Fabrication and characterization of rugate structures composed of SiO_2 and Nb_2O_5

1Introduction Opticalcoatingdesignsbasedonlayers,whichareinhomogeneousalongthestackaxis,haveopticalandmechanicalpropertiesthatdiffer fromthoseofconventionalhigh low index stacks.Particularly,thewideaccessibleangular rangeandthelowopticalscatterlevelmake themsuperiortotraditionalstackswithrespect toselectedpurposessuchasomni directionalde vicesornotchfilters[14].Manufacturingsuch systemsinpracticerequiresthecalculation,dep osition,monitoringandcharacterizationofopti calcoatingswithawelldefinedc…     

光学薄膜技术在电光源领域中的应用

作为现代光学的一个重要分支，薄膜光学是在光的波动理论及相关理论基础上发展起来的。光学薄膜已广泛应用于各种光学器件（如激光谐振腔、干涉滤波片、光学镜头等），它在电光源领域中的重要作用亦逐渐为人们所认识。本文重点阐述光学薄膜在该领域，中的具体应用。 １单层膜系的应用 １．１作为红外反射层 在电光源中，单层膜系较早用于低压钠灯中。低压钠灯的电弧管的温度必须保证在２６０℃才能使其可见光输出最大。除了在内管与外泡壳之间抽成真空以防对流热损耗外，还采用化学喷涂法在外泡内壁涂有氧化钢渗杂锡的薄膜。该薄膜能将红外…     

650nm反射10.6μm透射的薄膜干涉滤光片

针对波长为650nm和10.6μm的激光器,选用了ZnS和YbF<,3作为膜料,采用离子辅助沉积技术,在多光谱ZnS基底上制备了650nm反射10.6μm透射的薄膜干涉滤光片.通过对膜系设计和优化工艺参数的研究,解决了膜层牢固性,改善了薄膜的激光损伤阈值,并给出了综合测试结果和实测光谱曲线.     

光学膜厚监控方法

光学膜厚监控方法是光学镀膜过程中用以控制光学薄膜光学厚度的主要方法,也是实现镀膜自动化的关键技术之一.了解光学膜厚监控方法的工作原理、特点及误差来源,有助于在实际应用中根据所镀产品的要求选择合适的光学监控方法及监控参数.文中针对最常用的两种光学膜厚监控方法一单波长法和宽光谱法,分别介绍其工作原理,给出了单波长下根据薄膜的透射率或反射率推算膜层厚度的计算方法以及宽光谱法所常用的3种评价函数,总结出影响单波长法测量的8种因素和宽光谱法的11种因素,并根据这些因素分析了这两种方法的特点和适用范围.     

索尼发表32″最节能液晶电视

索尼公司2008年6月17日发布了新款“BRAVIA”JE1系列产品（KDL-32JE1）,代表该行业的32″液晶电视的最高能源效率水平。索尼公司通过提高背光源发光效率和光学薄膜的光传输效率,在能源效率、年度能耗量（每年86千瓦时）、瞬时能耗量（89W）等方面达到了行业领先水平（日本能源节能标准的232％）。     

蒸发诱导自组装法制备多孔二氧化硅光学薄膜

报道采用溶胶—凝胶技术、蒸发诱导自组装法,通过酸/酸二步法控制实验条件,实验中采用表面活性剂十六烷基三甲基溴化氨(CTAB)为模板剂,正硅酸乙酯为硅源,以及二次去离子水,盐酸为催化剂等原料制备前驱体溶胶。加入不同量的1,3,5-三甲基苯(TMB)辅助剂来调整膜的孔径。简单提拉迅速蒸发溶剂制备多孔二氧化硅光学薄膜,利用红外光谱对样品进行结构分析,采用UV-VIS-NIR分光光度计测量了薄膜的透过光谱,原子力显微镜(AFM)观察发现多孔薄膜的表面形貌具有明显的多孔结构、表面光滑、均匀;结果表明所制备的薄膜有好的光学性能、机械性能。     

应力变化对多层薄膜窄带滤光片透射光谱的影响

利用薄膜应力公式和弹性力学的小挠度弯曲理论分析了在应力变化情况下,多层薄膜应变与膜厚变化的关系,并建立其数学模型,提出多层薄膜各层厚度变化的不均匀性理论.利用这个模型在应力减小200MPa条件下对138层4腔的100GHz滤光片光谱进行了模拟,与设计值比较发现中心波长增加了0.562nm;0.5dB处的带宽比设计值减小0.124nm;25dB处的带宽比设计值减小0.01nm;谱线矩形化变差;插损也有明显的增加.说明了应力变化引起的光学薄膜厚度变化的不均匀性是引起这种窄带干涉滤光片光谱退化的主要原因之一.实验结果为100GHz的窄带滤光片热处理后中心波长增加0.325nm;0.5dB处带宽减少0.01nm;20dB处带宽增加0.014nm;插损增加,谱线通带变形严重,纹波增大,光谱退化了.实验结果与理论分析一致.     

光学薄膜制备技术

本文综述了光学薄膜制备技术的发展与现状,着重介绍了真空蒸镀、离子辅助沉积、离子束溅射等传统与现代技术,包括工作原理、发展以及应用情况.     

制备光学薄膜的离子源技术概述

随着工业技术的发展及市场的需求,低能宽束离子源已广泛应用于微细加工的离子束刻蚀技术、材料改性的离子束注入混合技术和光学薄膜制备的离子束辅助镀膜技术.本文在多年该技术的实践与发展基础上,总结了制备光学薄膜的各种常用辅助镀膜离子源,其中包括考夫曼离子源、霍耳离子源、射频离子源、无栅离子源、阳极层离子源(均由我们实验室制造)的工作原理,设计要点,分析了使用时可能出现的问题及解决办法,最后从各种离子源的工作机制、工作特点、性价比、优缺点上予以比较.相信会有益于从事薄膜的工作者.     

原子层沉积技术及其在光学薄膜中的应用

回顾了原子层沉积(ALD)技术的发展背景,通过分析ALD的基本工艺,并与传统薄膜制备工艺进行了对比研究.介绍了它在膜层的均匀性、保形性以及膜厚控制能力等方面的优势.着重列举ALD在减反膜、紫外截止膜、折射率可调的薄膜、抗激光损伤薄膜及复杂结构光子晶体等方面的应用.同时指出了目前ALD工艺在光学薄膜应用中存在的主要问题,并对ALD未来的发展进行了展望.