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CMP(Chemical Mechanical Polishing)设备是半导体集成电路(IC)制造中的关键设备,CMP设备控制软件的开发是CMP设备研发的关键技术之一。针对三工位CMP机床,自行设计开发了具有抛光压力在线监控、真空吸盘的真空度实时监测、抛光头及抛光盘变频电机转速和转向控制以及机床动作控制等功能的设备监控系统。采用面向对象的方法,给出了监控系统软件模块的划分方法,并对控制功能模块进行了类的封装,重点介绍了多视图通讯的实现以及利用OpenGL实现软件可视化的CMP软件开发关键技术。 相似文献
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通过介绍C++语言配合VerilogHDL来进行数字逻辑设计的模式,提出了一种由C++到Verilog来实现逻辑设计的崭新方法此方法从系统设计(虚拟机)入手,用C++来搭建所需要的系统模型,再由Verilog与C++的一致性转化,将软件设计精确地转化到硬件级上,使得逻辑设计向上可进行软硬件的联合仿真,向下能够实现物理级延伸通过该方法可有效地避免SOC设计中从系统到物理实现在转化过程中产生的逻辑不一致在简叙C++的语言特性后,将Verilog与C++进行了对比分析,给出了两种语言之间进行转化设计的实现方式结合数字信号处理器的设计,对此方法进行了设计应用,最终通过比对C++与Verilog两者的仿真数据文件,对两种层次系统描述进行了测试验证 相似文献
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设计了一种化学机械抛光设备(CMP)的底座系统,主要包括地脚、方钢管、大铝板等。针对CMP设备在使用中存在的噪声偏大,高转速下的电机转动引起的共振影响晶圆抛光质量问题,通过MSC Patran分析软件,对CMP的主要部件——底座系统,进行了振动模态分析,并在此基础上进行了以改变基频为目标的结构优化设计。 相似文献
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文章简述了系统各模块方案的论证与选择的相关内容。文中在对本系统的各个模块的方案进行论证与实际应用相比较的基础上,最终方案选用AT89C52作为主控制系统来控制时钟的准时运转,采用独立式按键控制本设计系统将要实现的全部功能,选用LCD液晶动态扫描来显示时间。并对系统的硬件设计与实现进行分析,同时,对系统的软件设计进行分析。 相似文献
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自动化药品存储控制系统的研制 总被引:1,自引:0,他引:1
根据药品仓储自动化设备所要达到的功能及其运行特性,研制了一种药品仓储物流控制系统。对该系统中主要的硬件设备的设计和控制软件的设计方法做了阐述,同时分析了整个控制系统的实现功能和方法。目前该系统已经开发完成,实验表明该系统运行效果良好,可靠性高。 相似文献
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太阳绝对辐照度测量系统中的太阳跟踪系统设计与性能测试 总被引:1,自引:1,他引:0
为实现高精度的太阳绝对辐照度观测,设计了视日运动轨迹跟踪和四象限探测器精密跟踪相结合的太阳自动跟踪系统.分析了四象限探测器的工作原理,对其均匀性进行了测试,确定了其偏离系数.对跟踪系统进行了硬件设计、控制软件设计和结构设计.实现了以C8051F064单片机为核心的数据采集、信号处理和反馈控制系统.在实验室内对系统的跟踪精度进行了测试,结果表明跟踪偏差在0.1°之内.经实际运行证明,该系统方案可行,具有稳定性强、精度高的优点. 相似文献
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对所设计的“小功率位置随动系统”的稳定性和稳态精度进行了分析研究,同时通过计算机对该系统进行仿真。仿真结果表明:用计算机来辅助分析和设计控制系统比手工或模拟分析计算方便,计算速度快。该控制软件不但可用来研究线性定常系统,分析系统参数变化对系统性能的影响,而且对非线性系统、时变系统等复杂系统也可进行分析和计算。 相似文献
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阐述了CMP抛光机抛光台的温度控制方法。用有限元软件ANSYS模拟了抛光台和循环水的热交换过程,并且分析循环水的流量和温度对热交换效率的影响,得出循环水流量和温度跟热交换效率的关系。根据它们之间的关系,设计了一种CMP抛光机抛光台温度控制系统和方法,通过有限元软件ANSYS模拟了该温度控制系统和方法的控制过程,模拟结果... 相似文献
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Matsuzaki S. Tanzawa A. Igarashi T. Suzuki T. Tokushige K. 《Semiconductor Manufacturing, IEEE Transactions on》2002,15(4):438-441
Chemical-mechanical polishing (CMP) has been widely used in semiconductor production for a certain length period, but the process control of CMP still has a number of issues to be resolved. The process control of CMP has not been well established. A good process model is essential to a successful CMP integration into mass production. This paper describes the development of a data logging network system for a CMP process. This system helps engineers build proper process control models. This system consists of the following entities: CMP process equipment, several analog/digital I/O devices built into the equipment, film thickness and scratch measurement instrument, particle measurement facility, and an infrared thermometer. All of these are connected with a local area network. 相似文献
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可编程序控制器实现三维工作台联动液压系统的控制 总被引:1,自引:1,他引:0
通过对液压机的三维工作台联动液压系统工作过程的分析,采用FX2N-64MR可编程序控制器,对原继电器-接触器控制系统进行技术改造,分析利用可编程序控制器设计控制系统的方法和步骤,实现对三维工作台联动液压系统的手动/自动控制;应用可编程序控制器控制后,降低了控制设备的故障率,提高了控制设备的可靠性和稳定性。 相似文献