低密度强抑制钻井液室内研究

针对普光气田千佛崖组以上陆相地层特点，探索室内低密度低固相条件下影响钻井液流变性能的因素，优选适用于低密度强抑制钻井液的提粘切处理剂、降滤失剂。初步确定室内低密度强抑制钻井液体系配方，同时对钻井液体系进行综合性能评价，结果表明该体系具有良好的抑制防塌及悬浮携砂性。     

CemCRETE水泥浆固井技术概述

近年来,国外固井水泥浆体系发展很快,并逐步形成了系列化的产品。介绍了LiteCRETE低密度水泥浆、LiteCRETECBM煤层气固井水泥浆、DensCRETE高密度水泥浆、DeepCRETE深水水泥浆、寒地LiteCRETE水泥浆及SqueezeCRETE挤水泥用水泥浆几种不同的水泥浆体系及其应用情况。上述水泥浆体系较好地解决了提高低压易漏长封固段固井、易受伤害低压煤层气井固井、高压油气井固井、深水低温井固井、寒地低温井固井及补救挤水泥的成功率的问题,对提高中国复杂井的固井成功率及下一步开展有针对性的固井技术研究工作具有较好的借鉴意义。     

计算高温高压条件下的钻井液当量循环密度

介绍了在高温高压的井眼条件下,温度和压力对钻井液当量循环密度的影响以及由此对井底压力影响的研究结果.高温会使井眼中的流体发生膨胀,而在深井中的高压则会压缩流体.如果没有考虑到这两种相反作用的影响,就会在计算井底压力时出现较大误差.温度和压力还会影响钻井液的流变性能.开发出一个称为DDSimulator的模拟程序,用于模拟循环条件下的井眼.用宾汉塑性模型来表征所研究的钻井液的流变特性,其流变参数与温度和压力呈函数关系.在DDSimulator模拟程序中使用了Crank-Nicolson数值离散图来绘制井眼温度分布曲线.模拟结果显示,地温梯度越高,井底压力越低;钻杆入口温度对井底温度和压力无显著影响;循环速度越高,井底温度越低、井底压力越高.     

用于磁场测量的高精度500A/30V零压开关直流稳流电源

研制了一种带有无源辅助网络的全桥移相脉宽调制零压开关(FB PSPWMZVS)高精度磁铁稳流电源,并在电磁铁磁场测量中得到应用,其电流稳定度在8h内优于±1×10-4。     

SystemView与MATLAB数据通信的研究

在很多应用场合，需要在System View与MATLAB之向进行数据通信。本文提出了一种以M-LINK为桥梁的通信方式，并给出了具体操作步骤。为了验证通信方式的可行性，以PCM为例，探讨如何通过M-LINK模块进行两种软件的数据通信，实现通信系统联合仿真。仿真结果表明，本文提出的通信方式是可行的。     

VB在图像显示效果设计中的应用

本文针对Visual Basic中图形控件显示图像效果的单调性,结合实际教学体会介绍了应用VB编程采解决这一实际问题的方法。     

分析介质光波导传播特性的Cole—Hopf变换法

采用Cole-Hopf变换法，将平板光波导导模所满足的二阶常微分方程（Helmholtz方程）变换成一阶常微分方程（Riccati方程），用较简单且有效的方法分析导模的特性。给出了多层阶跃型及渐变型平板波导导模的精确解析解和数值解法及实例；给出了非线性平板波导传播特性的数值计算法及实例。     

基于矢量平均的信道估计算法

提出一种适用于DS-CDMA无线通信系统的低计算量而性能良好的信道估计算法。在DS-CDMA系统中，当接收信号经过解扩或多用户检测等时域预处理后，可以认为干扰大大减弱、期望信号在处理后的信号中占主要地位。这样，用预处理后信号相关阵的最大特征值对应的特征矢量可以很好地近似期望信号的信道矢量。但是，直接特征分解需要很大的计算量，特征跟踪计算量较低，但瞬态性能较差。本文提出一种基于相关矩阵列矢量平均的信道估计算法，该算法不需要特征分解或跟踪。仿真结果表明：新算法在降低计算量的情况下可以获得同直接特征分解方法几乎相同的性能。     

中国油气供应安全对策研究

在对相关因素进行分析的基础上，提出我国石油与天然气安全对策：立足国内资源，加快国内油气的勘探开发；拓宽进口油气的来源，分散进口风险,实施海外油气扩张战略；建立石油和天然气期货市场;建立和完善战略储备，减少突发事件对石油和天然气供应的影响;提高油气利用率，实行节能政策; 进一步加快天然气的开发和利用,实施“以气代油”; 调整交通运输政策,发展天然气汽车;加强石油与天然气领域的国际合作; 以法治气，以法促气。     

Effects of surface roughness of substrates on the c-axis preferred orientation of ZnO films deposited by r.f. magnetron sputtering

The c-axis preferred orientation of ZnO film is the most important factor for its successful application in piezoelectric devices. The effects of surface roughness of the substrate on the c-axis preferred orientation of ZnO thin films, deposited by radio frequency magnetron sputtering, were investigated. During sputtering, the oxygen content in the argon environment used was varied from 0 to 70% at a total sputtering pressure of 10 mTorr. Very smooth Si, smooth evaporated Au/Si, smooth evaporated-Al/Si, and rough sputtered-Al/Si were used as substrates. Their r.m.s. roughnesses, as measured by atomic force microscopy, were 1.27, 17.1, 21.1 and 65-118 Å, respectively. The crystalline structure and the angular spread of the (0 0* 2) plane normal to the ZnO films were determined using X-ray diffraction and X-ray rocking curves, respectively. The crystallinity and the preferred c-axis orientation of the ZnO films were strongly dependent on the surface roughness of the substrates rather than on the oxygen content of the working environment or on the chemical nature of the substrate.