偶联处理对粘结钕铁硼永磁的性能影响

本文研究了硅烷偶联剂包覆处理的快淬ＮｄＦｅＢ磁粉的抗氧化性、尼龙１０１０粘结ＮＮｄＦｅＢ的永磁性能和力学性能等。结果表明ＫＨ５５０包覆ＮｄＦｅＢ可改善ＮｄＦｅＢ磁粉来的抗氧化性，并可提高粘结ＮｄＦｅＢ的磁性能和压缩强度。     

硅烷偶联剂对湿固化聚氨酯的改性及在锌粉底漆中的作用

制备了硅氧烷偶联剂改性的湿因化聚氨酯，研究了其用量对预聚物及涂膜性能的影响，探讨了用此制备的锌粉底漆的耐蚀性能。     

偶联剂表面处理纳米SiO2填充CE/BMI体系的力学性能

本文研究了纳米二氧化硅(nano-SiO2)的含量对nano-SiO2/氰酸酯(CE)/双马来酰亚胺的预聚体(BMI)复合材料力学性能的影响;测量了用不同的硅烷偶联剂处理的nano-SiO2对水和甘油的相对接触角,利用Fowkes-Good几何方程计算了nano-SiO2的表面自由能,考察了经不同硅烷偶联剂处理的nano-SiO2对nano-SiO2/CE/BMI复合材料力学性能的影响.并通过扫描电镜分析nano-SiO2在基体中的分散性及增韧机理.结果表明,nano-SiO2对CE/BMI有增韧增强效果,当nano-SiO2含量为2.0wt%时复合材料的冲击、弯曲强度均最好;硅烷偶联剂处理可以增强纳米nano-SiO2的疏水性并降低其表面能,改善了其在基体中的分散性,有利于提高nano-SiO2/CE/BMI复合材料的冲击强度.     

陶瓷电路板表面聚四氟乙烯薄膜制备工艺研究

采用硅偶联剂对TR组件(陶瓷电路板)表面进行改性处理,使得陶瓷电路板中的金属材料与聚四氟乙烯极性相近,通过射频磁控溅射在TR组件表面制备出聚四氟乙烯薄膜.XPS,SEM测试表明薄膜主要组成为聚四氟乙烯组分,薄膜形貌均一、致密.     

CaCO3粒子表面处理及其IGC表征

研究了工业上常用的无机刚性粒子CaCO3进行表面偶联剂处理和柔性界面层设计(弹性体POE-g-MAH)的处理效果。采用反气相色谱(IGC)、红外光谱(FTIR)对CaCO3粒子表面产生的表面吸附作用、表面化学反应以及表面自由能变化进行了分析研究,结果表明相比于偶联剂在CaCO3粒子形成简单物理吸附,POE-g-MAH和CaCO3反应形成了具有一定强度的界面层。采用IGC方法有效地估算了钛酸酯偶联剂在CaCO3粒子表面形成单分子层的含量在1.9%左右,从而优化了偶联剂含量。初步对不同表面处理后的CaCO3粒子对PP/POE/CaCO3三元复合体系的微观结构形貌影响进行了比较,POE-g-MAH界面层设计有效地促进基体中包覆结构的出现。     

氮化硅纳米粉体的表面改性研究

文章采用硅烷偶联剂HG-560作为改性剂,丙酮为分散剂对氮化硅纳米粉体进行表面改性。利用悬浮液沉降实验与扫描电子显微镜观察表征氮化硅纳米粉体的分散效果。结果表明,当偶联剂用量为氮化硅粉体质量的1%时,该粉体在丙酮溶液中的沉降速率最小,分散效果较好。     

偶联剂GPTMOS对PI/SiO2杂化薄膜微观结构的影响

以3-缩水甘油丙基醚三甲氧基硅烷(GPTMOS)为偶联剂,采用溶胶-凝胶法制备了3种不同偶联剂用量的PI/SiO2杂化薄膜,并采用红外光谱、扫描电子显微镜表征了PI/SiO2杂化薄膜的化学结构和微观结构。结果表明:偶联剂GPTMOS的加入能有效减小SiO2粒子的粒径,且能生成更加紧密的SiO2网络结构;随着偶联剂用量的增加,SiO2粒子的粒径逐渐变小。     

用稻壳灰制备新型“绿色”硅酸酯偶联剂及其改性白炭黑补强硅橡胶的性能研究（I）

本文通过“绿色”化学过程（非碳热还原法），直接从稻壳灰合成了活性五配位硅化合物，在适当条件下与官能的氯代烃反应，制备了新型的硅酸酯偶联剂。     

用偶联剂Si69改性的沉淀法白炭黑及其对胶料性能的影响

本文叙述了偶联剂Ｓｉ６９的特性，用偶联剂Ｓｉ６９对沉淀法白炭黑进行改性的反应机理，以及改性后的白炭黑对胶料性能的影响。