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防雷防静电装置安全性能检测,是雷电和静电防护工作的重要保障措施,防雷电装置检测所依据规范和安全措施以及检测的内容、程序以及应注意的事项是作好此项工作的保障,现将我们在工作中的一些经验和体会写出来与大家探讨交流,不足之处请大家批评指正。 相似文献
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变压器间存在着特性差异,而变压器的有功功率损失和无功功率消耗随负载又是非线性变化的,因此存在变压器负载合理分配,选择最佳点的问题,即变压器的负载经济分配。通过例子说明了它的节电效果。 相似文献
75.
长江防洪系统洪水分类预报调度研究 总被引:2,自引:1,他引:2
研究以三峡工程为中心的长江防洪系统洪水优化调度,提出在聚类分析的基础上把历史洪水分成若干个类型,采用多因素综合评判方法对未来洪水进行分类预测,再由预测洪水类型和各类典型洪水优化调度规则进行预报调度。 相似文献
76.
TiO2超细微粒的有序组装 总被引:2,自引:0,他引:2
将水解法制备的TiO2超细闰溶胶液滴于水平旋转的高取向热解石墨(HOPG)基底上,可形成一定面积的有序性排列较好的二维结构,基底HOPG具有原子级粗糙度表面。沿液膜铺展方向取点进行原子力显微镜观察,证实了在扩展液膜边缘的TiO2超细微粒有序性最好,而且粒径最小;造近落滴位置处,粒子多聚集成一定的畴结构,粒子的粒径也增大。此外,对比观察了落滴于水平云母基底上形成膜的表面形貌,进行了相应的讨论。 相似文献
77.
78.
Ultra-thin (20-100nm) polymethylmethacrylate(PMMA) films prepared by Langmuir-Blodgett techniques have been explored as high resolution electron beam resists. A Hitachi S-450 Scanning Electron Microscope (SEM) has been refitted for a high resolution electron beam exposure system. The lithographic properties and exposure conditions of LB PMMA films were investigated. 0.15μm lines-and-spaces patterns were achieved by using the SEM as the exposure tool. The results demonstrate that the etch resistance of such films is sufficiently good to allow patterning of a 20 nm aluminum film suitable for mask fabrication. 相似文献
79.
80.
氧化锌薄膜的电化学沉积法制备及受激发射研究 总被引:7,自引:3,他引:4
采用一种简单的电化学沉积法,在三电极化学池中,以单一的硝酸锌水溶液作为电沉积液,制备了高光学质量的半导体ZnO薄膜。透射光谱测量表明其光学带隙为3.35eV,400~2000nm波段的光学透过率大于80%。X射线衍射(XRD)和原子力显微镜(AFM)研究表明,ZnO薄膜为纤锌矿结构的无序多晶颗粒膜,微晶尺寸小于250nm。当用355nm的皮秒脉冲激光作为抽运源垂直入射薄膜表面时,可以检测到400nm附近的近紫外受激发射光,其强度随入射强度呈超线性增长关系,阈值在196.8kW/cm^2处,并且激光发射是多模的和各个方向的,还与被激发的面积有关,表现为随机激光发射机制。 相似文献