铸造铝合金化学转化膜及其性能测试

介绍了ZL10 4合金化学转化膜的特点。实验研究了一步氧化法成膜机理、工艺及膜的抗蚀性能。通过试验获得了处理效果较好的溶液配方和工艺参数 ,经CASS试验和SL12 87恒电位仪阳极极化曲线的测绘 ,测出其平均腐蚀速率为 0 .4 871g/h·m2 。可见 ,一步氧化法生成的化学转化膜具有较好的抗蚀性能。     

发光多孔硅的制备及其电化学成膜机制研究

研究了阳极氧化法制备多孔硅的工艺，表面形貌及电化学成膜机制。     

TiO2薄膜上电沉积四氨基酞菁钴及其表征

为了寻找酞菁在TiO2上成膜新方式,我们用阳极氧化法在TiO2薄膜上成功制备了四氨基酞菁钴薄膜,对酞菁薄膜进行了SEM,XRD,UV-vis表征,并在成膜前后对四氨基酞菁钴分别进行了电化学性能表征.     

Sol-gel法制备铁电陶瓷厚膜的研究

综述了基于Sol-gel技术的铁电陶瓷厚膜的制备方法.分别从溶胶、热处理工艺和成膜技术等3个方面详述了粉末溶胶法、添加有机物溶胶法等改进的溶胶法,一步烧结法、快速成膜法等改进的热处理工艺法以及界面聚合术等新型的成膜技术,讨论了这些制备陶瓷厚膜方法的优缺点,并对基于Sol-gel技术陶瓷厚膜的制备这一研究领域进行了展望.     

稀土Nd掺杂纳米SnO2薄膜特性

对采用真空气相沉积法在玻璃衬底上制备的稀土Nd掺杂的SnO2薄膜,进行结构、电学及光学特性的测试分析.实验表明:氧化、热处理条件为500 ℃、45 min时样品性能好.采用一步成膜工艺法制备的SnO2薄膜晶粒度较小,随掺Nd浓度的增大,从31.516 nm减小到25.927 nm;两步成膜工艺法制备的SnO2薄膜晶粒度随掺Nd浓度的增大,从45.692 nm增至66.256 nm.XRD分析,掺Nd(5 at%)薄膜沿[110]、[101]晶向的衍射峰加强,薄膜呈多晶结构.掺Nd可使薄膜透光率下降,而薄膜的薄层电阻随热处理温度升高和掺Nd浓度的增大,呈先降后升趋势.     

镁合金环保型阳极氧化成膜工艺

利用正交试验对AZ9D压铸镁合金环保型阳极氧化成膜工艺进行了研究，结果表明，环保型阳极氧化成膜工艺能在镁合金上形成银灰色的氧化膜层，其耐腐蚀性与结合力接近于传统含铬工艺DOW17所形成的膜层，阳极氧化膜主要由MgAl2O4组成，为不规则多孔结构，其孔径比铝合金阳极氧化膜孔径大得多，在成膜过程中，阳极氧化电压和成膜剂是影响氧化膜性能的主要因素。     

电解液参数对铝合金微弧氧化的影响

在氢氧化钠、铝酸钠、磷酸二氢钠体系电解液中用微弧氧化法制备铝氧化膜，并得到了电解液温度、浓度及氧化时间对铝氧化膜成膜的关系曲线。微弧氧化工艺处理后氧化膜的厚度可达80μm以上，显微硬度可达1560HV。用X射线衍射（XRD）和扫描电镜（SEM）分析，观察了氧化膜层相结合和表面形貌。通过耐腐蚀试验可知，由微弧氧化制备的氧化膜有很好的耐腐蚀性。     

氧化石墨烯/聚乙烯醇复合膜的性能研究

通过化学氧化法制备了氧化石墨烯(GO),采用溶液共混法和流延成膜法制备了氧化石墨烯/聚乙烯醇(GO/PVA)复合膜。采用红外光谱、X射线衍射、水蒸汽透过仪和高阻计研究了复合膜的结构、水蒸汽透过性和电性能,并对复合膜的溶解性进行了研究。结果表明:当GO在PVA中的固含量达到4%(质量分数)时,GO/PVA复合膜的结晶度最高,水蒸汽透过率达到最低值,耐溶解性最好。     

甲胺-铁氰化钾抛光液中铜钝化成膜的机理研究

用电化学循环伏安测试技术研究了铜在甲胺铁氰化钾抛光液中钝化成膜的机理。通过大幅度改变电位扫描速率,分析了氧化峰电流(IApa)、氧化峰电位(EApa)及阳阴峰电流的比值(IApa/IApc)与相应电位扫描速率的关系。结果表明,氧化峰电流和氧化峰电位均与电位扫描速率的平方根成线性关系,说明成膜复盖度θ与电位扫描速率无关,成膜过程符合M櫣ller模型。成膜过程中,电极反应存在后置化学转化,铜在去极化剂作用下发生失去一个电子的阳极溶解反应,然后再进行化学转化反应生成Cu4[Fe(CN)6]钝化膜。在CMP过程中,具有这种钝化膜的铜的腐蚀电流密度及抛光速率随抛光转速的增加而增大。     

镁合金摩托车轮毂微弧氧化的成膜机理及膜层的耐蚀性能

为了获得较高质量的微弧氧化膜层,采用脉冲微弧氧化技术在碱性硅酸盐溶液体系中对AM60B镁合金摩托车轮毂进行微弧氧化,利用SEM、XRD、金相显微镜和盐水喷雾等方法研究了氧化成膜的过程和所得陶瓷层的耐蚀性能,分析了陶瓷层的厚度、致密层和疏松层等之间的关系以及膜层的成膜机理,获得最优微弧氧化电解液成分及工艺参数：9g／L硅...