X射线导常散射研究NiFe／Cu多层膜结构

本利用X射线小角衍射和漫散射技术研究了两组具有不同GMR的NiFe/Cu多层膜样品的界面结构。利用在CuK吸收边附近的能量扫描得出了关于NiFe和Cu层的结晶性情况。结果表明两组样品在界面结构和结构性上有明显的区别。另外，我们还发现NiFe和Cu层的原子密度差别比块材料的差别大27％。     

Cu／LiF团簇基多层纳米膜的结构研究

用蒸发／冷凝方法制备Cu/LiF团簇基多层膜，用广延X射线吸收精细结构（EXAFS）和慢正电子束进行研究。与相应的本材料相比，虽然未发现Cu-Cu键长有明显收缩，但其配位数减少，结构无序性增加。同时，讨论了制备条件对其微结构的影响。     

磁性[Co（t）／Cu]n周期多层膜的结构与巨磁电阻效应

用磁控溅射方法制备了一系列[C(t)/Cu(2.04nm))In(n＝20,30)周期多层膜，利用四端点法、振动样品磁强计研究了多层膜的电磁性质，样品的磁电阻随钴亚层厚度的增大有一最佳值t＝1.2nm。利用同步辐射掠入射X射线散射(衍射)技术在不同的X射线能量下研究了耦合多层腹的界面结构，探索了耦合多层膜中磁电阻增强的可能原因。     

用光电子谱研究Cu（111）上亚单层Pb的表面合金化

用同步辐射光电子谱详细研究了Cu(111）面上超薄Pb膜随厚度与退火的反应。发现室温下Cu(111）面上亚单层Pb以二维密积岛的形式生长。退火至200℃形成Pb-Cu表面合金。这种表面合金只发生在Cu(111）面的最外的一个原子层。作为在单晶Cu(111)表面诱使薄膜层状生长的活化剂，Pb的表面合金化可能会对它的活化作用产生不利影响。     

用于同步辐射单色器多层膜的研究

结合Fensnel反射系数公式与Nevot-Croce模型，设计出了可以用于同步辐射单色器的W／B4C周期多层膜，并对其光学性能（反射率）做了模拟计算。采用高真空磁控溅射技术，实现不同周期的W／BaC周期多层膜的制备。利用英国BEDE公司出产的D1高分辨X射线衍射仪，完成W／B4C周期多层膜周期结构的测量。在北京同步辐射荧光束线（4W1B）上，利用W／B4C多层膜获取准单色光，实现材料的荧光分析实验。实验结果证明，W／B4C多层膜对同步辐射白光起到了单色的作用，可以得到高强度的准单色同步辐射X射线。     

软X射线波段多层膜-多层膜光栅单色器

从多层膜和多层膜光栅的衍射特性出发,得到了适用于软X射线波段的组合式多层膜－多层膜光栅单色器的工作原理和色散性质。如果多层膜和多层膜光栅的反射面之间保持适当的夹角,该夹角取决于多层膜的周期和光栅的周期之比,则由单色器出射的光束仍保持与入射光束平行,且有很好的色散及量承原光强输出。     

CrAlN/TiAlN纳米多层膜界面结构的中子与X射线反射研究

采用反应磁控溅射技术在单晶硅基片上制备了CrN纳米单层膜和CrAlN/TiAlN纳米周期膜,利用非极化中子和X射线反射对膜层厚度、膜层界面粗糙度、界面扩散等表面、界面结构和性质进行了系统研究。中子反射测得的CrN纳米单层膜和CrAlN/TiAlN纳米周期膜的厚度与设计厚度的差别为3.8%～4.2%。散射长度密度（SLD）分析结果表明,膜层间和膜层与基底间界面较为清晰,扩散较少。X射线反射测得的膜层厚度较中子反射测得的膜层厚度偏高,对于较小调制周期的多层膜,界面弥散会对X射线反射结果产生较大误差。     

高功率脉冲电子束溅射法制备钴-钛多层膜

本文介绍一种利用高功率脉冲电子束溅射法制备金属多层膜的新方法。强脉冲电子束轰击金属靶将产生瞬态高温等离子体,从这种等离子体中飞出的金属离子沉积在附近的衬底上,从而制得Co/Ti系和其他多种金属多层膜。本文报道了对多层膜进行的TEM和AES研究的结果。     

偏压对铀表面多弧离子镀Ti/TiN多层膜的结构及抗腐蚀性能影响研究

在不同偏压下,利用多弧离子镀技术在U和Si基体上制备了Ti/TiN多层薄膜。利用X射线衍射仪和扫描电镜对多层膜的组织结构和薄膜界面形貌进行了分析。研究表明：脉冲偏压不但影响多层膜物相各衍射峰的强度,还诱导新相Ti₂N的出现。制备的多层膜呈“犬牙”交错的层状、柱状结构生长。随脉冲偏压的增加,柱状晶结构细化,薄膜变得更加致密。通过50μg/gCl^－溶液腐蚀研究表明：Ti/TiN多层膜提高抗腐蚀性能源于层状失效,使得腐蚀介质到达基体更加困难,抗腐蚀性能优良。     

离子束辅助沉积TiCN多层膜的研究

利用离子束辅助沉积设备，通过特殊的工艺在45号钢和硅片上生长出具有不同结构的复合多层TiCN膜。通过冷场发射扫描电镜，观察到膜层呈多层晶态和非晶态的复合结构；检测到划痕仪划过的划痕十分平滑，显示出晶态和非晶态膜层与基底具有良好的结合力；用显微硬度计检测膜层的表面硬度，发现不同结构和不同成份的组合对硬度影响很大；在摩擦磨损试验机上进行干摩擦试验，结果表明膜层具有较低的摩擦系数。     

FeMn／Co多层膜界面插入Bi前后的微结构分析

研究了FeMn／Co多层膜界面插入Bi前后微结构的变化。利用磁控溅射法制备了FeMn/Co多层膜，利用X射线小角反射和漫散射技术进行了表征，得到结果如下：插入Bi之前，在FeMn/Co界面处确实存在FeMnCo的成分混合存在，插入Bi之后，FeMnCo的成分中掺入了Bi。而且，在FeMn/Co界面处Fe，Mn，和Co的元素分布不相同。     

MEVVA离子注入技术制备DLC:Ni多层厚膜

采用金属蒸汽真空弧（Metal Vapor Vacuum Arc,MEVVA）离子源注入技术,将Ni离子注入到类金刚石（Diamond．1ikeCarbon,DLC）膜中,并重复沉积和注入过程,制备出2个层数分别为10层和15层、厚度达1．0μm和1．5μm、注入剂量不同的DLC：Ni膜样品。性能测试结果显示,膜内应力得到有效释放,膜基结合紧密,仍保持较高sp3含量以及较高硬度和弹性模量,是一种制备DLC厚膜的有效方法。     

离子束辅助沉积TiN/Ag多层膜的抗菌性和抗腐蚀性

用离子束辅助沉积（IBAD）方法在医用不锈钢317L上制备TiN／Ag多层膜。用琼脂平板法测试了样品的抗菌率，测试菌种为革兰氏阴性大肠杆菌（E．coil）和革兰氏阳性金黄色葡萄球菌（S．aureus）；用电化学腐蚀的方法检测了薄膜在Hank’s模拟体液中的耐腐蚀性能；通过X射线光电子能谱（XPS）、X射线衍射（XRD）和俄歇电子能谱（AES）分析研究了薄膜的结构特征和各元素的深度分布。研究结果表明：当多层膜TiN／Ag的调制周期为8nm时（5nm TiN＋3nm Ag），表现出很强的抗菌性，抗菌率达到99％以上；而且抗腐蚀性能比医用不锈钢317L有所提高，接近单层TiN薄膜。     

用于不稳定核性质研究的激光共振电离技术

不稳定原子核的基本性质反映了核的内在结构和有效相互作用，可用于研究不稳定核的奇特结构。激光核谱技术通过测量核外电子光谱的超精细结构和同位素移位，可以核模型无关地提取原子核的多个基本性质，是研究不稳定核性质和结构的有力工具之一。多步激光共振电离方法是测量原子或离子超精细结构和同位素移位的方法之一。基于此，国际上发展了多种共振电离谱实验技术，用于放射性核束装置上开展不稳定核基本性质和结构研究。本文首先介绍了激光共振电离方法，以及由此发展的各种共振电离激光谱实验技术。随后详细讨论了近十年来刚发展起来的共线共振电离谱技术。此技术可同时实现超精细结构谱的高分辨和高灵敏度测量，正在核素版图大质量范围内的不稳定核性质和结构研究中发挥重要作用。最后分析了用于国内放射性核束装置的共振电离激光谱技术的发展现状及应用前景。     

管道多支点激振的抗震分析(响应谱法)

本文概述多支承点激振的管道的抗震分析,通过数学演算从抗震分析中常用的响应谱法引出多支点激振的多层响应谱法,并用实例说明多支点激振的多层响应谱法和单层响应谱法所得结果的差别,本方法也可用于多点激振的其他结构问题。     

软X射线多层膜技术

软Ｘ射线多层膜技术是目前工程光学和应用光学中的一个热点,用多层膜可以组成类似于可见光波段的各种软Ｘ射线光学仪器,如望远镜,显微镜,投影光刻系统和光谱仪器等,文章简要介绍了长春光学精密机械研究所近年来软Ｘ射线多层膜技术的研究概况。     

上海光源时间分辨超小角散射线多层膜单色器的设计

上海光源二期时间分辨超小角散射线站(BL10U2)需要一台多层膜双晶单色器(Double Multilayer Monochromator,DMM),采用Pd/B4C镀层,能量范围覆盖8～15 keV。分析了基于液氮间接冷却条件下多层膜的热变形,介绍了单色器的结构设计。通过对多层膜晶体姿态调节机构引起的误差及四杆运动机构进行分析,设计了一种基于Pivot和轴承调节的Sinbar机构,以期达到单色器稳定性和超高分辨率等要求。     

磁控溅射法制备金/钆柱腔工艺研究

采用直流磁控溅射方法制备金/钆(Au/Gd)多层膜,并研究不同制备参数对多层膜结构与性能的影响。溅射压强高于1Pa时,Au膜与Gd膜的沉积速率均随溅射压强的增大而下降;在较低溅射气压下,随着溅射气压的降低,金膜与钆膜的均方根粗糙度有所减小;随着溅射功率的减小,金/钆多层膜的周期性结构变好,界面更为清晰。本工作制备了不同原子比的金/钆膜柱腔,探讨了有关柱腔成型的解决方法。     

PIIID技术制备Ti/DLC纳米多层薄膜

采用等离子体浸没离子注入与沉积（PIII＆D）技术在2Cr13钢表面制备了Ti／DLC纳米多层薄膜，分析了膜层的微观结构和机械特性。实验结果表明：纳米多层膜具有完整、清晰的调制层结构，薄膜的显微硬度均得到明显的提高，硬度较低的膜层具有较好的膜基结合强度和优良的摩擦性能，从综合性能看：纳米多层薄膜保持了类金刚石（DLC）薄膜低摩擦系数的特性，具有良好的承载能力以及膜-基结合特性。     

8.0nnX射线激光反射镜Mo／B4C多层膜制备及其特性

用磁控溅射法制备工作波长约８．０ｎｍ的Ｍｏ／Ｂ４Ｃ的多层膜作为正入射短波长（λ〈１０．０ｎｍ）软Ｘ射线激光反射腔的反射镜,经Ｘ射线衍射仪和ＴＥＭ检测,多层膜周期结构准确,热稳定性高。