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101.
在经NH3等离子体氮化的Si(100)衬底上。用等离子体增强化学气相淀积(PECVD)的方法生长了ZnO缓冲层,经X射线衍射(XRD)测量,得到了单一取向的ZnO(0002)膜。在此ZnO缓冲层上利用低压金属有机化学气相淀积(LP-MOCVD)方法生长了较高质量的ZnCdSe/ZnSe量子阱。通过不同阱宽的ZnCdSe/ZnSe量子阱生长和测量,得到了多级共振拉曼峰。从发光谱中可见,在1520nm附近有很强的发光,而在未覆盖ZnO的Si衬底上直接生长的ZnCdSe/ZnSe量子阱结构,其光致发光(PL)谱未见发光。可见,在氮化的Si衬底上覆盖ZnO膜生长的ZnCdSe/ZnSe量子阱质量较好。是一种在Si衬底上生长Ⅱ-Ⅵ族化合物半导体材料的有效方法。 相似文献
102.
GaAlAs/GaAs量子阱材料的光荧光谱研究 总被引:2,自引:0,他引:2
分子束外延生长GaAlAs/GaAs量子阱材料时,适当的衬底温度和Ⅴ/Ⅲ束流比是改善AlGaAs材料生长质量的重要因素。对GaAs、GaAlAs材料的生长条件进行优化,获得了高质量的量子阱材料,有源层分别为8nm、10nm、12nm时,10K下的PL谱半峰宽(FWHM)分别为6.42meⅤ、6.28meⅤ、6.28meⅤ。 相似文献
103.
采用分子束外延技术,在GaAs衬底上生长GaAs,AlAs和AlGaAs时,实现RHEED图像和RHEED强度振荡的实时监测已被证明是一种有效工具。通过RHEED可讨论GaAs表面结构和生长机制,并可以估算衬底温度,更重要的是能计算出材料的生长速率。RHEED强度振荡周期决定生长速率,每一个周期对应一个单层。实验测量GaAs的生长周期为0.82s,每秒沉积1.22单分子层,AlAs的生长周期为2.35s,每秒沉积0.43单分子层。 相似文献
104.
105.
106.
粉末试样的扫描电镜观察方法 总被引:2,自引:1,他引:1
阐述了用扫描电镜研究粉末试样的分散技术、固定方法和镀膜技术。对于各种不同粒度的粉末试样,推荐了不同的既简便又可靠的制备方法。研究了用扫描电镜观察粉末试样时加速电压和束流的选择。通过研究和试验获得了实用的试验技术和理想的观察结果。 相似文献
107.
108.
韩国教师收入高且地位尊贵,可谓富且贵。这与国人熟悉的穷教书匠和叫兽形象正好相反。韩国政府特别立法要求:国家及地方自治团体既要努力造成一种全社会尊敬教师的气氛,又应特别优待教师的报酬 相似文献
109.
110.