高频脉冲微束等离子电弧温度场的测试及分析

本文首次采用单波长激光干涉技术，对恒定直流和高频脉冲电流微束等离子电弧温度场进行了测试，并做了分析比较。以电弧温度分布为基础分析了高频脉冲电流微束等离子电弧收缩、稳定的原因。     

微波等离子体源在钢表面氮化中的应用

对微波等离子体源和常规等离子体源进行了对比，分析了微波等离子体源应用于离子氮化的优越性，报道了微波等离子体在钢表面氮化中的应用．     

厚钢板的激光焊接技术

系统地介绍了厚钢板的激光焊接技术特点及国内外动态，着重分析了焊接过程中光致等离子体的危害、控制及主要焊接工艺多数。     

非晶硅基薄膜的等离子体刻蚀光发射谱检测

本文研究了采用锁定放大相干检测技术的等离子体光发射谱检测系统。用该系统检测了仅用CF4作为刻蚀气体刻蚀非晶硅基薄膜的等离子体光发射谱。分析了检测结果和刻蚀机理。     

一种新型电磁轨道炮的设想

在考察国内外电磁轨道炮研究进展的基础上，分析了固体电枢的电热特性和固体电枢转捩为等离子体机理，结合现有国内研究情况，提出了一种能够利用固体电枢优势，而又能同时避免固体电枢烧蚀缺陷的多级电磁轨道炮的设计方案。     

乙烯基三甲基硅烷等离子体聚合反应历程

应用色谱—质谱(GC-MS)及裂解色谱-质谱(PGC-MS)测定了乙烯基三甲基硅烷等离子体聚合反应中的气体冷凝物及聚合物,研究推导了等离子体聚合反应历程。单体在气相中被电子撞击,然后扩散到基底,在基底发生链增长和链终止反应。     

a—Si等离子体刻蚀的研究

将等离子体刻蚀应用于非晶硅的刻蚀中,得到边缘整齐、分辩率高、重复性好、图形清晰的满意效果。通过调整工艺条件,可严格控制刻蚀速率。其特点优于湿式化学腐蚀,是一种非晶硅特性研究和器件制造中值得推广和使用的方法。