电弧离子镀锐钛矿型TiO2薄膜光催化降解苯酚

采用电弧离子镀法在普通玻璃表面制备透明的TiO2薄膜,用AFM、XRD对TiO2薄膜表面进行了表征,结果表明未经退火的薄膜主要以非晶态型存在;经过500℃退火后,纳米TiO2薄膜主要为锐钛矿结构.研究了纳米TiO2薄膜对难降解的有机物苯酚进行了研究,半小时就降解了30%,经500℃退火后的纳米TiO2薄膜光催化性能更为显著.     

锐钛矿型二氧化钛薄膜制备及其光催化性能研究

在室温下采用直流磁控反应溅射法制备纳米TiO2薄膜,用XRD、XPS等手段对未退火及不同退火温度处理的薄膜进行了研究,以紫外灯为光源对亚甲基兰进行了光催化降解试验.结果表明:室温制备未退火的薄膜为非晶结构,400～500℃退火的薄膜为锐钛矿相结构.制备的锐钛矿型TiO2薄膜具有一定的光催化性能,在500℃退火2 h且厚度较大的薄膜光催化性能较好.     

磁控溅射制备纳米TiO2薄膜光催化降解苯酚的研究

采用射频磁控溅射方法分别在玻璃、A1片和ITO玻璃上制备出性能优良的TiO2纳米薄膜,研究了薄膜光催化性能.通过XRD、SEM和UV-Vis吸收光谱对薄膜进行表征,研究了不同退火温度和不同衬底对薄膜光催化性能的影响.结果表明:薄膜经500℃退火处理,TiO2由非晶转变为锐钛矿结构,并且退火后薄膜的紫外吸收波长发生红移,光催化降解性能提高;比较玻璃、ITO玻璃和A1为衬底制备的TiO2薄膜,以A1片为衬底的TiO2薄膜,由于形成Schottky势垒,光催化性更好.     

多晶纳米ZnO薄膜的溶胶-凝胶法制备及光催化性能研究

在石英玻璃衬底上用溶胶-凝胶法制备了纳米级的多晶ZnO薄膜,通过XRD、AFM和UV-Vis吸收光谱对薄膜进行了表征;以苯酚作为被降解的物质,研究了退火温度、降解温度、苯酚溶液的初始浓度和空气流量对ZnO薄膜光催化降解苯酚性能的影响,以及其光催化活性的失活与恢复.实验结果证明,溶胶-凝胶法制备的纳米级ZnO薄膜光催化效果显著,并且可以再生.     

含有氧空位的氮掺杂TiO2纳米材料的制备及其光催化性能

以钛酸四正丁酯为钛源,浓氨水为沉降剂和氮源,采用水热法制得含有氧空位的氮掺杂二氧化钛(TiO2)纳米材料,并考察了水热温度对材料结构及光催化性能的影响.采用多种技术手段对纳米TiO2的晶型、形貌、结构和表面特性进行表征;并以苯酚为目标污染物,通过对苯酚的去除率和矿化率评价上述TiO2纳米材料的光催化降解苯酚的性能及完全...     

反应溅射掺碳二氧化钛(TiO2-xCx)薄膜可见光激发的亲水性和光催化特性研究

采用气体反应磁控溅射方法350℃基底温度制备的碳掺杂TiO2-xCx薄膜为样品,测试其可见光激发的亲水性能和光催化特性,并与纯TiO2薄膜的情况进行了比较.研究发现:用模拟太阳光疝灯的照射TiO2-xCx薄膜5min,水的接触角就降低到3°,同样条件TiO2薄膜降低12°;TiO2-xCx薄膜只需要30min的照射,水的接触角接近到0°,而TiO2薄膜需要45min才能达此效果.在苯酚降解实验中,碳掺杂TiO2-xCx薄膜和纯TiO2薄膜在紫外波段有相当的光催化活性,但在可见光波段,前者表现出显著的可见光响应的光催化活性,用模拟太阳光疝灯的照射5h,TiO2-xCx薄膜对苯酚的降解率达到了41%,而TiO2薄膜仅为27%.     

铁掺杂TiO2纳米粉的制备、表征及其光催化活性

以钛酸丁酯为前驱体,硝酸铁为杂质添加剂,利用溶胶-凝胶法制备了掺铁TiO2纳米粉.以苯酚水溶液的光催化降解反应为探针,评价了掺铁TiO2的光催化性能.借助X射线衍射分析(XRD)、荧光光谱(FS)、热重-差热分析(TG-DTA)等手段对掺铁TiO2催化剂进行了表征.结果表明,掺杂浓度和焙烧温度对掺铁TiO2纳米粉的光催化降解活性有很大影响.掺铁0.5%、煅烧温度为400 ℃的催化剂表现出最佳的光催化活性,在苯酚的降解中催化效率比未掺杂TiO2纳米粉约提高了1倍;并初步探讨了荧光强度对光催化活性的影响.     

退火温度对纳米TiO2薄膜结构和亲水性的影响

采用射频磁控溅射方法制备出纳米二氧化钛(TiO2)薄膜,研究了不同退火温度对薄膜微观结构和超亲水性的影响.结果表明:退火温度升高,晶粒长大,孔隙率减小;常温制备300 ℃以下退火的TiO2薄膜为无定形结构,亲水性差;400 ℃～650 ℃退火的薄膜为锐钛矿结构,表现出超亲水性;800 ℃退火薄膜为金红石结构,亲水性有所下降.     

TiO2纳米颗粒的制备及光催化降解甲醛的研究

本工作系采用溶胶-凝胶法合成TiO2颗粒的平均粒径为20mm，电子衍射环图结果表明TiO2颗粒晶体结构为锐钛矿型，在光催化反应系统中对上述TiO2颗粒制备的薄膜进行了甲醛的光催化降解实验，考察了TiO2颗粒制备的薄膜的层数，溶胶体系pH值，活化温度及活化时间等条件对TiO2薄膜光催化降解甲醛性能的影响。实验结果表明，溶胶-凝胶法的制备工艺条件对TiO2薄膜的光催化不知性有着较大的影响，活化的温度和活化的时间影响最大，其次就是溶胶体系的pH值，当pH=2，活化温度为500℃，活化时间5h，制成的TiO2薄膜光催化降解甲醛的降解率可以达到60%以上。     

影响二氧化钛薄膜晶体结构的因素及研究进展

近年来,TiO2功能薄膜以其卓越的性能,尤其是优异的光催化性能,引起了国内外广泛关注.针对纳米TiO2功能薄膜气相沉积制备方法中影响TiO2薄膜结构的关键因素(如基体温度、退火温度、基片种类、氧分压、掺杂等)进行了系统总结,并介绍了其研究进展.     

蝴蝶结状TiO2纳米粒子的制备及其光催化性能研究

以四甲基氢氧化铵（TMAOH）为结构导向剂,钛酸四丁酯（Ti（OBu）4）为钛源,低温水浴处理,再经180℃下水热晶化制备纳米TiO2,采用FT-IR、XRD、TEM、UV—Vis等测试手段对其结构和形貌进行表征,并通过苯酚的光催化降解实验测试其光催化性能,结果表明,TiO2为锐钛矿相,结晶度高,所得TiO2粒子为纳米棒,界面清晰,规整度高,经紫外光照6h后,对苯酚的降解率可达62．3％,具有较高的光催化活性。     

Photocatalytic Property of TiO2 Films Deposited by Pulsed DC Magnetron Sputtering

TiO2 thin films were prepared by DC magnetron sputtering with the oxygen flow rate higher than the threshold. The film deposited for 5 h was of anatase phase with a preferred orientation along the <220> direction, but the films deposited for 2 and 3 h were amorphous. The transmittance and photocatalytic activity of the TiO2 films increased constantly with increasing film thickness. When the annealing temperature was lower than 700℃, only anatase grew in the TiO2 film. TiO2 phase changed from anatase to rutile when the annealing temperature was above 800℃. The photocatalytic activity decreased with increasing annealing temperature.     

等离子体基离子注入制备TiN膜的成分结构

采用Ti、N等离子体基离子注入和先在基体表面沉积纯钛层然后离子注氮混合两种方法在铝合金基体上制备了TiN膜.利用XPS分析了两种方法制备TiN薄膜的成分深度分布和元素化学价态,并用力学性能显微探针测试对比了TiN膜的纳米硬度.研究表明:两种方法制备的薄膜均由TiN组成,Ti、N等离子体基离子注入薄膜中Ti/N≈1.1,而离子注入混合薄膜中Ti/N≈1.3,Ti、N等离子体基离子注入薄膜表面区域为TiN和TiO2的混合组织,TiN含量多于TiO2,离子注入混合薄膜表面主要是TiO2;Ti、N等离子体基离子注入所制备的薄膜的纳米硬度峰值为12.26 GPa,高于离子注入混合的7.98 GPa.     

Ni掺杂TiO2薄膜的甩胶喷雾热分解法制备和自清洁性能的研究

以钛酸丁脂（Ti（C4H9O）4）为先驱体,硝酸镍（NiNO3）为掺杂物,采用甩胶喷雾热分解方法在玻璃衬底上制备出了镍掺杂TiO2自清洁薄膜,通过扫描电镜（SEM）、X射线衍射（XRD）、紫外-可见透射光谱（UV-Vis）、光催化和亲水性能测定等手段对样品进行分析,结果表明,500r/min为理想衬底转速,350℃是理想的衬底沉积温度,500℃是理想的样品退火温度。随着镍掺杂量的不断增加,TiO2薄膜的亲水性能也越好,当镍掺杂量达2%-3%时,TiO2薄膜的亲水性能达到最好。     

Texture and sheet resistance of Al alloy thin films on Ti and TiN thin films

Ti films prepared by ionized physical vapor deposition (I-PVD) and TiN films prepared by metalorganic chemical vapor deposition (MOCVD) were examined as the underlayers of the Al interconnect films. The crystallographic texture of the Al films and the sheet resistance of the thin-film stacks were investigated at various thicknesses of the Ti or TiN thin film. The sheet resistance of the thin-film stacks was also measured after annealing at 400 °C in an N₂ ambient. For the I-PVD Ti underlayer, the excellent texture of the Al (1 1 1) was obtained even on a 5-nm thick Ti film. However, the sheet resistance of the multilayer structure increased after the annealing due to the reaction between Al and Ti. MOCVD TiN layers between the Ti film and the Al film could suppress the Al–Ti reaction without severe degradation of the Al (1 1 1) texture. Excellent texture of the Al film was obtained with thin MOCVD TiN films below 5 nm.     

Ti/A1N快速退火界面反应的实验研究

在电子封装用的A1N陶瓷多晶衬底上生长250nm的Ti膜，并进行快速退火。用RBS（卢瑟福背散射）、AES（俄歇电子能谱）、SIMS（二次离子质谱）和XRD（X射线衍射）等实验技术对界面反应进行了分析研究，用划痕实验测量了退火对Ti／A1N界面粘附力的影响。实验结果表明：快速退火时，Ti，A1，N以及A1N中掺杂的O均发生明显的界面扩散和界面反应。样品表面的O和A1N衬底中掺杂的O都向Ti膜中扩散，在较低的退火温度下生成TiO2；在较高的退火温度下与扩散到Ti膜中的A1反应，在Ti膜中间形成Al2O3层。N向Ti中扩散，并与Ti反应生成TiN。在薄膜和衬底之间有Ti的氧化物生成。粘附力的测量结果表明：在较低的温度下进行快速退火可以明显提高Ti／A1N界面的强度，在较高的温度下，界面强度有所下降。     

稀土掺杂TiO2光催化材料的制备和性能

采用溶胶-凝胶法制备了5种稀土（Pr、Nd、Sm,Eu、Dy）掺杂TiO2光催化薄膜,研究了稀土掺杂量,镀膜层数、烧结温度和烧结时间对光催化活性的影响．结果表明,各因素对材料的催化活性均存在一最佳值．薄膜中仅含TiO2而未见稀土氧化物,除掺锴TiO2薄膜完全由金红石相组成外,其余均由锐钛矿相和金红石相的混晶组成,其中金红石相所占比例较大,薄膜表面均存在大量缺陷;稀土掺杂TiO2薄膜对罗丹明B的光降解率可达89．3％．稀土掺杂TiO2显著提高了TiO2对可见光的响应能力,提高了材料的光催化活性．     

磁控溅射制备掺银TiO2薄膜的光催化特性研究

利用交流磁控溅射设备采用金属Ti靶在石英和硅衬底制备掺银TiO2薄膜,并利用SEM,XRD及吸收光谱等方法分析测试TiO2薄膜的性质,探讨了掺银对TiO2薄膜吸收光谱的影响.并通过对甲基橙溶液浓度变化研究了掺银TiO2薄膜光催化特性,分析了掺银对TiO2薄膜增强光催化作用的工作机理,研究结果表明掺银有利于TiO2薄膜对有机物的降解作用.     

Preparation and characterisation of TiO2 nanoparticle and titanate nanotube obtained from Ti-salt flocculated sludge with drinking water and seawater

This study aimed to prepare and characterise titanium dioxide (TiO2) nanoparticles and titanate nanotubes produced from Ti-sat flocculated sludge with drinking water (DW) and seawater (SW). The Ti-salt flocculated sludge from DW and SW was incinerated at 600 degrees C to produce TiO2 nanoparticles. XRD results showed that the anatase TiO2 structure was predominant for TiO2 from DW (TiO2-DW) and TiO2 from SW (TiO2-SW), which were mainly doped with carbon atoms. Titanate nanotubes (tiNT) were obtained when TiO2-DW and TiO2-SW were hydrothermally treated with NaOH solution. Structure phase, shape, crystallisation and photocatalytic activity of tiNT were affected by the incineration temperature and the amount of sodium present in different tiNT. The tiNT doped with thiourea incinerated at 600 degrees C presented anatase phase, showing a high increase of the degree of crystallisation with nanotube-like structures. The photocatalytic activity of these photocatalysts was evaluated using photooxidation of gaseous acetaldehyde. Thiourea doped tiNT-DW and tiNT-SW showed similar photocatalytic activity compared to commercially available TiO2-P25 under UV light and indicated a photocatalytic activity under visible light.     

离子束辅助沉积制备TiO_2-Nb_2O_5氧敏薄膜

采用离子束辅助沉积方法在Ａｌ２Ｏ３陶瓷衬底上制备了ＴｉＯ２Ｎｂ２Ｏ５氧敏薄膜。考察了薄膜组分比及退火温度对薄膜氧敏特性和结构的影响。电阻氧分压特性测试结果表明，纯Ｎｂ２Ｏ５薄膜的氧敏特性优于纯ＴｉＯ２薄膜；掺入少量的Ｔｉ可使Ｎｂ２Ｏ５薄膜的氧敏特性提高，以５ｍｏｌ％ＴｉＯ２掺杂的Ｎｂ２Ｏ５薄膜最佳；过量掺杂则使Ｎｂ２Ｏ５薄膜的氧敏特性明显变差。在５ｍｏｌ％ＴｉＯ２Ｎｂ２Ｏ５薄膜中再掺入少量的Ｐｔ（０３％０５％）可使其氧敏特性更好，而且其响应时间大大缩短。Ｘ射线衍射谱（ＸＲＤ）和Ｘ射线光电子谱（ＸＰＳ）分析表明，在退火后的ＴｉＯ２Ｎｂ２Ｏ５薄膜中Ｎｂ２Ｏ５为单斜（Ｍｆｏｒｍ）结晶相，而掺杂的Ｔｉ以非晶的ＴｉＯ２形式存在，即使在高达３４ｍｏｌ％ＴｉＯ２Ｎｂ２Ｏ５薄膜中也不例外。纯ＴｉＯ２膜为金红石结构。不同退火温度（９００１１０００Ｃ）对薄膜的氧敏特性和结构无明显影响。