全文获取类型
收费全文 | 70645篇 |
免费 | 3602篇 |
国内免费 | 3037篇 |
专业分类
电工技术 | 1743篇 |
技术理论 | 1篇 |
综合类 | 4123篇 |
化学工业 | 18208篇 |
金属工艺 | 9573篇 |
机械仪表 | 7477篇 |
建筑科学 | 2622篇 |
矿业工程 | 1714篇 |
能源动力 | 735篇 |
轻工业 | 6155篇 |
水利工程 | 673篇 |
石油天然气 | 3182篇 |
武器工业 | 479篇 |
无线电 | 7240篇 |
一般工业技术 | 7740篇 |
冶金工业 | 3141篇 |
原子能技术 | 555篇 |
自动化技术 | 1923篇 |
出版年
2024年 | 543篇 |
2023年 | 1696篇 |
2022年 | 1810篇 |
2021年 | 1866篇 |
2020年 | 1496篇 |
2019年 | 1674篇 |
2018年 | 1035篇 |
2017年 | 1407篇 |
2016年 | 1577篇 |
2015年 | 1813篇 |
2014年 | 3935篇 |
2013年 | 2822篇 |
2012年 | 3624篇 |
2011年 | 3698篇 |
2010年 | 3503篇 |
2009年 | 4032篇 |
2008年 | 4827篇 |
2007年 | 4334篇 |
2006年 | 3706篇 |
2005年 | 3824篇 |
2004年 | 3115篇 |
2003年 | 2627篇 |
2002年 | 2260篇 |
2001年 | 2017篇 |
2000年 | 1805篇 |
1999年 | 1491篇 |
1998年 | 1390篇 |
1997年 | 1307篇 |
1996年 | 1293篇 |
1995年 | 1120篇 |
1994年 | 1060篇 |
1993年 | 873篇 |
1992年 | 917篇 |
1991年 | 835篇 |
1990年 | 836篇 |
1989年 | 814篇 |
1988年 | 96篇 |
1987年 | 45篇 |
1986年 | 40篇 |
1985年 | 26篇 |
1984年 | 22篇 |
1983年 | 17篇 |
1982年 | 16篇 |
1981年 | 23篇 |
1980年 | 6篇 |
1975年 | 1篇 |
1965年 | 3篇 |
1951年 | 6篇 |
1949年 | 1篇 |
排序方式: 共有10000条查询结果,搜索用时 62 毫秒
51.
52.
采用超高真空电子束蒸发法制备了新型高 K栅介质-非晶 ZrO2薄膜. X射线光电子能谱 (XPS) 中 Zr3d5/2 和 Zr3d3/2 对应的结合能分别为 182.1eV和 184.3eV, Zr元素的主要存在形式为 Zr4+,说明薄膜由完全氧化的 ZrO2组成 ,并且纵向分布均一.扩展电阻法( SRP)显示 ZrO2薄膜的 电阻率在 108Ω@ cm以上,通过高分辨率透射电镜( HR- XTEM)可以观察 ZrO2/Si界面陡直,没有 界面反应产物 ,证明 600℃快速退火后 ZrO2薄膜是非晶结构.原子力显微镜( AFM)表征了薄膜的 表面粗糙度,所有样品表面都很平整,其中 600℃快速退火样品 (RTA)的 RMS为 0.480nm. 相似文献
53.
碳纳米管膜的场致发射电流密度仅由它表面的宏观电场决定,无论其表面形状是平的还是半球状的。对于理想的平行板电极系统,其表面电场强度均匀(UId),发射电流密度、总电流与发射面积成正比:对于半球一平面电极系统半球形的阴极存在一个宏观场增强因子ks,一个与两极距离和球半径之比(d/r)相关的函数,其表面的平均场强为ks U/d。对于d/r=0,ks=1,d≥r的情况,ks接近于常数。对于10〈d/r〈100的情况,存在一个经验的表达式:ks=1+0.15d/s=0.005(d/r)^2。在引入ks后,不同作者给出的平面电极系统和半球一平面电极系统碳纳米管膜的场致发射电流I与宏观表面电场强度E的关系都可以近似用-经验公式描述:I=a(E-Eo)^b,a,b为常数。该经验公式可为稳定生产的CNT膜片应用产品设计提供方便。 相似文献
54.
55.
表面安装工艺是伴随着微电子技术的迅速发展而出现的一种电子元器件装联的新工艺。这种新工艺的出现,对印制电路板设计也提出了一些特殊的要求。本介绍了表面安装工艺的一些特点,并对印制板设计要求提出了一些建议。 相似文献
56.
57.
本文简要介绍了工业净洗剂在搪瓷用钢板坯材表面处理中的清洗、阻蚀、保护等多种作用,同时简要介绍了清洗后的废水的处理方法。 相似文献
58.
59.
60.