微波电子回旋共振等离子体溅射法沉积ZnO薄膜

ＺｎＯ薄膜具有强的压电和光电效应，广泛用于制作各种声电和声光器件中．本文报道了用微波ＥＣＲ等离子体溅射法沉积了ＺｎＯ薄膜，并研究了该法制备ＺｎＯ膜的工艺．结果表明，所形成的ＺｎＯ膜的性质强烈地依赖于溅射沉积条件．     

腔体压力对纳米碳管结构的影响

在镍催化剂的催化作用下,利用微波等离子体化学气相沉积法合成了纳米碳管,分析了不同腔体压力对所合成的碳材料结构的影响.研究表明,当腔体压力增大时,基片温度上升,有利于纳米碳管管状结构的形成,提高纳米碳管的石墨化程度.     

硼浓度对沉积在刀具上的金刚石膜表面的影响

在热丝CVD装置中,以氢气、丙酮、硼酸三甲脂为原料,在YG6上制备了含硼金刚石薄膜.研究丙酮中硼含量对薄膜表面晶形及晶粒度的影响.结果表明,薄膜中渗入适量的硼不改变薄膜表面晶形,细化晶粒.有利于薄膜附着力的提高;而过高的硼含量恶化金刚石薄膜质量,降低薄膜附着力.     

基于VLS理论的准一维碳材料生长模型

气-液-固相理论(VLS)能有效地用于准一维碳材料生长的分析研究.以镍为催化剂,利用微波等离子体化学气相沉积法制备了弹簧状碳纤维.根据准一维碳材料的生长特点,在VLS理论基础上,通过扩散模型的建立,分析了催化剂对一维碳材料形状的影响,指出了催化剂形状的不对称是造成一维碳材料弯曲的主要原因.     

腔体压力对纳米碳管结构的影响

在镍催化剂的催化作用下，利用微波等离子体化学气相沉积法合成了纳米碳管，分析了不同腔体压：匀对所合成的碳材料结构的影响．研究表明，当腔体压力增大时，基片温度上升，有利于纳米碳管管状结构的形成，提高纳米碳管的石墨化程度．     

高取向金刚石薄膜的制备

目的研究不同甲烷体积分数、不同氮气流量分别对金刚石(111)面、(100)面生长的影响,实现在最佳工艺下制备高取向金刚石薄膜。方法采用微波等离子体增强化学气相沉积法制备高取向(111)面、(100)面金刚石薄膜,实验前一组(1~#—3~#)以CH_4/H_2为气源,后一组(4~#—5~#)以CH_4/H_2/N_2为气源,通过采用SEM、XRD分析不同甲烷体积分数下(111)面和不同氮气流量下(100)面的生长形貌、晶粒尺寸以及金刚石晶面特征峰强弱,同时还使用Raman测试两组分别改变甲烷体积分数、氮气流量工艺下金刚石特征峰、石墨峰的变化趋势。结果前一组随着甲烷体积分数的增加,金刚石(111)面逐渐清晰可见,低甲烷体积分数为2%时,H等离子体对金刚石表面刻蚀严重,形成少量表面粗糙的(111)面,当甲烷体积分数升到4.5%时,(111)面生长非常均匀,金刚石质量较高,继续提高甲烷体积分数,薄膜中非金刚石的含量增加,金刚石质量下降。后一组随着氮气流量的增加,金刚石(100)面的生长非常整齐平滑,在氮气流量为5 cm~3/min时,(100)面比较粗糙,由于有含氮基团的加入,其生长速率加快,进一步升高氮气流量到10 cm~3/min时,含氮基团的择优生长促进(100)面占据整个界面,同时削弱了其他晶面的生长。结论前一组甲烷体积分数为4.5%时,(111)面占据整个生长面,生长非常均匀,同时XRD测试金刚石(111)面特征峰也达到最强。后一组氮气流量为10 cm~3/min时,(100)面表面光洁度和平整度达到最佳。     

Numerical Analysis of Plasma Initiated Polymerization

Plasma initiated polymerization is a kind of well-known radical polymerization mechanism, but it has the ＇living＇ polymerization feature and produces ultra-high molecular weight polymer. In order to explain such phenomena, we calculate the basic data of plasma initiated polymerization of methylmethacrylate （MMA） according to the principle of polymer physics and chemistry. It results in that the radical concentration ranges from 10^-12mol/L to 10^-16mol/L corresponding to the radical life in 10^4s to 10^8s, which means the radicals have a long lifetime. Moreover because of the long lifetime radicals it causes a unique feature rather than the common radical polymerization, and also shows no ＂living polymerization＂. It is noticed in experiments that there are two key factors playing important roles. One is the effective radical amount produced during the plasma discharging while the another is the diffusion factor.     

射频溅射法生长ZnO薄膜的参数研究

以ZnO陶瓷为溅射靶材,通入纯氩气,使用射频溅射法在玻璃基片上制备ZnO薄膜,研究了气体压强、基片温度、溅射功率等对薄膜性质的影响。通过XRD及原子力显微镜(AFM)等检测得出制备C轴(002)ZAO薄膜的最佳工艺条件为:溅射压强0.4Pa;溅射功率200W;基片温度300℃。     

平衡盘间隙流动分析及最佳刚度计算

根据平衡盘问隙流动的特点，对粘性流体N-S方程进行了简化，求得平衡盘问隙流动速度、压力、泄漏量和平衡力等参数，并探讨了平衡盘最佳刚度与其结构参数、轴向间隙的关系，得出了灵敏度的取值范围。     

真空波导磁场控制型ECR溅射法的实验研究

微波电子回旋共振（ｅｌｅｃｔｒｏｎ ｃｙｃｌｏｔｒｏｎ ｒｅｓｏｎａｎｃｅ，ＥＣＲ）等离子体溅射法是能在低温下制备高质量薄膜的最高镀膜技术。在该技术中，微波输入窗口易受金属粒子污染，导致微波在窗口反射，从而影响装置的正常工作。本文初步探讨了在ＥＣＲ溅射装置中，采用真空波导与共振腔连成一体，在连接处配置磁轭（纯铁），通过改变共振腔与波导连接处的磁场分布，能有效地避免微波窗口污染的技术途径，并较细致的