70mm间歇式高速摄影机抓片机构与输片力分析

介绍了用于70mm间歇式高速摄影机的双联曲柄摇杆式抓片机构的运动特性及其参数，并从功能角度提出了抓片机构新的设计思想，以适应高速、大画幅距的输片。     

高速摄影机抓片机构的动平衡计算

目前,改善高速摄影机抓片机构的动力特性,动平衡质量,结构性能三大指标是提高摄影频率的主要途径.为此,本文着重研究了高速摄影机中曲柄摇块机构的动平衡方案及计算方法,并对该机构平衡前后的动力分析结果进行了比较,证明了平衡方案的合理性和可行性,旨在改善抓片机构的各项性能指标,以期达到提高摄影频率的目地.     

空间相机输片系统设计

定量间歇输片系统是空间相机的重要组成部分之一，此系统要求完成供片、输片、收片任务，工作期间可依据需要进行单张或连续数张输片摄影。文中主要介绍了采用定量输片和带有张力控制的输片系统的设计，从定量输片机构的供、收片量片辊的运动特性出发，分析片带的运动特性，研究了输片力的变化规律，以此为依据进行张力感测与张力控制机构的设计，同时阐述了在设计中采取的一系列防止划片的技术措施。最后的实验结果表明，该设计满足空间相机对传输胶片的使用及精度要求。     

基于FluidSIM-P的极片检测气动控制系统

基于气动控制技术与仿真技术开发了极片检测自动送料机构的气动控制系统,根据在线检测极片的节拍式送料工作原理,利用FluidSIM-P软件设计及优化了自动送料机构的气动回路,并设计了PLC控制系统,实现了自动送料机构的可靠控制。目前该设备已投入使用,在极片的自动检测中取得了很好效果。     

全自动粘片机机构和设计指标探讨

文章重点论述了全自动粘片机的粘片机构和设计指标,对于出现的误差进行了分析评价以及设计能达到的产率.     

单片微机电子送经机构

本文针对国内仍在使用老织机的现状,从织机改造的角度出发,利用单片微机作控制器,在K252丝织机上研制了一台电子送经机构.该机构具有四种功能:①手动送经;②手动卷经;③正常自动送径;④保护功能,其最大优点就是机构简单,反应迅速,抗干扰性强,尤其适用于高速织机.     

输片系统中胶片张紧技术的研究

针对胶片式航空遥感器输片系统的要求,设计了一种胶片张紧机构,实现工作过程中顺利输片。胶片的张紧机构由结构系统和电控系统共同完成,在钢带辊内部有弹簧,在弹簧力的作用下拉动张力辊在导轨上灵活移动,电控系统通过控制力矩电机提供动力,与钢带滚形成一对平衡力,实现对胶片的张紧。本文完成了胶片张紧机构的设计,对张紧弹簧的参数进行了计算,给出了张紧机构平衡的控制原理和控制动态曲线。     

一种新型电磁控制扭簧离合器在量片系统中的应用

介绍了一种用于实现航空相机间歇等量量片功能的新型离合器.从该机构的间歇等量量片要求出发,提出了一种利用控制扭簧直径变化来实现传动的离合器,并通过电磁控制间实现0.3s的高效控制.通过控制电磁控制阀的接通和断开来控制离合器的一个工作周期动作一次,达到间歇等量量片的目的.此方法具有稳定性好,量片精度高,响应时间短,过载时不会打滑等特点,为胶片相机提供了一种切实可行的间歇等量量片机构.通过量片试验,进行误差分析,满足每幅胶片127±0.3mm的要求.     

一种平行片簧结构扫描测头的研制

针对凸轮轴及曲轴测量的实际需要,设计了一种一维扫描测头,建立了测头的力学理论模型,并重点研究其核心部件平行片簧机构的受力变形理论,推导完善了平行片簧机构的变形公式.定量分析了影响测头测量精度的因素,找出误差产生的根源.以凸轮轴测量仪为实验平台完成了测头的性能实验,采用VDI-3441评价标准得到测头的重复定位误差为1.72μm.     

机车闸片性能检测装置设计

对列车安全减速或停车的重要装置——检测装置的机械机构进行了设计分析,尤其是对惯性飞轮组的设计以及对飞轮组的组装提出的设想,同时设计出整个装置的控制检测系统.该检测装置的设计实现以PLC为基础的组态监控系统,提高了机车闸片检测系统的准确性和稳定性,并提供了较好的人机界面,从而达到设计要求.     

滚动轴承式行星摩擦传动弹流研究

运用弹性流体动力润滑理论推导出了滚动轴承式行星摩擦传动润滑最小油膜厚度公式.根据公式作出了最小油膜厚度与转速的关系曲线和最小油膜厚度与球径的关系曲线,由关系曲线得出:转速越高和选用较大的轴承直径系列,均有助于油膜的形成.     

氧化锆球体上的铝膜机械球磨法制备及工艺研究

在氧化锆球体上用机械球磨法制备铝膜,采用SEM和EDS观察铝膜的显微形貌及成分,分析了铝涂层的形成过程,运用L9（3^4）正交试验研究了球磨时间、球磨转速和球料比等工艺参数对膜厚的影响规律。结果表明：球磨转速、球磨时间、球料比影响膜厚的极差依次减小;以球磨时间10h、转速250r／min、球料比7：1参数制备的铝膜最厚,达到了50μm,且铝膜结构较致密,含氧量低、纯度高,与氧化锆球体机械结合良好。     

Lubrication in strip cold rolling process

A lubrication model was developed for explaining how to form an oil film in the deformation zone, predicting the film thickness and determining the characteristics of lubrication in the strip rolling process, combined with the knowledge of hydrodynamic lubrication and rolling theories. Various mineral oils with viscosities from 0.032 to 1.6 Pa.s were used to obtain different film thicknesses in the strip cold rolling. Results from the experiment and calculation show that the oil film forming in hydrodynamic lubrication is up to the bit angle and a higher rolling speed or a higher rolling oil viscosity. The mechanism of mechanical entrainment always affects the film thickness that increases with the rolling oil viscosity increasing or the reduction rate decreasing in rolling.     

Study on pulsed laser ablation and deposition of ZnO thin films by L-MBE

ZnO,as a wide-band gap semiconductor,has recently become a new research fo-cus in the field of ultraviolet optoelectronic semiconductors. Laser molecular beam epitaxy(L-MBE) is quite useful for the unit cell layer-by-layer epitaxial growth of zinc oxide thin films from the sintered ceramic target. The ZnO ceramic target with high purity was ablated by KrF laser pulses in an ultra high vacuum to deposit ZnO thin film during the process of L-MBE. It is found that the deposition rate of ZnO thin film by L-MBE is much lower than that by conventional pulsed laser deposition(PLD) . Based on the experimental phenomena in the ZnO thin film growth process and the thermal-controlling mechanism of the nanosecond(ns) pulsed laser abla-tion of ZnO ceramic target,the suggested effective ablating time during the pulse duration can explain the very low deposition rate of the ZnO film by L-MBE. The unique dynamic mechanism for growing ZnO thin film is analyzed. Both the high energy of the deposition species and the low growth rate of the film are really beneficial for the L-MBE growth of the ZnO thin film with high crystallinity at low temperature.     

CVD金刚石膜激光铲平切割工艺研究

YAG金刚石激光铲平切割机是针对宁夏机械研究院生产的CVD金刚石膜进行后加工的设备.文章介绍了金刚石膜激光铲平切割机的工作原理、结构及其优越性.通过大量的CVD金刚石膜的切割试验,同时采用工具显微镜、扫描电子显微镜对切割后的CVD金刚石进行观察、比较,从大量的试验数据中总结出了影响金刚石膜切割质量的主要因素有激光输出功率、激光束焦点位置、切割速度及编程方法,并对其进行了深入阐述.研究结果表明,CVD金刚石膜切割的最佳工艺条件:激光输出功率为45W左右,激光束焦点处于CVD金刚石膜厚度的中心位置,切割速度在10～50mm/min之间,采用无指令加工方式并选择适当的加工路径.     

水压轴向柱塞泵/马达滑靴副水膜动态特性分析

为了准确获得滑靴底面水膜特性,综合考虑了滑靴的倾覆姿态与磨损形貌,分析了滑靴的受力/力矩情况,基于Matlab软件实现了滑靴副动压水膜的精确求解.结果表明:当柱塞腔压力一定时,滑靴底面膜厚随转速增加而增大,在高压区3点膜厚相差很小,在低压区滑靴存在明显倾斜;在距上死点120°时,转速对滑靴底面压力场影响不大,在距上死点240°时,滑靴底面动压效应随转速增大显著增强.当转速一定时,滑靴底面膜厚和倾斜程度随柱塞腔压力增加而逐渐减小;在距上死点120°时,滑靴底面峰值压力随柱塞腔压力增大而增大,在距上死点240°时,滑靴底面压力随柱塞腔压力增大略有增加.滑靴的中心膜厚和最小膜厚随缸体转速的增加而增大,随柱塞腔压力升高而不断减小,但减小幅度逐渐放缓.该分析可以为水压轴向柱塞泵/马达滑靴副的设计和优化提供指导和借鉴.     

结构参数可控的挤压油膜阻尼器对柔性转子振动的控制

本文分别从理论及试验两方面研究了结构参数可控的锥形挤压油膜阻尼器对柔性转子系统的振动进行分段控制的可能性及控制效果。结果说明了，只要对阻尼器的油膜间隙进行几次简单的切换，不仅可以控制转子系统的振动及外传力，而且还可以使转子避免在具有极大振动及外传力为特征的双稳态区工作。     

纠偏系统在双向拉伸塑料薄膜生产中的应用

在双向拉伸塑料薄膜生产过程中,纠偏控制系统极大地降低了横拉脱夹、褶皱、破膜、波纹抖动等问题的概率,实现了薄膜的高速、高效生产.综合国内外纠偏控制系统的应用情况,分别从动力装置、工作原理和控制方式等三个方面展开了分析.结果表明电液压式动力装置兼有机电式动力装置高精度和气动液压式动力装置运行平稳的优点;相较于定单边纠偏模式和对比纠偏模式,定中心线纠偏模式具有更高的稳定性和工作效率;在实际应用中纠偏控制系统的控制方式应兼有自动和手动两种,自动控制方式运用于生产,而手动控制方式运用于静态测试.在双向拉伸塑料薄膜生产过程中,纠偏控制系统需针对不同的薄膜工艺、材质及生产速度选取最优应用方案.     

亚变粘区的弹流油膜厚度

本文提出一个线接触等温弹流的完全数值解。作者对Hooke润滑状态图的划分及其膜厚计算公式提出了新的见解:划出一个新的润滑状态区——弹性亚变粘度区并给出相应的油膜厚度计算公式,从而使润滑状态图上各膜厚公式的最大误差由原来的近40%降到6.5%以下,其计算程序有运算速度快,精度高,占内存少,适应范围广的特点。计算中最大Herty压力达2.05 GPa     

化学机械研抛过程流体和磨粒分布特性仿真

为深入理解化学机械抛光过程中的摩擦磨损机理,仿真研究了不同工况对抛光作用的影响规律.建立考虑多相流和离散相的三维CFD模型,研究不同工况下晶片和抛光垫间抛光液的速度和压力分布以及抛光磨粒的分布规律.结果表明:膜厚越小,抛光垫和晶片的转速越大,磨粒的分布密度越小.对流体速度和压力分布规律以及磨粒分布特性进行仿真分析,研究抛光过程中磨粒对晶片表面的动压作用过程.用疲劳断裂能量守恒理论,建立可定量分析各种工况下材料去除率的预测模型,采用Matlab软件对去除率模型进行仿真计算,得到不同工况下碳化硅晶片的去除率曲线.结果表明,抛光垫转速越大,膜厚越小,材料去除率越大,但去除率随着抛光的进行呈现减小的趋势.相比抛光垫转速对去除率的影响,膜厚对去除率的影响较小.