LPV重复过程的H_∞滤波新方法

将时滞线性参数变化(LPV)思想应用于重复过程中,研究了其H∞滤波问题。基于参数依赖Lyapunov函数方法推出了该重复过程的稳定性和滤波器设计的充分条件。通过投影定理引入两个附加矩阵,解除了重复过程矩阵和依赖于参数的Lyapunov函数矩阵之间的耦合,使得到的条件便于求解。仿真实例证实了该设计方法的有效性。     

基于洛伦兹范数的医学图像超分辨率重建研究

在超分辨率图像重建(SR)模型中,为了达到良好的重建效果,选择一个合适的代价函数是研究的重点。采用SR重建模型中的差错项选择了洛伦兹范数,正则化项选择了吉洪诺夫正则化,重建过程采用了迭代方法。提出的算法可以有效地解决医学图像SR重建过程中的去异值点和图像边缘保持的两大关键问题,达到良好的重建效果。为了验证上述算法的有效性,就一系列添加了运动模糊和不同噪声的低分辨率MRI医学图像进行了SR重建,并且与基于L2范数的重建算法的重建效果进行了比较分析。实验结果显示,所提算法具有良好的实用性和有效性。     

基于WinForm的航天电磁继电器动态特性测试系统软件设计与实现

动态特性是航天电磁继电器的重要特征之一，在继电器的生产与研究过程中需要进行测试与分析。现有条件下，动态特性测试系统测得的结果以文本和图像形式保存在本地计算机中，研究人员需采用人工作业的方式对文本文件和图像文件进行分析。针对上述问题，本文设计了一套基于WinForm的动态特性测试系统软件，具体分为客户端软件与服务器软件，双方基于Socket多线程通信实现文本文件和图像文件传输的及时性与可靠性，突破了研究人员本地作业的空间局限性；基于双缓冲技术绘制文本文件的曲线图，加强对测试结果的直观性分析；基于图像调用与局部放大技术，实现对图像的有效处理与显示。测试结果表明，所设计的系统软件运行稳定，分析与显示结果直观准确，具有较高的使用价值。     

一种透析机自动排台优化算法的实现与应用

针对目前血液透析排台模式复杂化、排台程序固定化等问题,设计了一种透析机自动排台优化算法,以固定时间间隔为单位自动更新患者治疗排台信息,并在此基础上设计了排台管理功能,将排台算法和管理功能相结合,建立血液透析自动排台管理系统。该系统的建立降低了排台的复杂性,提高了透析中心的工作效率,同时也进一步提高了血液透析中心的信息化建设水平。     

基于记忆模型学习的商务Agent协商设计

将基于记忆模型学习和Agent结合起来应用到商务协商过程,可在一定程度上促进机器学习、Agent技术及电子商务的共同发展。将Agent技术引入到记忆模型学习中,给出了基于记忆模型学习的商务Agent协商的设计思路,完成了记忆模型、协商协议的设计,并搭建实验系统平台,设计了原型系统,经过实验可以在嵌入式移动设备上实现商务协商,从而验证了该协商的有效性。     

自动锚泊定位系统的张力混合优化算法

针对半潜式海洋平台定位系统的经济性及安全性问题,提出一种能在保证锚链力场均匀分布前提下,实现海洋平台快速准确定位的新方案。该方案以张力的优化结果作为锚链切换的临界值,同时针对系统的不确定性及海洋环境扰动的特点,设计积分型最优保性能控制器来产生抵抗环境扰动所需的控制力。锚链张力优化方面,参照Memetic算法思想,结合遗传算法与模拟退火算法的优点,构造混合算法来优化锚链的张力分布,提高张力优化速率。最后,以某型号的半潜平台为对象进行仿真分析,结果表明提出的方案均衡了张力场的分布,减小了系统的稳态误差并可以保证系统在参数变化时,保持稳定。     

基于灰色关联度的提升小波域图像融合算法

针对多聚焦图像,提出了一种基于提升静态小波变换(Lifting Stationary Wavelet Transform,LSWT)和灰色关联度相结合的图像融合算法.首先将待融合的两幅图像分别进行提升静态小波变换,低频分量采用平均法融合.其次针对低频分量和各个方向的高频分量,分别计算以每个像素为中心的方块的能量和均值.然后按照一定的融合规则,分别得到高频分量融合后的值.最后进行提升小波逆变换,得到融合后的图像.实验结果显示,该方法融合效果较好,优于传统算法.     

二维优化排样方法及实现技术

在工业应用领域中存在大量的二维下料问题,其中应用最多的是矩形件下料问题.矩形件下料问题的关键是寻找二维平面的优化布局.针对工业生产中实际存在的问题与约束条件,给出了新的规则设计理论和数据模型,利用覆盖率和有效覆盖率的概念来控制余料合并操作的执行,运用布局规则、组合规则和切割规则给出了一种新的启发式算法.实验分析和工业应用证明,该启发式算法可以有效地提高板材的整体利用率,极大地减少了板材损耗.     

真空镀膜中膜厚均匀性的研究

在半导体器件生产过程中 ,器件的引线大都是由蒸镀的方法来解决的。蒸镀不仅能制备引线 ,同时也是传感器件敏感膜制作的主要手段。但蒸镀中常常发现膜厚度不均匀 ,影响膜厚的因素很多 ,实际生产中 ,陪片由于与其它正片的几何位置不同 ,因此膜厚不同。其差别可达 1%～ 2 0 %,但在大量的文献分析及应用中被忽略。针对两种常见的蒸发源 ,通过理论计算与实验给出了陪片、基片与蒸发源的最佳位置 ,使误差可控制在 1%,甚至 0 .1%。     

反馈式ECL记忆门的记忆性能和移位计数器

经过数学论证表明,改进反馈式ECL(MFECL)门可在二个状态中任一态保持稳定,所以认为MFECL门就是一种ECL记忆门或D锁存器.提出了一种由两个ECL记忆门组成的ECL主从D触发器.在上述理论基础上,利用此主从D触发器设计出5进制移位型计数器.经过计算机模拟上述电路,验证了理论和电路的正确性.