噻吩在镍基非晶态合金上的吸附和脱附

应用静态吸附、动态吸附、程序升温脱附和程序升温还原等实验方法，考察了噻吩在Ni基非晶态合金上的吸附和脱附行为。常温下，噻吩分子首先吸附在清洁的Ni表面，并立刻被活化，发生氢解反应，C-S键断裂，释放出烃类部分，S留在Ni原子上。噻吩可以在Ni基非晶态合金表面发生强度不同的化学吸附。弱化学吸附的噻吩可以脱附；强化学吸附的噻吩不会脱附，而在高温下发生氢解反应。     

非晶态合金催化剂研究有突破

我国石化科技工作者历经20年研究开发的“非晶态合金催化剂和磁稳定床反应工艺的创新与集成”项目推动了世界化学工业技术的跨越式进步，获得了2005年国家技术发明奖唯一的一等奖。     

ZrSiO4/α-Al2O3反应烧结过程中非晶态物质的形成与演化

采用XRD和TEM等技术研究了ZrSiO4/α-Al2O3反应烧结过程中非晶态物质的形成及演化。结果表明，1400℃莫来石开始形成时体系中的液相是富Al2O3的，随着温度的升高，ZrSiO4分解速率加快及富Al2O3莫来石的形成，液相逐渐向富SiO2方向演化，液相的形成及其演化与莫来石的形成密切相关。     

新型高K栅介质ZrO2薄膜材料的制备及表征

采用超高真空电子束蒸发法制备了新型高 K栅介质-非晶 ZrO2薄膜. X射线光电子能谱 (XPS) 中 Zr3d5/2 和 Zr3d3/2 对应的结合能分别为 182.1eV和 184.3eV, Zr元素的主要存在形式为 Zr4+,说明薄膜由完全氧化的 ZrO2组成 ,并且纵向分布均一.扩展电阻法( SRP)显示 ZrO2薄膜的 电阻率在 108Ω@ cm以上,通过高分辨率透射电镜( HR- XTEM)可以观察 ZrO2/Si界面陡直,没有 界面反应产物 ,证明 600℃快速退火后 ZrO2薄膜是非晶结构.原子力显微镜( AFM)表征了薄膜的 表面粗糙度,所有样品表面都很平整,其中 600℃快速退火样品 (RTA)的 RMS为 0.480nm.     

紫外有机薄膜激光器

已经证实，由有机化合物组成的激光活性固体材料，在整个可见光谱区具有产生激光的能力。它们的潜力来自内在的优点，如有机化合物的调谐范围宽，有多种化合物可用，易于做工程实际装置。缺点包括实现直接电激励困难，以及缺少在紫外区发射的化合物。     

扬子石化公司推出优质BOPP专用料

日前,扬子石化公司生产的双轴拉伸聚丙烯薄膜(BOPP)专用料在无锡一家大型薄膜制造厂进行了拉膜试验,产品经过检验,各项指标均优于国家规定的标准,达到国内领先水平,受到用户的青睐。     

PECVD法低温沉积多晶硅薄膜的研究

在玻璃衬底上采用常规的PKCVD法在低温(≤400℃)条件下制得大颗较(直径＞100nm)、择优取向(220)明显的多晶硅薄膜。选用的反应气体为SiF4和H2混合气体。加入少量的SiH4后，沉积速率提高了近10倍。分析认为，在低温时促使多晶硅结构形成的反应基元应是SiFmHn(m n≤3)，而不可能是SiHn(n≤3)基团。