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类p—i—n结构n^+(μc—Si:H)/p(poly—Si)p^+(poly—Si)薄膜太阳电池的热平衡 总被引:1,自引:0,他引:1
通过应用Scharfetter-Gummel解法,数值求解Poisson方程,对热平衡态n^-(μc-Si:H)/p(poly-Si)p^+(poly-Si)薄膜太阳电池进行计算机数值模拟。 相似文献
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400cm2 a-Si/a-Si叠层太阳电池的研究 总被引:6,自引:0,他引:6
以全部国产化装备和工业用原材料,以简单铝背电极制备出初始效率为8.28%,经室外阳光照射一年后稳定效率为7.35%,面积为20cm×20cm,有效面积为360cm2a-Si/a-Si叠层太阳电池。主要制备技术措施:(1)TCO/p界面接触特性的改善;(2)μc-SiC∶H/a-SiC∶H复合窗口层技术;(3)p/i界面H处理;(4)高质量本征a-Si∶H材料;(5)优良的n1/p2隧道结;(6)最佳电池结构设计等。 相似文献
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p/i界面的缓变层对大面积(2790cm^2)a—Si:H太阳电池性能影响的研究 总被引:1,自引:0,他引:1
报道了在大面积(2790cm2)p-i-n型a-Si∶H异质结太阳电池p/i界面之间引入缓变层(CGL∶C,CGL∶B∶C)对电池性能影响的研究结果。实验发现,带有CGL∶C的a-Si∶H太阳电池性能的改善主要来源于开路电压的提高,带有CGL∶B∶C的a-Si∶H太阳电池性能的提高主要来源于填充因子FF的增加。提出了带有缓变层a-Si∶H电池的能带模型,据此分析了p/i结附近载流子的复合动力学过程,从理论上解释了实验中所发现的现象。 相似文献
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报道了快速热化学气相沉积(RTCVD)工艺制备多晶硅(poly-Si)薄膜及电池的实验和结果。采用SiH2Cl2作为原料气体,衬底温度为1030℃时,薄膜的生长速率为10nm/s。发现薄膜的平均晶粒度及载流子迁移率与衬底温度和材料有关。用该薄膜在未抛光重掺杂磷的硅衬底上制备1cm2的p+n结样品电池,无减反射涂层,其转换效率为4.54%(AM1.5,100mW/cm2,25℃)。 相似文献
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PIN型非晶硅太阳电池中的空间电荷效应——太阳电池光致性能衰退的计算机... 总被引:6,自引:0,他引:6
通过应用Scharfetter-Gummel解法数值求解Poisson方程,对经高强度光辐照过的PIN型非晶硅太阳电池进行计算机数值模拟。结果表明,经光辐照过的PIN型非晶硅太阳电池的空间电荷效应主要表现在i层中正空间电荷的增加,使电场分布向p+/i结面集中,在靠近n+/i结附近区域内出现准中性区(低场“死层”),导致有源区内光生载流子收集率的减少和电池性能因光的长期辐照而衰退,支持了光辐照下电池 相似文献
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PIN型非晶硅太阳电池中的空间电荷效应──太阳电池光致性能衰退的计算机模拟 总被引:1,自引:1,他引:1
通过应用Scharfetter-Gummel解法数值求解Poisson方程,对经高强度光辐照过的PIN型非晶硅太阳电池进行计算机数值模拟。结果表明,经光辐照过的PIN型非晶硅太阳电池的空间电荷效应主要表现在i层中正空间电有的增加,使电场分布向p+/i结面集中,在靠近n+/i结附近区域内出现准中性区(低场"死层"),导致有源区内光生载流子收集率的减少和电池性能因光的长期辐照而衰退,支持了光辐照下电池中电场分布的改变(空间电场效应)是引起电池性能衰退的物理机制。但在薄i层的PIN型非晶硅太阳电池中空间电荷对电池内电场调制的体效应已很微弱,这是该电池结构可获得高稳定性能的原因。 相似文献
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在等离子体化学气相沉积系统中采用高氢稀释硅烷加乙烯法制备了nc-SiCx:H薄膜。系统研究了C2H4/(C2H4+SiH4)(Xc)气体流量比对nc-SiCx:H薄膜的晶化和其它不龟性能的影响。 相似文献
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报道了大面积(2790cm2)集成型a-SiC:H/a-Si:H叠层太阳电池的研制及稳定性实验结果,讨论了限制该电池效率的一些因素。实验电池的性能参数:Voc=40.8V,ISC=530.40mA,FF=49.4%,有效面积(2280cm2)光电转换效率EF=4.69%(AM1.5,100mWcm-2,25℃)。制备出光电子学性能优良的a-SiC:H薄膜及解决电池内部n/P结的接触问题是提高该电池性能的关键。 相似文献
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高效非晶硅叠层太阳电池的优化设计 总被引:1,自引:0,他引:1
研究了高效a-Si/a-Si/a-Si-SiGe三结太阳电池的优化设计。电流匹配是影响二端子叠层太阳电池填充因子的关键因素,在内电极的p/n界面外附加载流子复合是由少数载流子浓度、界面态和p/n界面处材料的几何因素匹配决定的。利用适当的带隙匹配和i层厚度匹配来实现a-Si/a-Si/a-SiGe三结太阳电池结构的最佳化,同时采用改善n/i界面特性的缓冲层技术,获得了Voc=2.48V,Jsc=6. 相似文献
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通过应用Scharfetter-Gummel解法,数值求解Poisson方程,对热平衡态n+(μc-Si∶H)/p(poly-Si)/p+(poly-Si)薄膜太阳电池进行计算机数值模拟.说明类p-i-n结构设计使电池获得了较高的短路电流JSC,而中间层p(poly-Si)的掺杂有利于提高电池的短波量子效率特性,还讨论了n+(μc-Si∶H)和p+(poly-Si)等层厚度对光生载流子收集的影响. 相似文献
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由氧化层厚度估算化学反应扩散掺杂量的研究 总被引:1,自引:1,他引:1
在化学反应扩散制备p/n结的过程中,伴随生成的SiO2薄膜的厚度与扩散进入硅中的掺杂量有确定的关系(QSi=cd),由此可由氧化层厚度简便地估算扩散掺杂量。 相似文献
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在实验工作的基础上,提出双层p-n异质结有机太阳电池中激子和载流子输运的理论模型。假设只有扩散到结区的激子和该区产生的激子,才对形成光电流有贡献。这些激子被有机/有机界面的内建场离解成自由载流子。而后,电子在北红(n型有机半导体)层传导,空穴在酞菁(p型有机半导体)层传导。据此,讨论了双层异质结电池的填充因子和光电转换效率均比单层肖特基型电池获得改善的机制。结合实验分析,认为在北红/酞菁异质结电池中北红(Me-PTC)层和酞菁(ClAlPc)层之间存在Forster能量转移。 相似文献
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DiscussionontheNetworkMethodforCalculatingRadiantInterchangeWithinanEnclosure¥H.J.Kang;W.Q.Tao(SchoolofEnergyandPowerEngineer... 相似文献
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快速汽相沉积法制备硅薄膜太阳电池 总被引:1,自引:1,他引:0
对在重掺杂抛光单晶硅衬底上用RTCVD法形成硅薄膜太阳电池进行了研究。衬底为〈100〉晶向p+ + 型重掺硅片,电阻率为5×10- 3Ωcm 。主要工艺过程为:在衬底上生长一层硅薄膜同时掺硼,膜厚38μm ,扩磷制备p-n 结,背面蒸Al及Ti/Pd/Ag 制背电极,正表面在扩散后生长一层SiO2 ,前面用光刻剥离法制备Ti/Pd/Ag 电极,制成的1cm 2 太阳电池,开路电压VOC= 612.8m V,短路电流ISC= 29.3m A,填充因子FF= 0.7579,效率η= 13.61。对一些影响电池特性的因素进行了研究,发现硅薄膜的掺杂浓度、发射层的掺杂浓度以及减反射层都对太阳电池的特性有较大影响。 相似文献
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给出了M/a-Si∶H/SnO2结构的平衡态能带图,用光电压法和C-V特性法对该结构的双势垒进行了实验验证。给出了背结的接触电势差,同时发现这种结构用作光电器件时小势垒的影响可以忽略。其中C-V特性及其判别法尚未见报导。 相似文献
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AnApproximateModelofMicrochannelCooling¥ShipingYu;MingdaoXin(InstituteofEngineeringThermophysics,ChongqingUniversity,Chongqin... 相似文献
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Chen Tingkuan 《热科学学报(英文版)》1996,5(2):75-81
ANumericalModelPredictionforBoilingMultiChannelFlowRateDistributionandApplicationin600MWSupercriticalVariable-PressureOnce-Th... 相似文献
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本文对305×915mm规格单结a-Si:H太阳能电池进行切割分析,指出同块电池上下同区域的“子电池”的电性能差异以及a-Si:H太阳能电池在制造过程中产生这种不均匀性的工艺设备因素,最后提出改进措施,以提高大面积a-Si:H太阳能电池的成膜质量。 相似文献