苯乙烯-马来酸酐共聚物及其合金系列

含或不含橡胶改性剂的苯乙烯-马来酸酐共聚物本身是一种优良而不贵的高分子材料,由于它在某些聚合物体系中,具有一定的相容性,能与PVC、ABS、PC等组成性能优异的合金材料,从而使材料的性能与成本比达到最优化,同时推出从PVC到PC之间不同使用温度的新材料。一、SMA共聚物-Dylark树脂苯乙烯-马来酸酐(SMA)共聚物的发现可追溯到很早以前,但产物很少作为高分子结构材料使用。聚合物多相结构和合金概念的提出为高分子科学工作者开发新品种     

Al—Si镀层和Al—Zn—Si合金镀层的缝隙腐蚀

应用电化学技术，研究了Ａｌ－１．６％Ｓｉ镀层和５５％Ａｌ－Ｚｎ－１．６％Ｓｉ合金镀层，在３％ＮａＣｌ溶液中的缝隙腐蚀历程，试验表明，５５％Ａｌ－Ｚｎ－１．６％Ｓｉ合金镀层，耐缝隙腐蚀优于Ａｌ－１．６％Ｓｉ镀层，钝化处理后，两类镀层的腐蚀孕育期延长，缝内外偶合电流减小，耐缝隙腐蚀性能有较大提高。     

紫外线对BaFCl：Eu光激励发光的增强效应

对X射线辐照后的BaFCl:Eu样品，通过研究紫外线辐照对光激励发光的影响，发现在一定条件下紫外线对光激励发光有增强的作用，并且根据光谱研究提出了光激励发光的过程为Eu^2 和陷阱争夺激发态电子的观点，从机理上对这一现象进行了解释。     

Al—1.6%Si镀层和55%Al—Zn—1.6Si合金镀层的缝隙腐蚀

应用电化学技术研究Ａｌ－１．６％Ｓｉ镀层和５５％Ａｌ－Ｚｎ－１．６Ｓｉ合金镀层在３％ＮａＣｌ溶液中缝隙腐蚀历程，试验表明５５％Ａｌ－１．６％Ｓｉ合金镀层耐缝隙腐蚀优于Ａｌ－１．６％Ｓｉ镀层；钝化处理后，两类支的缝隙腐蚀孕育期延长，缝内外偶合电流减小，耐缝隙腐蚀性能有较大提高。     

Al－1．6％Si镀层和55％－Al－Zn－1．6％Si合金镀层的缝隙腐蚀

应用电化学技术研究了Ａｌ－１．６％Ｓｉ镀层和５５％Ａｌ－Ｚｎ－１．６％Ｓｉ合金镀层在３％ＮａＣｌ溶液中的缝隙腐蚀历程。试验表明５５％Ａｌ－１．６％Ｓｉ合金镀层耐缝隙腐蚀优于Ａｌ－１．６％Ｓｉ镀层；钝化处理后，两类镀层的缝隙腐蚀孕育期延长，缝内外偶合电流减小，耐缝隙腐蚀性能有较大提高。     

Ca替代Y对YBa_2Cu_3O_(7-δ)超导电性的影响

用固相反应方法制备了Y_(1-x)Ca_xBa_2Cu_3O_y(x=0.0,0.02,0.05,0.10,0.15,0.20,0.50)系列样品,发现超导转变温度随x增加而呈线性下降。粉末x-射线衍射结果表明,在x≤0.15范围内,体系呈现出很好的正交单相性,晶格参数无明显变化。用碘滴定方法测量了体系的氧含量,发现随着x的增加,Cu的平均价态降低,氧含量减少。把上述结果同Y_(1-x)Pr_xBa_2Cu_3O_y作比较,表明氧含量和Cu的平均价态均不是决定Tc的直接因素。讨论了氧含量改变的可能位置和引起超导电性发生变化的原因。     

酞菁类化合物在光导材料方面的应用

介绍了可作为有机光导材料的酚菁类化合物及其光电导性能。     

WC-Co硬质合金表面MW-PCVD制备金刚石薄膜去钴预处理的研究

研究了ＷＣ－Ｃｏ硬质合金刀具表面微波等离子体化学气相沉积（ＭＷ－ＰＣＶＤ）制备金刚石薄膜时不同的去钴预处理方式的影响。扫描电子显微镜形貌观察和喇曼谱分析表明，利用氢－氧等离子体处理方式有显著的去钴效果，相应沉积获得的金刚石薄膜质量相对较高。与酸腐蚀处理相比，微波等离子体化学气相沉积装置中实现氢－氧等离子体处理方式具有独特的优越性。     

导电聚苯胺（PAn）的特性及应用

聚苯胺是导电高分子合化中的一种极应用前途的高分子材料。     

用光电化学方法测定n-InP的物理参数

应用光电化学方法,根据Butler-Gartner模型测定了n-InP半导体材料的少子扩散长度、吸收系数、跃迁模式和禁带宽度,并将结果与文献上用物理方法测得的数据进行了比较。