Preparation of nanocrystalline nickel oxide from nickel hydroxide using spark plasma sintering and inverse Hall-Petch related densification

Nanocrystalline nickel oxide (NiO) was prepared from nickel hydroxide by Spark plasma sintering (SPS) and the mechanisms involved in the densification of NiO were studied. Reverse precipitated nickel hydroxide powders were SPS processed at 400, 600 and 700?°C with 70?MPa pressure. Pure NiO with 12?nm crystallite size formed after 400?°C sintering process. However NiO grains had grown to 18 and 38?nm after 600 and 700?°C sintering respectively. NiO pellets prepared using 600 and 700?°C SPS sintering schedules had relative densities of 83% and 94% respectively. Two displacement rate regimes were observed during densification of NiO in both 600 and 700?°C sintering processes. Decomposition of nickel hydroxide and particle sliding of NiO led to first displacement rate maximum while inverse Hall-Petch based plastic deformation facilitated densification during the constant second displacement rate regime. No densification occurred during sintering holding times indicating the limited role that diffusion played during densification.     

BaTiO3基Au纳米颗粒复合薄膜的制备及其光学性质研究

采用溶胶-凝胶（sol-gel）方法，成功的将高体积面分比的Au纳米颗粒复合到BaTiO3的非晶薄膜中，并对其光学性质进行了研究。用XRD、TEM、椭偏仪、吸收光谱、光克尔效应OKE（Optical Kerr Effcet）方法对薄膜进行了表征和测试。从吸收光谱观察到表面等离子体共振SPR（Surface Plasma Resonance)峰随热处理温度升高而红移的现象。光学非线性测试表明薄膜具有高的三阶非线性极化率Χ^(3)和超快的响应时间。     

等离子体刻蚀工艺控制模型分析

讨论了主因素分析法以及神经网络法在等离子体刻蚀工艺中的应用.结果表明主元素分析法可以实现对数据的压缩,而神经网络算法则显示出比传统的统计过程控制算法更好的准确性.     

磁电雾化电晕放电低温等离子体及其应用

本文讨论了磁电雾化电晕放电低温等离子体技术的基本原理,以及它在静电除尘、烟气脱硫等环保生物工程等领域中的应用前景.     

纳米ZrO2等离子涂层的结构,性能和工艺特点

采用大气等离子喷涂技术(APS)，制备了常规氧化锆和纳米结构氧化锆两种涂层．利用扫描电镜(SEM)对涂层的显微结构进行了观察．对两种涂层的沉积效率、表面粗糙度和显微硬度作了对比研究．结果表明，粉末原料的显微结构、粒度、形态、喷涂工艺参数(喷涂功率和距离)对涂层的显微结构有较大的影响．等离子喷涂造粒纳米氧化锆粉制备的涂层沉积效率高而稳定，其显微结构与喷涂功率和距离密切相关．与常规氧化锆涂层相比，纳米结构氧化锆涂层具有较高的显微硬度和较低的表面粗糙度．     

PECVD法低温沉积多晶硅薄膜的研究

在玻璃衬底上采用常规的PKCVD法在低温(≤400℃)条件下制得大颗较(直径＞100nm)、择优取向(220)明显的多晶硅薄膜。选用的反应气体为SiF4和H2混合气体。加入少量的SiH4后，沉积速率提高了近10倍。分析认为，在低温时促使多晶硅结构形成的反应基元应是SiFmHn(m n≤3)，而不可能是SiHn(n≤3)基团。     

流量比对等离子体基团分布和薄膜结构的影响

使用光强标定的发射光谱(AOES)测量了CHF3／C6H6混合气体的微波电子回旋共振(ECR)放电等离子体中基团的分布状态。实验发现随着CHF3流量的增加，成膜基团CF、CF2、CH等的相对密度增大，而刻蚀基团F的密度也会增加，从而使得a—C：F薄膜的沉积速率降低。同时红外吸收谱(IR)分析表明，在高CHF3流量下沉积的a—C：F薄膜中含有更高的C—F键成分。可见在a—C：F薄膜的制备中CHF3／(CHF3 C6H6)流量比是重要的控制参量。     

基于PDP机理的两种超大屏幕显示

超大屏幕显示系统优点甚多，正越来越受到各行各业的关注。近年来，若干种超大屏幕显示已在市场出现，但各有利弊。本文介绍基于PDP工作机理开发成功的两种新型超大屏幕显示器件，包括其结构、性能、特点，以及在超大屏幕显示系统中的应用。     

30.4 nm光电成像系统分辨率的初步实验研究

本文基于微通道板MCP(Microchannel Plate)探测器件设计一套成像系统，用于对波长为30．4nm的极紫外EUV(Extreme Ultraviolet)光进行成像．结果获得了一宽度为3mm的狭缝的像，实验测得490μm的成像系统的空间分辨率，并分析了影响系统分辨率的各种因素及为提高系统分辨率所应采取的措施．     

Set－up of a Pure Electron Plasma Device

An electron Penning-Malmberg trap,which can confine an electron column and provide a good platform to investigate the cross-filed transportation of strongly magnetized electron plasma ,has been set up.With the device,an electron plasma with a density of 10^7 cm^-3 can be confined for a relatively long time.The structure of the trap,electron source,as well as the way how th measure electron plasma density profile and velocity distrbustion are introduced in detail.