新一代nm级集成工艺仿真工具——SenTaurus Process

介绍了新思科技(Synopsys Inc.)最新推出的新一代nm级IC制程工艺设计工具——Sen-Taurus Process的基本功能及其仿真领域,详细阐述了SenTaurus Process功能的拓展。对SenTau-rus Process增加的模型库浏览器(PDB)、一维模拟结果输出(Inspect)及二、三维模拟结果输出(Tecplot SV)工具进行了介绍。重点介绍了SenTaurus Process所嵌入的诸多小尺寸模型。     

新一代纳米级器件物理特性仿真工具——SenTaurus Device

介绍了Synopsys Inc.新近推出的新一代纳米层次器件物理特性仿真工具——SenTaurus Device的功能特点以及进行器件物理特性仿真的典型流程。重点介绍了为实现nm级器件物理特性的模拟引入的诸多近代器件物理模型。利用SenTaurus Device对基于Sentaurus Process生成的一个90nm NMOS器件进行了器件物理特性仿真,并给出了相应结果。     

小尺寸超高频双极晶体管工艺及特性模拟

基于通信系统中射频电路设计的特殊要求,对小尺寸(基区宽度低于100nm)、超高频(特征频率高于15GHz)双极晶体管工艺制程和器件的物理特性进行了模拟,为工艺线流片进行可行性研究。该器件采用BiCMOS制程结构实现,在对小尺寸、超高频双极性器件物理模型进行详尽分析的基础上,实现了该器件工艺级(Sentaurus Process)及器件物理特性级(Sentaurus Device)的仿真,提出TCAD工艺及器件的一体化设计方案。模拟结果表明,在高频指标参数17GHz下,所得β值接近于80,满足设计要求。     

文献与摘要(35)

一种提供好方案的可制造性设计流程 DFM:A Process to Provide Best Solutions 本文介绍了可制造性设计(DFM)的流程和运作方式,及其优点。在正式制作印制板之前的DFM可以使客户从技术上和制程能力上对PCB制造商充满信心,好的可制     

纳米级BiCMOS双极架构的可制造性设计

基于对小尺寸双极性器件特性的理论分析,对合理实现BiCMOS的架构模式进行了深入研究,完成了TSUPREM-Ⅳ与MEDICI接口的TCAD可制造性设计流程,实现了BiCMOS环境下集成化小尺寸器件管芯制程的全流程虚拟制造。器件基区宽度小于100nm,器件特性理想。     

华大九天联手MunEDA布局20nm设计移植优化方案

正20 nm节点将是半导体产业生态圈的分水岭和转折点,它不仅带来半导体设备、光刻技术、封测技术等领域的诸多挑战,更对电子设计自动化(EDA)工具提出了革新性的需求。2013年28 nm芯片呈现爆发式增长,更有少数厂商将在2013年进入22 nm和20 nm时代。而先进工艺IP的移植及设计优化遇到的诸多挑战,随着制造工艺愈加复杂,尤其进入到纳米工艺制程,且新产品上市周期越来越短,如何提高设计移植效率,缩短设计周期     

各大半导体巨头制程工艺发展近况解读

目前全球主要集成电路的制造厂家的制程已经发展到纳米(nm)级别,全球各大半导体巨头制程工艺在竞争中发展。毫无疑问,Intel是半导体工业的技术霸主,是先进制程技术的带头人。AMD是曾经的追随者,与格罗方德合作后又转向三星。台积电在GPU领域有崇高地位,能否再创辉煌,业界拭目以待。三星14nm Fin FET的规模化量产,使得三星成为全球半导体领域的新霸主。制程工艺的极限将推动集成电路制造技术产生革命性创新。     

亚100纳米级标准单元的可制造性设计

本文介绍了亚100纳米工艺可制造性验证的一组工艺仿真和错误定位技术,制定了标准单元可制造性设计(DFM,Design For Manufacturability)的流程,重点讨论了在亚100纳米工艺条件下标准单元设计中遇到的一些典型可制造性问题,提出了相应的新设计规则和解决方案.依靠以上DFM技术方法,完成了实际90nm工艺标准单元可制造性设计工作.     

超深亚微米可制造标准单元库设计

当集成电路的特征尺寸下降到100nm以下,可制造性设计就变得尤为重要。本文提出了一种65nm可制造性标准单元库的设计方法。通过精简基本单元的数量,降低光学矫正的时间和空间复杂度;利用DFM设计规则和光学模拟仿真对每个单元的版图进行优化以提高整个单元库的可制造性。应用该方法实现的标准单元库在时序,功耗,面积方面与传统标准单元库相比具有很好的性能,并且通过Foundry的TD部门65nm工艺线的可制造性测试,有利于65nm工艺生产良率的提升。     

三星2011年下半推出20nm级制程DRAM

<正>三星电子(Samsung Electronics)2011年将致力于提升DRAM存储器半导体制程技术水平,再拉大与其它竞争业者间差距。三星半导体事业部专务赵南成表示,2010年采用30 nm级制程制造     

MATLAB 在"过程控制系统"教学中的应用

过程控制是工业自动化的重要分支。"过程控制系统"是自动化专业的主要专业课程之一,通过本课程的学习,使学生掌握过程控制系统分析、设计的基本方法和技术。如何有效地提高学生学习《过程控制系统》课程的积极性、主动性,培养学生的实践能力,提高教学质量已成为该课程教学研究的重要课题。控制系统分析与设计是MATLAB成功应用的领域之一,本文介绍了MATLAB在《过程控制系统》教学中的应用体会,重点讨论了基于Simulink的对象特性求取、单回路控制系统调节器参数整定的方法。几年来的教学实践表明,应用MATLAB对控制系统进行分析与设计,能有效地提高学生分析问题、解决问题的能力,提高教学质量。     

工艺综合与响应表面法的应用

工艺综合是一种自顶向下的工艺、器件设计方法.MOSPAD软件系统是基于工艺综合的思想开发的工艺与器件辅助设计工具.本文通过使用MOSPAD系统,对工艺改进中的实际问题采用工艺综合的方法,确定正确的工艺条件.在工艺综合系统中使用响应表面法加快其综合的速度,并利用响应表面模型以分析工艺窗口造成的灵敏度问题.     

面向对象的模糊过程控制软件开发工具研究

运用面向对象的程序设计思想和方法，对模糊过程控制软件开发工具（ＦＰＣＳＤＴ）进行分析与设计，给出了ＦＰＣＳＤＴ的面向对象分析模型和面向对象设计模型。应用ＦＰＣＳＤＴ可大大提高模糊过程控制系统设计质量，缩短设计时间。使用该方法对７５ｔ／ｈ循环流化主档锅炉燃烧控制系统进行了仿真研究，结果令人满意     

IC生产质量监控要素

本文讨论了集成电路生产中监控质量的主要因素。内容覆盖工艺开发、设计验证、工艺变更的管理、设备维护、在线检测/监控,以及PCM等。重视FAB厂与设计公司技术信息的交流,加强设计和工艺之间的沟通,保持关键工艺参数的稳定,必将显著提高IC产品的质量。     

Process Engineering for the Alliance Partners

A pragmatic business process modelling methodology has been developed and demonstrated within BT's Alliance Partners for the efficient design, storage and publication of business processes and procedures. The methodology is based on the use of a proprietary business modelling tool called System Architect/Business Process Re-engineering (SA/BPR) from Popkin Software & Systems Inc, but has also made extensive use of advanced HTML functionality for the publication of the model on company intranets.The objectives of the team were to improve the quality of process design, reduce the time taken to deliver designs, to improve communications between members of the process community and to develop a link with the systems and data areas. This paper describes the history and current status of the methodology, the use of the methodology in BT's Swiss Joint Venture sunrise, and proposes how this might now be used more widely within BT and its Alliance Partners.     

快速热处理设备温度稳定性研究

以快速热处理设备对温度控制的特殊要求为研究目的，研究温度热惯性对温度稳定性的影响，目的是为解决芯片快速退火和快速合金的稳定性和可靠性，并为设计新快速热处理设备提出串级控制建议。     

“生产过程控制及应用”实践课教学探讨

本文针对工程硕士专业学位侧重于工程应用及二年学制的特点,在安排"生产过程控制及应用"课程教学时,以现场模拟工厂的工业过程控制A3000高级过程控制实验系统为平台,让学生独立进行某一项目的设计、运行及结果的分析与讨论。新的教学方式加深了学生对书本知识的理解和深化,使学生的系统能力、综合能力和创新能力得到锻炼和提高。     

An AlGaN/GaN HEMT-Based Microstrip MMIC Process for Advanced Transceiver Design

A MMIC process in AlGaN/GaN technology for advanced transceiver design has been developed. The process is based on microstrip technology with a complete model library of passive elements and AlGaN/GaN HEMTs. The transistor technology in this process is suitable for both power and low noise design, demonstrated with a power density of 5 W/mm, and an ${rm NF}_{min}$ of 1.4 dB at $X$ -band. Process stability of subcircuits, complementary to power amplifiers and LNAs, in a transceiver system have been investigated. The results indicate that an all AlGaN/GaN MMIC transceiver is realizable using this technology.