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51.
以HT300为基材,以WC颗粒作为增强颗粒,通过V—EPC铸渗工艺制备出较为理想的铁基表面耐磨材料,铸件复合层厚度均匀,厚度可达6mm。WC在复合层中分布较为均匀。在复合过程中,主要是铁液向复合层渗透,铬向母材的渗透也有,但量很少。合金层和母材的结合良好,属于冶金结合,其硬度从复合层到基体先升高后降低,复合层平均硬度比HT300提高了3倍左右。  相似文献   
52.
Fe-B基微晶材料晶粒大小与高温硬度的关系SCIEI   总被引:2,自引:0,他引:2  
本文对Fe-B基微晶材料的反玻璃化热处理条件,组织精细程度和硬度(HV_(RT),HV_(500℃),HV_(600℃))三者之间关系作了系统的研究。在晶粒尺寸不太小时,HV与d^(-1/2)呈直线关系,但在超细晶粒尺寸时,直线发生偏离。  相似文献   
53.
压入深度与膜厚对薄膜与基体复合硬度及弹性模量的影响   总被引:2,自引:0,他引:2  
根据高华建的复合弹性模量模型,提出了用一个测点的载荷-位移曲线计算整个压入深度内薄膜和基体复合硬度分布的方法,探讨了压入深度与膜厚对硬度与弹性模量测量值的影响,指出可由膜-基复合性能反推膜本身的性能。  相似文献   
54.
制作了65Mn钢和45钢刃口标样,通过比较洛氏硬度HRC与刃口硬度Hθs的检测数据,证实了只在改变洛氏硬度计的金刚石头和施加的负荷,就可测出刃口硬度Hθs。根据实数据的处理,得出经验公式HRC=0.5018Hθs+35.83,很容易将所测数据Hθs换算成HRC,绝对误差在-0.65-0.47HRC之间。  相似文献   
55.
研究了热处理工艺对铸造3Cr2MoWVNi热锻模具钢冲击韧度和硬度的影响,结果表明:试验钢在1050℃淬火,650℃回火下,冲击韧度和硬度达到最佳值,分别为72.3J/cm^2和34.5HRC。在最佳热处理工艺下,经RE-Nb变质处理的试验钢的冲击韧度较未变质处理的试验钢有明显提高。  相似文献   
56.
合金元素对镁合金的性能影响研究   总被引:1,自引:0,他引:1  
研究了新型镁铝锌合金的性能,分析了不同含量的Al、Zn、Pb等元素对镁合金性能的影响.结果表明,随着Al含量的增加,合金的冲击韧性下降而硬度提高;随着Zn含量的增加,冲击韧性和硬度都下降;而随着Pb含量的增加,合金的冲击韧性和硬度都提高.  相似文献   
57.
分析了在大接触应力的磨损条件下,表面残余应力和硬度对40Cr电火花强化层耐磨性的影响,探讨了其磨损机理。结果表明:滚动磨损和滚、滑动磨损时,随着试样表层硬度的提高,试样的耐磨性增大;强化层中的残余压应力可以提高强化层的硬度并增强其耐磨性。滚动磨损时,电火花强化层的磨损方式主要为粘着磨损、疲劳磨损和磨粒磨损三种机制;在滚、滑动磨损时,除上述三种机制外,还发生了氧化磨损。  相似文献   
58.
采用四因素多水平组合热处理试验与统计分析相结合的方法研究了粉末冶金制备的12%SiCp/6066Al(体积分数)复合材料的热处理工艺参数与硬度间的关系.结果表明,复合材料与基体合金相比具有峰值提前效应;热处理工艺参数主效应由强到弱依次为时效时间、固溶温度、时效温度、固溶时间;时效时间与时效温度一级交互作用也较重要,其他一级、二级和三级交互作用较小.12%SiCp/6066Al复合材料的优化热处理工艺参数为530℃固溶90min,水淬170℃时效6h.  相似文献   
59.
GAS multi-elements penetrating technology is a newsurface hardening technology developed on the basisof carbonitriding technology.It can not only shortenthe production period,but also improve the mechanicalperformances of the parts,such as torsional strength,flexural strength,wear resistance,and fatigue resistance"'.It features low-temperature multi-elementspenetration that the physical chemistry process ofoxidation-reduction generates the active atoms in thepart surface.In the beginning,the …  相似文献   
60.
纳米磨料硬度对超光滑表面抛光粗糙度的影响   总被引:5,自引:0,他引:5  
通过均相沉淀法制备了纳米CeO2和Al2O3粉体,研究了在相同抛光条件下纳米CeO2、Al2O3和SiO2磨料对硅片的抛光效果,用原子力显微镜观察了抛光表面的微观形貌并测量其表面粗糙度.结果表明:纳米CeO2磨料抛光后表面具有更低的表面粗糙度,在5 靘5 靘范围内表面粗糙度Ra值为0.240 nm,而且表面的微观起伏更趋向于平缓;考虑了纳米磨料在抛光条件下所发生的自身变形,其变形量相当于一部分抵消了纳米磨料嵌入基体材料的切削深度,而这个切削深度最终决定了抛光表面的粗糙度;分析指出这个变形量与纳米磨料的硬度成反比,硬度低的纳米磨料由于自身变形量大,导致切削深度小,抛光后表面的粗糙度值低.解释了在相同的抛光条件下不同硬度的纳米磨料具有不同的抛光表面粗糙度的原因.  相似文献   
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