更正启事

本刊2009年第4期《双向脉冲电沉积纳米晶光亮镍镀层》一文中,12页右侧最后一段以及13页右侧结论(3)中正向脉冲电流密度>正向周期>反向脉冲电流密度>反向占空比>正向占空比应为正向脉冲电     

工艺参数对Ni-TiN纳米复合镀层形貌的影响

采用超声波-双脉冲电沉积法,在不锈钢基体上制备Ni-TiN纳米复合镀层。研究了超声波功率、脉冲电源参数、TiN的质量浓度等工艺参数对复合镀层表面形貌的影响。得到最佳的工艺参数为:TiN 10g/L,镀液温度40~50℃,pH值3.5~4.0,正向脉冲电流密度5A/dm2,反向脉冲电流密度0.5A/dm2,占空比1/2,超声波功率200W。     

Ni/α-Al2O3纳米复合电镀工艺的研究第三部分——采用双脉冲电源电镀时电源参数的优化

采用双脉冲电源,研究了电源参数对Ni/α-Al2O3纳米复合镀层耐蚀性的影响,得到最佳的脉冲参数为:正向脉冲频率1000Hz,正向脉冲占空比0.4,正向工作时间5ms,正向平均电流密度1.1A/dm2,反向脉冲频率1000Hz,反向脉冲占空比0.4,反向工作时间1ms,反向平均电流密度0.44A/dm2。     

超临界流体辅助换向脉冲复合电沉积镍-石墨烯的工艺

利用具有高度扩散性和传质的超临界CO2流体辅助双脉冲电沉积技术制备Ni-rGO(还原氧化石墨烯)复合镀层.先通过正交试验确定较优的双脉冲电参数组合,再通过单因素试验研究了正反向脉冲平均电流密度和正、反向脉冲占空比对Ni-rGO复合镀层表面形貌、显微硬度和表面粗糙度的影响.当正向脉冲电流密度和占空比分别为7 A/dm2和...     

脉冲电流密度对Ni-W合金镀层耐蚀性的影响

采用脉冲电沉积方法在黄铜基体上制备Ni-W合金镀层。研究了脉冲电流密度对镀层的表面形貌、微观结构及耐蚀性的影响。当脉冲电流密度小于15A/dm2时,Ni-W合金镀层主要由纳米晶和非晶的混合物构成;当脉冲电流密度大于20A/dm2时,镀层转变为完全非晶。脉冲电流密度为20A/dm2时制备的NiW合金镀层在质量分数为3.5%的NaCl溶液中的耐蚀性最好,自腐蚀电流密度最小,约为2.532μA/cm2;自腐蚀电位最正,约为-327mV;电荷转移电阻最大,约为5 412Ω/cm2。所有Ni-W合金镀层的表面均致密平整,W的质量分数约为(40.5±3.5)%。     

脉冲喷射电沉积纳米晶镍工艺优化研究

采用脉冲喷射电沉积方法在钢基体表面制备了纳米晶镍镀层,研究了占空比、频率、平均电流密度对镀层硬度的影响,并通过正交试验对工艺参数进行优化,用扫描电镜和X-射线衍射仪对镀层表面形貌和晶粒尺寸进行分析。结果表明,制备纳米晶镍镀层的优化工艺参数为:平均电流密度39.8 A/dm2、频率1 000 Hz和占空比20%,此时镀层最致密,硬度最高(530.6 HV),纳米晶镍平均晶粒尺寸最小(13.7 nm)。     

脉冲参数对电铸铜组织形态和硬度的影响

采用脉冲电源,酸性硫酸铜电铸液,研究脉冲电流密度和占空比对电铸层组织形貌及硬度的影响。结果表明,在80%占空比条件下,电流密度从3 A/dm2升高到5 A/dm2,铸层晶粒细化、平均硬度升高;而在电流密度为5 A/dm2情况下,占空比由50%提高到80%,铸层晶粒细化。在电流密度5A/dm2、占空比80%、频率200 H z条件下,可获得约600μm厚的细晶铸层,晶粒直径小于10μm。     

脉冲电流密度对Ni-WC纳米复合镀层耐蚀性及硬度的影响

采用脉冲电沉积法在304不锈钢基体上制备出Ni-WC纳米复合镀层,并研究了脉冲电流密度对Ni-WC纳米复合镀层耐蚀性及硬度的影响。结果表明:随着脉冲电流密度的增大,Ni-WC纳米复合镀层的织构呈现规律性变化,晶粒尺寸先减小后增大,硬度先增大后减小。当脉冲电流密度为10A/dm2时,Ni-WC纳米复合镀层的耐蚀性最好,硬度最高。     

脉冲电流密度对纳米晶镍镀层结构及性能的影响

采用脉冲电沉积方法在黄铜基体上制备出致密、平整的纳米晶镍镀层。研究了脉冲电流密度对镀镍层的微观结构、硬度及耐蚀性的影响。结果表明:当脉冲电流密度为5A/dm~2时,镀镍层为(200)晶面择优;当脉冲电流密度增至10A/dm~2时,镀镍层变为(111)晶面择优;当脉冲电流密度继续增至20A/dm~2和30A/dm~2时,镀镍层变为(111)、(200)双向择优。随着脉冲电流密度的增大,镀镍层的晶粒尺寸略微减小,硬度逐渐增大,在3.5%的NaCl溶液中的耐蚀性下降。脉冲电流密度为5A/dm~2时所得镀镍层的耐蚀性最好。     

钛合金新型镀镍工艺的研究

通过在瓦特镀镍液中添加金属配位剂和金属阳极活化剂,对钛电极先采用阳极脉冲电流活化,再对活化后的钛电极进行脉冲电沉积,在TC11钛合金表面获得了结合力优良的镍镀层.研究了电解液组分、工艺参数对镀层结合力的影响.结果表明,在硫酸镍电解液中添加40 g/L阳极活化剂,采用1.4 A/dm2阳极脉冲电流对TC11钛合金进行电化学处理,可使TC11钛合金产生活性溶解,将脉冲电流切换为阴极电沉积后,便可在TC11钛合金表面沉积一层结合力优良的镍镀层.文章讨论了脉冲阴、阳极平均电流密度、占空比、频率、电解液组分等工艺参数对镍镀层质量的影响.     

脉冲电沉积工艺参数对Ni-W-P合金镀层性能的影响

针对传统镀硬铬沉积速率低、污染环境等问题,采用脉冲电沉积方法在碳钢表面制备Ni-W-P代铬镀层。采用显微硬度计、扫描电子显微镜、X射线衍射仪和电化学工作站研究了脉冲频率、平均电流密度和占空比对镀层性能的影响。结果表明:随着脉冲频率、平均电流密度和占空比的增加,镀层的硬度和耐蚀性均呈现出先增大后减小的变化规律;当脉冲频率为250Hz,平均电流密度为4.0A/dm2,占空比为30%时,镀层为非晶态结构,表面光滑、平整,结构致密,硬度可达5 140MPa,耐蚀性较好。     

工艺参数对超声辅助脉冲电沉积镍-氮化钛复合镀层的影响

在45钢表面以超声波辅助脉冲电沉积制备Ni-TiN复合镀层。研究了平均阴极电流密度、脉冲占空比、超声功率和TiN粒子(平均直径20~30 nm)添加量对复合镀层的TiN粒子含量和显微硬度的影响。得到较优的工艺参数为:NiSO4ꞏ6H2O 300 g/L,NiCl2ꞏ6H2O 30 g/L,H3BO330 g/L,十二烷基硫酸钠0.3 g/L,TiN 25 g/L,pH 4.1~4.3,温度40°C,平均阴极电流密度4 A/dm2,脉冲占空比40%,脉冲频率1000 Hz,超声功率300 W,机械搅拌速率200 r/min,时间60 min。该条件下所得Ni-TiN复合镀层的TiN质量分数为8.35%,显微硬度为819 HV,表面平整、致密,晶粒尺寸均匀。     

硫代硫酸盐无氰脉冲镀银工艺研究

对无氰镀银工艺进行了优选,找到一种无氰光亮镀银添加剂的配方,并对其工艺参数进行优选,得出最佳脉冲参数为：脉宽1ms,占空比为10％,电流密度为0．6A／dm^2。在最佳工艺参数下得到的银镀层镜面光亮,与直流镀银相比,抗变色性和耐蚀性均显著提高,并通过扫描电镜观察了镀层的表面形貌。     

工艺参数对玻碳材料脉冲电沉积镍晶粒粒径影响的研究

在0.05 cm~2的玻碳材料上利用双脉冲法电沉积纳米晶体镍。在主要成分为300 g/L NiSO_4·6H_2O,45 g/L NiCl_2·6H_2O,40 g/L H_3BO_3,5 g/L C_7H_5NO_3S,0.05 g/L C_(12)H_(25)NaO_4S的镀液中,把晶粒粒径当成研究标准,通过调整脉冲工艺参数,得到最佳工艺条件,即脉冲平均电流密度9 A/dm~2、脉冲占空比r_正=30%、r_反=10%、T_正=100 ms、T_反=10 ms、脉冲频率1 kHz、镀液θ为55℃、pH为1.5。X-射线衍射结果表明,在最佳工艺条件下,利用双脉冲法在玻碳材料上获得了平均粒径在18 nm的纳米晶体镍。     

脉冲电镀镍及其性能的研究

采用瓦特镀镍液,研究了脉冲占空比、平均电流密度、温度对电沉积速率,镀层光亮度和镀层在w=3.5%的NaCl溶液中耐蚀性的影响.用扫描电镜研究了直流和脉冲镍镀层的表面形貌.结果表明:电沉积速率随脉冲占空比、平均电流密度及温度的增大而加快;镀层耐蚀性,光亮度随脉冲占空比增大而变差,随温度、平均电流密度的增大先变好后变差.较佳脉冲电镀条件为:平均电流密度0.75 A/dm~2,脉冲占空比5%,温度45～50 ℃,pH 2.5～3.0.X射线衍射分析结果表明,与直流镀镍相比,脉冲镍镀层在(111)晶面存在择优取向,镀层更致密,性能更好.     

脉冲电镀无裂纹硬铬研究

在A-100高强钢基体上脉冲电镀硬铬,对各种工艺参数制备的铬层的微观形貌、镀层厚度及显微硬度进行了测试和分析。结果表明,各参数制备的铬层显微硬度均大于700HV,制备出无裂纹铬层的工艺参数为Jκ=50A/dm2、θ=75s、γ=0.8,最优参数下制备的铬层υ约为10μm/h,一个脉冲周期沉积无裂纹铬层的δ范围为0.23～0.27μm。     

脉冲电沉积Ni-SiC复合镀工艺的研究

采用脉冲电镀在45#钢表面制备含有SiC微粒的镍基复合镀层,研究了镀液中SiC的质量浓度、脉冲平均电流密度、pH值对Ni-SiC复合镀层的影响规律.结果表明:电镀工艺条件的改变影响复合镀层中SiC的共沉积量和镀层的硬度,当镀液中SiC质量浓度为20 g/L,平均电流密度为40 A/dm2时,镀层中SiC体积分数为14.3%,硬度约为镍镀层的1.7倍.     

Synthesis and characterization of Ni-W/TiN nanocomposite coating with enhanced wear and corrosion resistance deposited by pulse electrodeposition

To enhance mechanical properties and anti-corrosion capability of Ni-W alloy further, Ni-W/TiN nanocomposite coating has been co-deposited via pulse current co-deposition in this work. The effects of TiN nanoparticles and operating parameters on the structure and properties of the deposited coating were examined. It illustrated that the nanocomposite coatings are uniform, dense and crack-free, exhibiting dome-like or hill-valley like structure. The particles were homogeneously incorporated in the metallic matrix. RTC analysis indicated that the preferred orientation of Ni-W/TiN was (111) texture. The crystallite size was of 10–16 nm, indicating the formation of nanocrystalline structure. TiN concentration, duty cycle and frequency could influence the amount of TiN particle and W element in the coating, then regulating hardness and anti-wear behaviors. The low duty cycle and long deposition time could diminish the roughness of the coating. The inclusion of TiN nanoparticles in the nickel matrix could promote the nucleation of fresh nickel crystals and restrict the growth of already formed nickel grains, favoring the homogeneous growth and grain refinement of Ni-W crystals. The doped TiN particles would favor the preferred orientation (111) plane, enhanced the hardness, wear and corrosion resistance of Ni-W alloy. Electrochemical results illustrated that the best corrosion-resistant properties of the nanocrystalline coating could be obtained at TiN 30 g L⁻¹, duty cycle of 20% and frequency of 60–200 Hz. The enhanced mechanical properties and corrosion resistance of Ni–W/TiN coating benefits its application in harsh corrosive environment.