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实验室间能力比对作为重要的外部质量评价手段,被越来越多的实验室所采用,它不仅是质量控制的一种有效方法,也是衡量各实验室间能力的一个重要手段.而半导体器件静态直流参数是器件基本参数之一,是半导体器件筛选环节必检项目.该文以半导体器件静态直流参数为例阐述实验室间能力比对的方法. 相似文献
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热轧态中锰TRIP钢首先经650 ℃退火2 h,随后在550 ℃进行等温时效热处理,采用场发射扫描电镜(FE-SEM)研究该钢中P的偏聚和时效析出行为的变化情况。结果表明,中锰TRIP钢中P在晶界的偏聚是一种非平衡偏聚现象,临界时间约为50 h,与理论计算结果48 h较为吻合。在局部偏聚区域内,C与P存在共偏聚的关系,即P偏聚量高的地方,C含量也高。而合金元素Nb具有抑制P偏聚的效果,在20~70 h时效时间内,可以相对降低6.57%~19.5%的最大P偏聚量。根据电子背散射衍射(EBSD)菊池线分析,P偏聚量低于2.28at%时,P为固溶状态,高于2.28at.%时,P为析出状态。 相似文献
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随着无线局各发射台站自动化水平的不断提高,自动化运行平台的系统时间准确与否,将直接影响着各自动化系统的正常运行.自动化主机的GPS校时系统执行了错误的校时指令,将导致自动化系统无法准确执行运行图,引发停播事故.为了解决这个问题,本文提出了一种基于SNMP协议的实时获取各自动化系统的本地时间,并与GPS时间源进行比较,并能及时定位发生异常的自动化主机,同时给出声光报警信息. 相似文献
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