Al2O3与LaF3薄膜在紫外波段的特性研究

用电子束蒸发方法制造了Al2O3、LaF3单层膜,对比研究了沉积速率和基板温度对薄膜紫外（193 nm）光学特性、微结构的影响.实验结果表明,LaF3在紫外波段的光学损耗明显小于Al2O3.AFM测试发现,在相同的工艺条件下,Al2O3表面粗糙度大于LaF3,且3薄膜表面粗糙度随基板温度增加而增加.Al2O3薄膜在紫外波段的光学特性严重依赖于沉积速率等制备条件,而沉积速率对3薄膜特性的影响不明显,即使是在5 nm/s的速率条件下,LaF3仍具有良好的光学特性.X射线衍射（XRD）测试发现,电子束蒸发制备的Al2O3薄膜为非晶态,LaF3薄膜有结晶现象.     

离子束辅助沉积TiO2薄膜近红外光学特性分析

二氧化钛(TiO2)作为一种常用的薄膜材料,对其近红外波段光学特性的研究很少.利用正交试验法,采用椭圆仪对TiO2薄膜近红外波段的光学特性进行了研究.着重研究了薄膜沉积速率、基片烘烤温度和氧气分压等因素对TiO2薄膜近红外波段的折射率和消光系数的影响.实验结果表明,对TiO2薄膜折射率影响最大的两种因素是薄膜沉积速率和烘烤温度.随着沉积速率的增加,薄膜折射率先增加后减小,最佳沉积速率为0.4 nm/s左右;随着基片温度的增加,薄膜折射率从2.15增加到2.23左右;氧气分压也是影响薄膜折射率的主要因素之一,结果表明氧气流量为4.0 sccm(工作真空度1.4×10-2 Pa)时折射率最大.该研究为扩宽TiO2薄膜在近红外波段的应用提供了依据.     

玻璃表面铁酸锌和掺杂铁酸锌薄膜的光催化效率和红外光谱特性

采用溶胶 凝胶法在玻璃基片上分别制备了TiO2 薄膜、掺杂 2 %ZnFe2 O4 的TiO2 薄膜和ZnFe2 O4 薄膜 ,利用紫外吸收光谱、红外吸收光谱等测试手段对薄膜的性质进行了研究 ,得到了薄膜的激发波长、光催化效率和红外吸收曲线。结果表明ZnFe2 O4 薄膜及掺杂ZnFe2 O4 的TiO2 薄膜具有较高的光催化降解性能 ,薄膜在近红外波段有较强的吸收     

玻璃表面铁酸锌和掺杂铁酸锌薄膜的光催化效率和红外光谱特性

采用溶胶－凝胶法在玻璃基片上分别制备了TiO2薄膜、掺杂2％ ZnFe2O4的TiO2薄膜和ZnFe2O4薄膜，利用紫外吸收光谱、红外吸收光谱等测试手段对薄膜的性质进行了研究，得到了薄膜的激发波长、光催化效率和红外吸收曲线。结果表明ZnFe2O4薄膜及掺杂ZnFe2O4的TiO2薄膜具有较高的光催化降解性能，薄膜在近红外波段有较强的吸收。     

离子辅助沉积对 Nb2O5薄膜特性的影响

为了提高Nb2O5薄膜的聚集密度,改善氧化铌薄膜的光学特性和机械特性,采用霍尔源离子辅助沉积(IDA)技术在K9玻璃基板上制备了Nb2O5单层薄膜,并与常规沉积条件下制备的Nb2O5薄膜作了比较.由于IAD技术使Nb2O5膜的聚集密度提高了14%,膜层折射率从常规工艺的2.03上升到2.18,膜层的附着力和牢固度从常规工艺的1.0×107N/m2提高到129.7×107N/m2.     

温度对电子束沉积Nb_2O_5薄膜性能的影响

氧化铌作为一种重要的氧化物薄膜材料在可见到中波红外波段广泛应用。基于电子束加热蒸发方法,研究了不同温度条件下一定厚度的氧化铌薄膜的微观结构及特性,通过Kim振动模型拟合不同工艺条件下氧化铌的光学常数色散分布,采用X射线衍射仪(X-Ray Diffraction,XRD)测试薄膜的结晶态,并用原子力显微镜(Atomic Force Microscope,AFM)检测薄膜表面粗糙度,分析温度对膜层表面粗糙度的影响规律。     

掺铒氟氧化物透明玻璃陶瓷结构及光学性能研究

采用高温熔融及热处理工艺,制备了透明度良好的Er3+离子掺杂的氟氧化物玻璃陶瓷,并研究了不同Er3+离子掺杂浓度下,玻璃陶瓷微晶结构、紫外-可见波段吸收光谱、近红外发射光谱的变化.结果表明随着Er3+浓度的增加,玻璃陶瓷中的微晶相β-PbF2晶格常数减小;紫外-可见波段吸收光谱中超灵敏跃迁4I15/2→4G11/2和4I15/2→2G11/2的强度增强;同时1.53μm处近红外发射峰的半高宽增大.此外,还进行了上转换发射光谱的测试,结果表明经过热处理后,玻璃陶瓷的上转换峰要大大强于原先未经热处理的玻璃样品.     

氧分压对TiO2薄膜光学性能的影响

为得到光学性能良好、稳定的TiO2薄膜,采用离子束溅射的方法,改变氧分压,在k9玻璃上制备出不同结晶取向不同光学常数的TiO2薄膜.采用椭圆偏振光谱仪测试、拟合得到薄膜的厚度、折射率和消光系数.薄膜通过400℃退火,利用X射线衍射仪(XRD)对薄膜的成分、结晶和取向进行分析.实验结果发现,随氧分压增加折射率减低,当氧分压达到1.0×10-2Pa时,折射率在2.43附近,变化趋于稳定.氧分压对薄膜的消光系数k影响较大,氧分压高于1.0×10-2Pa时在可见光和近红外区薄膜消光系数近似为0.随氧分压降低,薄膜从(101)向(200)转变.在此氧分压下,得到的薄膜折射率稳定,消光系数相对较小.     

射频磁控溅射制备的CdSe薄膜的光电学性质

采用射频磁控溅射技术在不同溅射功率下制备了CdSe薄膜,并利用X射线衍射仪(XRD)、场发射扫描电子显微镜(FESEM)、能量色散X射线光谱仪(EDAX)、紫外可见近红外(UV - VIS - NIR)分光光度计和霍尔效应测试仪研究了溅射功率对薄膜的结构和光电学性质的影响.研究表明:增加溅射功率有利于增强薄膜的结晶性能; 随着溅射功率的增加,薄膜的光学带隙和电阻率逐渐减小,载流子浓度逐渐增加,即薄膜的光电性能不断增强.该研究结果可为CdSe薄膜在光电器件方面的应用提供参考.     

氧气气氛对氧化铪薄膜性能的影响

在有氧和无氧气氛条件下,采用真空电子束热蒸发技术在P-Si(100)硅衬底上制备了HfO2薄膜.利用X射线光电子能谱,对薄膜的化学组分进行表 征,利用椭偏法对薄膜的膜厚和折射率进行测定,利用紫外可见光谱测量了薄膜的在200 nm～1 200 nm范围内的光透过率,并计算出其光学能隙,利用C-V测试系统对退火后薄膜的介电性能进行测试.结果表明,有氧和无氧条件下制备的薄膜中组分含量存在明显差异,相比于无氧条件下制备的薄膜,有氧条件下制备的薄膜中含有较少的铪单质,因而在可见光范围内具有较高透光率和光学能隙,较低的折射率和更优异的介电性能.     

Ta2O5/MnO2复合湿敏薄膜制备工艺研究

采用钽片阳极氧化和硝酸锰热分解方法，制备Ta2O5/MnO2复合薄膜，研究了电解液种类、浓度（质量分数）、电压对Ta2O5/MnO2复合薄膜绝缘性能的影响。     

自聚焦透镜滤光膜的研制

针对光纤通信系统中自聚焦透镜滤光膜的工作要求,设计了用于激光波段808nm的窄带滤光片,要求808nm处的透射率不小于90%,半峰值宽度为10nm。选取了激光损伤阈值较高的Ta2O5和SiO2作为高低折射率材料,借助膜系设计软件设计膜系。采用电子束真空镀膜的方法,同时加以离子辅助沉积,调整镀膜工艺参数,改进膜厚控制方法,提高了膜厚的控制精度,减少了中心波长的漂移量和膜层的吸收。该薄膜能够承受雨淋、盐雾、高低温等环境测试,满足使用要求。     

50％IrO2-50％Ta2O5被覆钛阳极涂层的组织结构研究

IrO2-Ta2O5／Ti是优异的电催化活性材料。文章着重研究了广泛应用于析氧领域的钛基被覆50％IrO2-50％Ta2O5二元涂层阳极组织结构变化和涂层形貌。结果表明,涂层经450—600℃烧结,出现IrO2基含Ta固溶体;Ta2O5的晶化温度超过600℃;涂层呈“圆石状”形貌。     

Preparation and properties of SrBi_(2.2) Ta_2O_9 thin film

1INTRODUCTION Ferroelectricfilmshaveattractedmuchatten tionduetotheirpotentialapplicationsinelectronic devices,suchaspyroelectricinfrareddetectors,opticalswitches,actuators,dynamicrandomac cessmemories(DRAMS)[1,2],andnon volatile randomaccessmemories(NVRAMS)[3,4].Re cently,thereisinterestinthestudyofbismuthlayerstructuredferroelectricmaterialsformemory applications.Inparticular,strontiumbismuthtan tanate(SBT),oneofthebismuthlayerstructuredcompounds,isapromisingcandidateforferroelec t…     

用于液晶投影显示的薄膜偏振分束器

为提高液晶投影机的光能利用率和图像对比度,设计了一种宽角度宽波长的光学薄膜偏振分束器（PBS）.采用多种薄膜材料产生多个Brewster角,通过优化膜层数目和膜层厚度,获得了宽角度宽波长的PBS.以SF57和SF2玻璃作为棱镜材料,采用TiO2、Ta2O5、Al2O3、SiO2作为薄膜材料,基于上述原理采用全自动的Needle设计方法,设计了4种典型膜系,优化后的膜层数目为50～60层,空气中的光束孔径角达到±10.5°,达到的技术指标为：对于P偏振光,在420～460nm和460～680 nm波长范围内,积分透射率分别达到88.0%和93.4%;而对于S偏振光,在420～680nm波长范围内,积分透射率为0.095%.该PBS应用于F/2.8的光学系统中,能够显著提高整个系统的性能.     

受限空间内化学被覆导电聚合物薄膜研究

研究了在多孔Ta/Ta2O+阳极微孔内表面原位化学聚合聚3,4-乙烯二氧噻吩导电聚合物薄膜的制备方法,结合有机片式固体钽电解电容器等效串联电阻值的变化,对聚合过程在受限空间里的高分子链形成机理以及在弱吸附情况下微孔内的薄膜导电性能的变化进行了分析,结果表明,在受限的空间里聚合反应生成的聚合物薄膜电导率会由于受限能的影响而降低,其影响程度相似于聚合溶液浓度的变化对聚合物薄膜电导率的影响。     

Ta_2O_5敏感膜H~＋－ISFET研究

在不用金作掩蔽膜的情况下,在氢氟酸混合液中对采用直流反应溅射方法制备的Ｔａ２Ｏ５薄膜进行选择性腐蚀,制成Ｔａ２Ｏ５膜Ｈ＋－ＩＳＦＥＴ。测试结果表明,该器件在灵敏度、线性范围、线性度、响应时间、滞后、时漂和选择性等方面普遍优于Ｓｉ３Ｎ４膜同类器件。可直接用于溶液的ｐＨ值测量。     

新型SiO-Ta2O5复合介质薄膜电容器的研究

研制出一种新型SiO-Ta2O5复合介质薄膜电容器,复合介质膜是用溅射法将SiO和Ta2O5材料溅射在微晶玻璃片上形成的,其下电极Al和上电极Au是用蒸发法制备的．这种电容器具有耐压强度高、损耗小、漏电低、精度高、稳定性好、合格率高等特点．     

Optical Properties and Microstructure of Ta2O5 Thin Films Prepared by Ion Assisted Electron Beam Evaporation

An effective method for determining the refractive index of weak absorption transparent thin films was presented, which is also applicable to other weak absorption dielectric thin films.The as-deposited Ta2O5 thin films prepared by ion assisted electron beam evaporation showed a maxima transmittance as high as 93% which was close to that of the bare substrate, and exhibited a blue shift when the substrate temperature increased from room temperature to 250 ℃. The refractive index seemed to be immune to the substrate temperature and film thickness with its value about 2.14 at incidence wavelength of 550 nm. The surface morphology measured by atomic force microscopy (AFM) revealed that the microstructures lead to the slim optical difference, which was the interplay of substrate temperature and assisted ion beam.     

薄膜电路中电阻与电容的制造研究

本文阐述了Ni-Cr、Cr-SiO、Ta薄膜电阻和SiO、Ta_2O_5薄膜电容的设计与制造方法。指出获得高质量的电阻薄膜、接角薄C、介质薄膜和上下电极薄膜的关键是采用高纯度的材料,高的真空度和控制好蒸发、溅射速率。 本文还给出了对具体产品的试验结果,从中可以看出薄膜电阻和电容电特性的优良品质。