LTPS TFT层间绝缘层过孔刻蚀的工艺优化

为了适应LTPS TFT LCD显示屏超高分辨率极细布线的趋势,降低LTPS TFT层间绝缘层过孔刻蚀带来的良率损失,提高产品品质,本文研究了LTPS TFT层间绝缘层过孔刻蚀的工艺优化。实验以干法刻蚀为主刻蚀,湿法刻蚀为辅刻蚀的方式,既结合干法刻蚀对侧壁剖面角及刻蚀线宽的精确控制能力,又利用了湿法刻蚀高刻蚀选择比的优良特性,改善了层间绝缘层刻蚀形貌,减少干法刻蚀对器件有源层的损伤,避免有源层被氧化,防止刻蚀副产物污染开孔表面。实验结果表明,干法辅助湿法刻蚀能基本解决刻蚀过程中过刻、残留的问题,使得层间绝缘层过孔不良良率损失减少73%以上,且TFT源漏电极接触电阻减小约90%,器件开态电流提升约15%。干法辅助湿法刻蚀是一种优化刻蚀工艺,提升产品性能的新方法。     

基于单色光下ADS模式TFT-LCD闪烁漂移的对比研究

基于挠曲电效应理论,本文对比研究了红、绿、蓝3种单色光对ADS 模式TFT-LCD 闪烁漂移的影响。主要考察了3种单色背光在能量相同以及不同亮度条件下的闪烁漂移和TFT光漏电流[Photo I_off]特性。实验结果表明I_off在正常范围内变化时,并不显著影响闪烁漂移量,初步认为:不同光照条件下离子的产生数量和产生速度差异是该条件下导致闪烁漂移的主要因素。     

TFT阵列基板的电容充电电路的设计

液晶显示器尺寸越来越大,液晶栅极启动信号持续时间变短,液晶电容和存储电容的充电时间也随之减少,导致对液晶电容和存储电容充电不充分,造成横向微弱亮线的产生,使得画面品质下降。本文设计出TFT阵列基板电容充电电路,在当前行像素显示时,对下一行像素预充电,解决了液晶电容和存储电容充电不充分的问题。     

多晶硅TFT模型的研究进展

全面介绍了多晶硅薄膜晶体管(TFT)紧凑模型的现状和应用前景,简单说明了多晶硅TFT特有的电学特性,这是多晶硅TFT建模的基础,重点介绍了基于阈值电压和基于表面势的多晶硅TFT紧凑模型的研究进展,并对这些模型进行了评述,其中RPI模型是基于阈值电压的TFT模型的典范.虽然TFT模型已经有所发展,但成熟度还远远不够.最后提出了改进多晶硅TFT模型的方向和策略,包括二维器件模拟的应用、基于表面势模型的发展、多晶硅材料特性的应用、统一模型的发展、短沟效应的建模和参数提取等.     

TFT工艺中的反应性离子刻蚀

对ＴＦＴ器件工艺中的反应性离子刻蚀技术进行了研究,给出了ＴＦＴ器件工艺中常见薄膜刻蚀速率的实验结果,并讨论了掺杂气体（如Ｈ２、Ａｒ等）对刻蚀速率的影响。     

硅基TFT有源矩阵液晶显示技术

介绍了薄膜晶体管（ＴＦＴ）,特别是ｐ－Ｓｉ（多晶硅）ＴＦＴ矩阵寻址液晶显示器的工作原理、结构、特点、制作工艺和电学特性,对器件参数的选择进行了分析     

TFT-LCD技术的研究进展与发展趋势

介绍了近年来世界ＴＦＴ ＬＣＤ技术的研究现状,论述了未来ＴＦＴ ＬＣＤ技术的发展趋势     

玻璃衬底上MIUC Poly-Si TFT显示驱动电路

以高性能的金属诱导单一方向横向晶化多晶硅薄膜晶体管(MIUC poly-Si TFT)为基础,研制出性能能满足AM-LCD和AM-OLED要求、版图和象素尺寸适配、制备工艺和象素电路兼容的多晶硅TFT行扫描和列驱动电路.该行扫描电路工作电压为3.5-10V;当工作电压为5V、负载电容为22pf时,下降沿约为150ns,上升沿约为205ns,最高工作频率在1MHz以上;列驱动电路工作电压为3.5-8V;当工作电压为5V、负载电容为22pf时,上升沿约为200ns,信号衰减率为15%(64μs扫描周期),最高工作频率达到4MHz.将该MIUC poly-Si TFT多晶硅行扫描、列驱动电路和有源选址电路集成到同一基板上,制备出象素数为80×RGB×60、动态显示效果良好的全集成型LCD屏样品.     

Flexible electronics: 12‐GHz Thin‐Film Transistors on Transferrable Silicon Nanomembranes for High‐Performance Flexible Electronics (Small 22/2010)

Multigigahertz flexible electronics are attractive and have broad applications. A gate‐after‐source/drain fabrication process using preselectively doped single‐crystal silicon nanomembranes (SiNM) is an effective approach to realizing high device speed. However, further downscaling this approach has become difficult in lithography alignment. In this full paper, a local alignment scheme in combination with more accurate SiNM transfer measures for minimizing alignment errors is reported. By realizing 1 μm channel alignment for the SiNMs on a soft plastic substrate, thin‐film transistors with a record speed of 12 GHz maximum oscillation frequency are demonstrated. These results indicate the great potential of properly processed SiNMs for high‐performance flexible electronics.     

用于TFT-LCD源驱动电路的面积节约型DAC

提出一种用于TFT-LCD的新型数模转换器（DAC）,详细地阐述了它的工作原理及其设计与实现。这种DAC与传统的电阻串DAC的结构完全不同,在传统DAC中电阻串是不可或缺的组成部分,而文章提出的DAC由计数器、比较器、传输门和其他组合电路组成,它克服了传统的电阻串DAC当输入数据位宽增加时所遇到的面积问题。用Spectre仿真的结果表明,该种结构DAC的转换精度完全满足高灰度等级TFT-LCD源驱动电路的设计需求。