix polymers, on the electrical behavior of the polymer:nanoparticle memory devices. Although the devices using Cu to replace Au as the top electrode exhibit resistive switches similar to those with Au, the threshold voltage for the resistive switch is higher, and the current density for the devices in the low conductivity state is lower. However, the threshold voltage and the current density are almost the same as those with Au as the top electrode, when a semiconductor, MoO3, is used to replace Au as the top electrode of the devices. The effects of these electrodes are attributed to the charge transfer at the contacts between Au–2NT NPs and the electrodes. The resistive switches are also sensitive to the capping organic ligand of the Au nanoparticles. The threshold voltage decreases and the current density increases, when conjugated benzenethiol is used to replace 2-naphthalenethiol. However, the current density dramatically decreases and the threshold voltage increases, when 2-benzeneethanethiol, a partially conjugated molecule, is adopted as the capping ligand of the Au nanoparticles. The effect of the capping ligands is ascribed to their effect on the charge tunneling across the Au–2NT NPs in the active layer and the contacts between Au–2NT NPs and electrodes. The devices with poly(methyl methacrylate) (PMMA) replacing PS as the polymer matrix exhibit resistive switches almost the same as those with PS, which indicates that the Au–2NT NPs rather than the polymer is the active material responsible for the resistive switches. 相似文献
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