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随着第三代半导体SiC和GaN的快速发展,传统的Si基器件用封装材料已不能满足功率器件在高功率密度和高温环境下可靠服役的需求。纳米铜烧结连接技术不仅能够低温连接、高温服役,同时具有优异的导热、导电性能和相对于纳米银较低的成本,在功率器件封装研究领域备受关注,纳米铜焊膏成为最有潜力的耐高温封装互连材料之一。本文从纳米铜焊膏的制备、影响烧结连接接头性能的因素以及接头的可靠性3个方面综述了当前纳米铜烧结连接技术的研究进展,阐明了纳米铜颗粒的氧化行为及对应措施,并重点论述了纳米铜烧结连接接头的高温服役可靠性与失效机理,旨在促进低成本的纳米铜烧结连接技术在高性能、高可靠功率器件封装中的应用。 相似文献
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研究了直接扩散焊接时接头的组织与性能,并研究了不同中间层材料以及不同中间层形态对接头组织和性能的影响。结果表明:直接扩散焊接时由于接头的形成伴随着硬脆碳化物反应层的生成而使接头强度降低。加入中间层,尤其是以镍为中间层时,由于接头中不形成硬脆反应层而具有较高的强度,其剪切强度达到甚至超过石墨本身的剪切强度。中间层形态对接头组织状态及性能有影响。 相似文献
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Ti/Al扩散焊的接头组织结构及其形成规律 总被引:3,自引:0,他引:3
以TA2和L4为焊接材料进行扩散焊,结合剪切断口形貌,XRD分析,SEM分析和接头强度测试,研究了Ti/Al扩散焊的接头形成规律。结果表明,接头形成过程包括互扩散形成冶金结合、冶金结合区生成新相、新相颗粒长大连接成片层、新相片层按照抛物线规律生长4个阶段。TiAl3是扩散反应的初生相,且在较长时间内是唯一生成相。它的生成具有一定延迟时间tD,tD受温度影响很大。接头强度取决于扩散区中冶金结合的程度及界面结构,在TiAl3新相连接成片层之后,接头强度达到甚至超过L4型Al母材。接头剪切断裂发生在界面扩散区的Al侧或Al母材内部。 相似文献
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本文综述了耐高温轻质结构材料TiAl基合金本身及其与其它材料的连接研究。阐述了熔焊、钎焊、扩散焊、摩擦焊等主要连接方法的现状,并指出了实用化研究方向。 相似文献
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