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三端自由高压LDMOS器件设计 总被引:3,自引:0,他引:3
应用RESURF原理,设计了三端自由的高压LDMOS器件。采用虚拟制造技术,分析比较了多种结构,对器件结构进行了优化。设计了与常规CMOS兼容的高压器件结构的制造方法和工艺。采用虚拟制造,得到NMOS和PMOS虚拟器件,击穿电压分别为350V和320V。 相似文献
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虚拟制造技术是九十年代在国际上兴起的一种新的先进制造技术,对未来制造业和企业的发展都将会产生重大的影响。探讨虚拟制造的概念、分类和相关技术及在电子战设备制造中的应用,并给出电子战设备虚拟样机的实例。 相似文献
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电气互联技术的现状及发展趋势 总被引:2,自引:0,他引:2
简要介绍了国外电气互联技术的现状,从电路可制造性设计、堆叠装配、FPC组装设计与工艺、PCB可制造性分析及虚拟设计技术、微波电路互联结构及绿色清洗技术等7个方面分析了电气互联先进制造技术的发展方向。 相似文献
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数控刀具的选择和切削用量的确定是数控加工工艺中的重要内容。本文论述了解决一种复杂型面的数控加工的关键技术,并利用虚拟制造技术对加工进行仿真,给出了优化的数控加工程序。 相似文献
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《电子工业专用设备》2005,34(5):66-66
中芯国际集成电路制造有限公司与Dolphin公司进一步合作,共同提供卓越的Flip8051虚拟核心微处理器内核(Virtual Components Microprocessor Core),该内核率先针对中芯国际0.35μmEEPROM工艺进行订制优化。此外,中芯国际的客户还将受益于Dolphin公司的混合信号模拟工具SMASH, 相似文献
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基于焊点形态理论的SMT虚拟组装技术 总被引:3,自引:0,他引:3
SMT焊点质量与焊点形态有关,通过对焊点形态的预测和控制,可以达到控制焊点质量的目的。本文将这一理论与虚拟制造技术相结合,提出SMT虚拟组装新概念、新思想、新方法,并对其进行论证。 相似文献
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虚拟制造技术发展策略浅析 总被引:3,自引:0,他引:3
通过分析虚拟制造技术的重大作用与其它先进制造技术的关系,从多方面论述了发展虚拟制造技术的策略及途径,希望为制造业的发展做些有益的探索。 相似文献
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传统的工艺过程设计是手工操作完成的,设计质量及编制时间取决于工艺设计人员的工作经验、技术水平和熟练程度。为了提高工艺设计的质量和工作效率,把工艺设计人员从繁琐的重复劳动中解放出来,实现工艺设计过程的电子化,开发了计算机辅助工艺过程设计系统软件。本文叙述了此软件的设计思想以及系统的结构、特点和主要功能。 相似文献
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文章提出了对PCM参数进行正交化而建立起一套广义参数,再以广义参数为基础构建工艺状态空间的技术。在工艺状态空间中,作为工艺结果的测试值集的数据分布为多维椭球体;该椭球体随生产的进行而呈现出连续性的形变,因此,跟踪这种形变,就实现了对工艺状态的监控。提出了将特定批次工艺状态与参照态进行状态比较的相似度指标计算公式,在多维空间中实现了整体性的统计工艺控制(SPC)。进一步地,由于状态空间中各坐标基矢的特定指向与工艺失效因素一一对应,对失效工艺的诊断与纠正也变得易于进行。 相似文献
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基于分形二项噪音驱动泊松过程(FBNDP)动态原理,我们构建了其仿真模型并进行多次仿真实验,提示了FBNDP模型采样数据轨迹的表面现象,并用R/S法和时间方差法对其自相似强度进行分析计算;另外,自相似过程的非退化自相关结构特性得到图形化验证. 相似文献
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推行GB/T19001-2000质量体系管理,运用过程方法指导产品实现过程,做好过程策划工作,对产品加工过程中从设计、工艺、人员、设备、工装、监控、环境等诸多方面进行有效的控制,达到控制产品加工质量、提高工艺工作的准确性、提高工艺管理水平的目的. 相似文献
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目前在软件企业较流行和公认的提高质量管理水平的认证这是CMM评估,那么CMM的原理是什么?与传统的硬件产品在过程控制原理中是否是一致的?通过剖析CMM的五个成熟度等级与产品统计过程控制图的对应关系,说明了CMM成熟度评估原理就是在传统的硬件产品质量控制原理基础上根据不同的过程能力所达到的水平化分为不同的等级来对软件开发过程进行考核的。 相似文献
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有机、高效的流程体系能够强有力地支持组织目标达成,而每个单一流程是否得到有效策划成为优质流程同样影响流程体系的效率.本文介绍了上海厂流程体系整合思路,通过对不同类型文件的定义、分类整合达到流程结构的简化;通过设置流程指标,量化流程,有助于从众多的流程中识别关键流程并加以控制;通过统一流程图及使用流程FM EA提高流程质量. 相似文献
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化学机械抛光工艺控制和测量技术随着其工艺重要性的日益提高越来越成熟。测量技术在所有类型的化学机械抛光工艺流程控制中扮演了一个重要的角色,并且可以根据使用的测量技术、其在工艺流程中所处的位置以及类型和产生的数据量以不同的方法实现。述评并提出了一些从现场、延伸的现场、综合的测量技术、以及其对工艺流程控制的影响和普遍应用的测量技术的例子。并且还提出了65nm以及更小技术节点的测量技术以及工艺流程控制策略,在这些未来的技术中,晶片工艺控制以及每个晶圆片方法调整预计将更加苛刻。 相似文献
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本文介绍一个集成电路工艺优化设计系统GOALSERVER。该系统是多目标优化数学方法与解析式工艺/器件一体化模拟的结合,它可根据对各器件特性的具体要求迅速、自动地选择工艺制造控制参数,使得各项器件特性同时达到最优。设计了一种工艺优化设计描述语言,使得系统具有良好的用户界面。新的多目标优化算法使得变量初值易于选择且易于获得满意的最优解。最后给出一个工艺优化设计的实例。 相似文献