Si3N4／CrN nanostructured muitilayers grown by RF reactive magnetron sputtering

The amorphous/polycrystalline Si3N4/CrN nancrstructured multilayer films have been prepared by radio frequency (RF) reactive magnetron sputtering. The composition, microstructure and mechanical properties of these films were characterized by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS), X-ray diffraction (XRD), high-resolution transmission electron microscopy (HRTEM) and nano-indentation. The CrN and Si3N4 single layer films are polycrystalline face centered-cubic and amorphous structures, respectively. The CrN and Si3N4 layers are nearly stoichiometric. The HRTEM image indicates that the interfaces are planar and modulation structure is clear in multilayers. The hardness values of Si3N4/CrN multilayers are between those of the constituent CrN and Si3N4 films at a substrate temperature of 20℃, and are somewhat higher than those of Si3N4 films at a deposition temperature of 500℃. There is no superhardness effect in the Si3N4/CrN multilayers. Based on the experimental results, the hardening mechanisms in the multilayers have been discussed.     

一般应力比时焊接结构S－N曲线的预测方法

本文考虑了焊接结构的几何形状、受载形式、应力比、残余应力、尺寸效应以及材料等因素对疲劳寿命的影响，利用Ｐｅｔｅｒｓｏｎ公式和极值疲劳切口系数概念，建立了一般应力比时焊接结构Ｓ－Ｎ曲线的预估模型．文中对几类典型的焊接结构的Ｓ－Ｎ曲线进行了预测，预测值与实验结果符合较好．本文方法可以大量减少疲劳实验，具有一定的工程实用价值．     

18Cr_2Ni_4WA钢制长型针阀体“内固外气”复合C—N共渗空冷淬火工艺探讨

为提高长型针阀体座面处的渗层深度和硬度,本文进行了针阀体中孔插碳棒与未插碳棒C—N共渗对比试验。实践证明,插碳棒后座面处的渗层深度、硬度及碳化物级别均得到显著提高。共渗后采用空冷淬火,冰冷处理,不仅表面硬度高,而且变形量很小。     

流面上的Navier—Stokes方程和惯性形式

本文推导流场流面上Ｎａｖｉｅｒ－Ｓｔｏｋｅｓ方程，并且证明了存在惯性形式。     

含氮化合物废气选择性催化氧化技术研究进展

通过对当前含氮化合物废气治理技术的对比分析,总结选择性催化氧化的相关技术优势。根据对含氮化合物的种类及来源分析,介绍氨气、腈类、胺类及其他含氮化合物的催化净化技术。重点总结催化剂的种类、研发进展和在实际使用中可能遇到的问题,同时展望含氮化合物废气选择性催化氧化技术的研发方向。     

离子束辅助沉积（Ti,Al）N梯度薄膜的结合强度

本文采用离子束辅助沉积技术，制备了不同成分梯度的一系列（Ｔｉ１－ｘＡｌｘ）Ｎ膜（其中ｘ＝０．１６～０．４４），并利用刮剥式结合强度测量方法，对薄膜成分对结合强度、内应力、硬度等的影响进行了研究。研究工作发现，刮剥法测得的结合强度，在ｘ＝～０．３１处取得最大结合强度值后，随薄膜成分梯度的增大而下降，但在重要的４０％～５０％Ａｌ区域内，梯度（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎ膜的结合强度、硬度以及内应力却都维持在一个较为稳定的水平，较少受薄膜成分等的影响。梯度（（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎ膜的结合强度主要受膜中残余应力的影响。