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《中国材料科技与设备》2012,(4):99-106
Vers TM 3D DualBeam是FEI的最新DualBeam仪器Versa3D是一个高度可选配的平台，客户可根据自己的需求来选系统功能的配置。高真空版是常规导电或镀膜样品的理想之选。与之不同，高低真空版可以灵活工作于包括非镀膜、绝缘材料等众多样品。选配的环境扫描电镜ESEM模式可做非镀膜、绝缘体或自然含水样品的电子束成像，并支持原位分析和动态试验。 相似文献
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《中国材料科技与设备》2013,(3):85-92
VersaTM3DDualBeam是FET的最新DualBeam仪器Versa3D是一个高度可选配的平台，客户可根据自己的需求来选系统功能的配置。高真空版是常规导电或镀膜样品的理想之选。与之不同，高低真空版可以灵活工作于包括非镀膜、绝缘材料等众多样品。选配的环境扫描电镜ESEM模式可做非镀膜、绝缘体或自然含水样品的电子束成像，并支持原位分析和动态试验。 相似文献
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《中国材料科技与设备》2012,(6):107-114
VerSa^TM 3D DualiSm是FEI的最新DualBeam仪器Versa3D是一个高度可选配的平台，客户可根据自己的需求来选系统功能的配置。高真空版是常规导电或镀膜样品的理想之选。与之不同，高低真空版可以灵活工作于包括非镀膜、绝缘材料等众多样品。选配的环境扫描电镜ESEM模式可做非镀膜、绝缘体或自然含水样品的电子束成像，并支持原位分析和动态试验。 相似文献
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《中国材料科技与设备》2012,(2):87-87
Versa^TM 3D DualBeam是FEI的最新DualBeam仪器Versa 3D是一个高度可选配的平台，客户可根据自己的需求来选系统功能的配置。 相似文献
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介绍了一种新的镀膜技术—过滤式真空电弧离子镀膜技术。针对典型的过滤式真空电弧镀膜装置，描述了其结构组成，分析了它的工作原理。分析结果表明，该技术与传统真空电弧离子镀膜技术相比，可有效地消除宏观颗粒对镀层的污染，可广泛应用于制作各种微电子膜透明导电薄膜（ＩＴＯ）以及类金刚石（ＤＬＣ）薄膜。 相似文献
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为提高镀膜设备的效率及可靠性,以适就应技术发展需要,对真空镀膜设备的设计制造(重点是箱式前开门型设备)方面,对镀膜审的布局,基片装载量及真空系统的配置和电气控制等方面进行了适当的改进,提高挡次.并尽可能留有增加可选配功能部件的装配位置,如光学膜厚测量控制装置和石英晶体膜厚测量控制仪,低能宽束离子源,氩离子射频轰击装置等改进膜层质量,扩大功能适应各种使用要求. 相似文献
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真空卷绕镀膜技术及设备的现状与发展 总被引：3，自引：0，他引：3
综述了真空卷绕镀膜技术的现状和发展、真空卷绕镀膜技术的应用领域、现有真空卷绕镀膜设备的应用分类及结构分类、真空卷绕镀膜设备典型的结构组成及设备设计的一些关键要素. 相似文献
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真空电弧镀ＤＺ２２合金ＮｉＣｒＡｌＹ涂层性能研究北京航空材料研究所吴凤筠一、前言真空电弧镀膜设备Ａ１０００采用电弧放电直接蒸发镀膜材料制成的阴极靶，与同类型镀膜设备一样有如下特点：ａ．金属阴极蒸发源不熔化；ｂ．由磁场控制电弧放电，可细化膜层微粒；ｃ．... 相似文献
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《真空》2016,(1)
本文从系统结构、参数控制和镀膜方式等综述了真空卷绕镀膜技术研究进展。按结构可分为单室、双室和多室真空卷绕系统,后两者可解决开卷放气问题并分别控制卷绕和镀膜室各自真空度。卷绕张力控制分锥度、间接和直接控制模型,锥度控制模型可解决薄膜褶皱和径向力分布不均的问题;间接张力控制无需传感器,可用内置张力控制模块的矢量变频器代替;直接张力控制通过张力传感器精确测量张力值,但需惯性矩和角速度等多种参数。真空卷绕镀膜主要有真空蒸发、磁控溅射等方式,可用于制备新型高折射率薄膜、石墨烯等纳米材料和柔性太阳能电池等半导体器件。针对真空卷绕镀膜技术研究现状及向产业化过渡存在的问题,最后作了简要分析与展望。 相似文献
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