碳弧法制备碳膜

文章介绍了碳弧装置的结构和碳弧放电法制备碳膜的工艺过程。该法能获得自支撑Ｃ膜的最小和最大厚度分别为４和２０００μｇ／ｃｍ＾２。Ｃ膜的厚度用分光光度法和称重法测量．     

碳剥离膜寿命的研究

碳剥离膜用交流电弧法或者直流电弧法来制备,也可用交直流电弧来做多层膜.对不同制备方法和结构的碳剥离膜寿命进行了测量,所测膜的厚度为19μg/cm2.对影响膜寿命的一些因素进行了讨论,尤其是制备方法和碳膜结构.测量结果表明用直流电弧所做的碳膜寿命比交流电弧所做的长.     

碳剥离膜的制备

采用辉光放电裂解然法和碳弧法,为串列为加速器制备了长寿命碳剥离膜,研究了裂解室的阳极尺寸和阳,阴极之间的距离对裂解碳膜均匀性的影响,用分光光度法测量了碳剥离膜的厚度。     

U形靶框-双层结构碳剥离膜制备

本研究涉及用于兰州重离子加速器冷却储存环上的碳剥离膜的制备方法。该剥离膜采用特殊的U形靶框和双层结构，使膜的强度大为加强，以提高高真空条件下剥离膜使用寿命。采用碳弧法制备的剥离膜的有效面积较大，为10cm²，质量厚度约为150μg/cm²。碳剥离膜的X衍射谱测试结果表明，膜上的碳以非晶体石墨形式存在。     

铁靶制备技术的研究

文章介绍Ｆｅ靶制备技术及其厚度测量方法。真空蒸发和滚轧法能获得自支撑靶的最小厚度分别为８０和５６０μｇ／ｃｍ＾２。Ｆｅ靶的厚度用分光光度法和称重法测量。     

用分光光度计测量核靶厚度和均匀性

文章叙述了吸光光度法测量核靶厚度和均匀性的一般原理,并给出碳膜和金属膜的具体测量方法,本方法的厚度测量范围为5—200μg/cm~2,测量精度为10%。     

碳剥离膜结构的研究

碳剥离膜可用交流电弧法或直流电弧法来制备,也可用交直流电弧来做多层膜.不同制备方法的碳剥离膜有不同的寿命,表明不同制备方法的碳膜有着不同的微观结构.本文对不同制备方法的碳剥离膜的微观结构做了SEM/TEM照片测试,分析了碳剥离膜结构对碳剥离膜寿命的影响.     

硼靶制备技术的研究

介绍Ｂ靶制备技术及其质量厚度测量方法,静电振动,高压电喷和离心沉淀主极用于制备有衬Ｂ靶,而聚焦重离子束溅射和电子轰击可用来制备自支撑Ｂ靶和有衬Ｂ靶,Ｂ靶的质量厚度用分光光度法和称重法测量。     

平面激光诱导荧光技术在液膜厚度波动实验研究中的应用

针对传统接触式测量方法探头干扰液膜流动特性导致测量精度难以提高以及传统光学测量方法中光线折射作用限制其应用范围的问题,提出利用平面激光诱导荧光技术测量膜厚的新方法,并对该技术的测试原理、实现方式进行了详细的介绍。通过对沿流向不同位置液膜厚度的实时测量,研究了液膜波动的时序特征及纵向演化规律。结果表明,液膜厚度的概率密度分布的特征差异可作为诊断液膜波动特性的判据。     

类金刚石碳剥离膜的制备及其性能研究

采用磁过滤阴极真空弧(FCVA)技术制备了质量厚度为5~7μg/cm2的类金刚石碳(DLC)剥离膜。用XP2U型精密电子天平测试分析了100mm范围内的DLC剥离膜均匀性,结果显示其最大不均匀性小于10%。通过扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)、万能摩擦磨损试验机和X光电子谱(XPS)测试分析了DLC剥离膜的表面形貌、耐磨损特性和结构,结果显示采用双90°FCVA技术沉积的DLC剥离膜表面光滑致密、耐磨,几乎没有大颗粒的污染,表征金刚石特性的sp3键含量超过70%。在北京HI-13串列加速器上使用107 Ag-、70 Ge-、48 Ti-、28Si-、197 Au-和127I-六种典型质量的离子束对质量厚度为5~7μg/cm2的DLC剥离膜和碳剥离膜寿命进行测试比较,结果显示DLC剥离膜寿命比碳剥离膜的高2.6~10倍。     

金属铀膜的制备及应用现状

介绍了国内外目前主要采用的制备金属铀膜的技术及各制备技术的应用现状,包括机械研磨、轧制、高真空蒸发沉积,脉冲激光气相沉积和溅射沉积,重点介绍了各种制备铀膜技术的工艺条件和制备出铀膜的厚度、表面质量、成分、晶粒结构以及其表征方法.以及薄膜沉积过程中生长速率和厚度监控的常用方法.     

医用重离子加速器U型碳剥离膜的研制

碳剥离膜作为剥离器的核心组成部件是医用重离子加速器的重要装置之一,研制出满足医用重离子加速器要求的碳剥离膜至关重要。采用交流弧光放电法完成了医用重离子加速器中碳剥离膜的研制,并用扫描电子显微镜和拉曼表征手段测试分析了碳剥离膜的薄膜特性。为了不影响已注入环中离子的正常运行,靶框设计为U型,靶边框较窄仅为2 mm,碳剥离膜的有效面积为1 600 mm~2(40 mm×40 mm)。碳剥离膜的厚度为15μg·cm~(-2),理论计算结果表明该碳剥离膜的厚度均匀性为97.65%。碳剥离膜具有一定的机械韧性,可以完成碳剥离膜的自动换膜过程,且在自动换膜过程中无破裂损伤。扫描电子显微镜观测结果显示:碳剥离膜的表面平整,内部结构致密。拉曼测试结果表明:位于1 580 cm~(-1)附近的G峰明显强于位于1 300 cm~(-1)附近的D峰,说明薄膜的石墨化程度较高;2 700 cm~(-1)左右的2D峰较弱,说明石墨分子层数较多。     

碳剥离膜的厚度对电荷态分布的影响

在SSC加速器的前束流输运线上探索碳剥离膜的厚度对被剥离后束流电荷态分布的影响,是本实验的目的。因为作为SSC的注入器,我们回旋加速器束流的引出能量较高,因此碳剥离膜的平衡厚度要求大大超过一般用在串列静电加速器头部所使用的碳膜厚度,有人曾用公式x(μg/cm~2)=5.9285+22.386w-1.1292w~2来估计碳膜的平衡厚度与能量之间的关系,误差范围为100％。式中,w以MeV/A为单位。为了研究碳剥离膜的厚度对束流电荷分布的影响我们进行了如下实验。     

α能损法测厚仪的研制

α能损法测量靶膜的厚度是通过测量穿过薄膜的粒子能量的变化实现膜厚的测量。一束单能的α粒子穿过一定厚度的薄膜后由于能量损失的歧离效应会使能量有一定展宽，但中心能量是通过α能谱的峰位确定的，因此，用α粒子测量薄膜厚度有更小的测量误差。同时，这是一种无损的测量方法，采用计算机控制，方便易用。     

电喷涂制备薄靶

用一简易的电喷装置制备了各种粉末材料靶,靶衬为薄的金、铝和碳膜,靶的厚度范围为0.03—2 mg/cm~2。靶的均匀性用α测厚仪测量,在多数情况下,它小于8%。制备粉末材料靶的关键是选择针头尺寸、针头电压和准直板电压。     

核靶厚度和均匀性测量

本文系统地介绍了核靶厚度和均匀性的测量方法,包括天平称重法、石英晶体测厚法,等效空气α粒子能量损失法,吸光光度法和离子背散射法。这些方法都有各自的特点:石英微量天平的灵敏度高(0.04μg/cm~2);等效空气α粒子测厚仪的测量范围宽;吸光光度法测量快速而背散射法既能测量核靶厚度又能分析靶膜的杂质。将这几种方法结合起来,就能测量不同元素和不同种类核靶的厚度和均匀性。     

核靶厚度和均匀性测量

本文系统地介绍了核靶厚度和均匀性的测量方法,包括天平称重法、石英晶体测厚法,等效空气α粒子能量损失法,吸光光度法和离子背散射法。这些方法都有各自的特点:石英微量天平的灵敏度高(0.04μg/cm~2);等效空气α粒子测厚仪的测量范围宽;吸光光度法测量快速而背散射法既能测量核靶厚度又能分析靶膜的杂质。将这几种方法结合起来,就能测量不同元素和不同种类核靶的厚度和均匀性。     

CrAlN/TiAlN纳米多层膜界面结构的中子与X射线反射研究

采用反应磁控溅射技术在单晶硅基片上制备了CrN纳米单层膜和CrAlN/TiAlN纳米周期膜,利用非极化中子和X射线反射对膜层厚度、膜层界面粗糙度、界面扩散等表面、界面结构和性质进行了系统研究。中子反射测得的CrN纳米单层膜和CrAlN/TiAlN纳米周期膜的厚度与设计厚度的差别为3.8%～4.2%。散射长度密度（SLD）分析结果表明,膜层间和膜层与基底间界面较为清晰,扩散较少。X射线反射测得的膜层厚度较中子反射测得的膜层厚度偏高,对于较小调制周期的多层膜,界面弥散会对X射线反射结果产生较大误差。     

核靶厚度和均匀性测量

文章系统地介绍了核靶厚度和均匀性的测量方法,这些方法都有各自的特点:石英微量天平的灵敏度高(0.04μg/cm~2);等效空气α粒子测厚仪的测量范围宽;吸光光度法测量快速而背散射法既能测量核靶厚度又能分析靶膜的杂质。结合以上方法,能测量不同元素和不同种类核靶的厚度和均匀性。     

同位素208Pb靶的制备

介绍了一种弧形靶框夹芯208pb靶的制备工艺,包括核靶的制备装置和制备方法、核靶厚度和均匀性的控制和测量方法,并对结果进行了讨论.制备采用旋转蒸镀法,该法可以大大提高材料的利用率.所制靶的结构为30μg/cm2 C+361 μg/cm2 208pb+15 μg/cm2 C,同一次所制的靶平均厚度为361μg/cm2,不均匀性小于9.8%.其性能能够很好地满足超重核实验研究的要求.