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在压力20MPa,温度600℃保温50min~6h时间条件下,利用扩散连接方法连接厚度为微米级的Mo和Al箔,观测Mo-Al固-固界面生长和演变情况。结果表明,Mo-Al界面反应新生相是在距接触界面0.5~0.7μm的Mo箔表皮下形核,进而撕裂、顶开Mo表皮,成岛状生长,进入到Al基体中,并将撕裂的Mo表皮带入新相内部,形成Mo夹层。因此,在Mo-Al界面反应初期,反应界面形貌不是平直的,而是类似界面上分布的岛屿,且每一种新生相纵向比沿界面的横向生长速度快;随着这些岛屿的生长相连,Mo-Al反应界面会出现3层连续的反应层,即Mo3Al8,MoAl5,MoAl12。当Al箔较薄而被反应消耗完毕后,会形成单独的MoAl4反应层,且会出现一种反应物"吞食"另一种反应物的现象,最后剩下含Mo高的Mo3Al8,MoAl4相。 相似文献
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微米级Mo—Al轧制箔扩散连接界面相的形貌及反应动力学 总被引:2,自引:0,他引:2
采用固相真空扩散连接方法,在873-913 K保温40-240 min条件下对轧制厚度分别为20和60um的Mo和Al箔进行扩散连接.发现Mo-Al固-固界面反应初生相在Mo箔内部形核进而"破壳"生长的形貌演变模式,成分分析表明该初生相为AlsMo3.初生相"破壳"后,Mo-Al界面上由Mo至Al的产物分布依次是Al8Mo3,Al5Mo和Al12Mo;在913 K保温240 min后,Al8Mo3与Al5Mo间出现Al4Mo相.界面反应的动力学分析表明,873-913 K条件下,Mo-Al界面反应初生相孕育期为52-34.5 min;Al原子在Mo-Al界面新生相内和Mo箔内的扩散指前因子D01和D02分别为4.61×10-2和2.05×10-2cm2/min,扩散激活能GAl-1和GAl-2分别为0.98和1.48 eV. 相似文献
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利用扫描电镜(SEM),俄歇能谱分析(AES),X射线衍射分析(XRD)和电化学等技术,研究了磁控溅射沉积Al-Zn镀层的结构及其对铀的保护性能。结果表明施加偏压显著地影响Al-Zn镀层的结构和保护性能,在-100V偏压下沉积的Al-Zn镀层,其组织更致密,成分有择优重溅射现象并伴有合金相生成,更有利于铀的防腐保护。 相似文献
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在U表面循环Ar+轰击-磁控溅射离子镀Al层 总被引:10,自引:0,他引:10
用循环Ar+轰击-磁控溅射离子镀(MSIP)法在U表面 上镀Al,并采用俄歇电子能谱仪(SAM)、扫描电镜(SEM)、电化学实验和湿热腐蚀加速实验, 研究了其表面、剖面形貌和耐蚀性能,以及U基和Al镀层界面.结果表明:U上循环Ar+轰 击-磁控溅射离子镀Al界面存在较宽的原子共混区,且耐蚀性能明显优于常规磁控溅射离子 镀Al. 相似文献
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偏压对铀上磁控溅射铝镀层微结构及残余应力的影响 总被引:4,自引:0,他引:4
分别用扫描电镜、X射线衍射仪和应力分析仪研究了5种不同偏压的施加对铀上磁控溅射铝镀层微结构和残余应力的影响.结果表明,偏压强烈影响镀层的组织.-300V下的组织致密性最差,低偏压下的优于未加偏压(0 V)的;偏压在-200 V及以下时的铝镀层择优取向于(111)低能晶面,高于-200 V时,择优取向由(111)转变为(200)晶面.不同偏压条件下制备的铝镀层的残余应力均较小,为数十MPa量级,但随着偏压的逐渐增加,残余应力由拉应力向压应力转变. 相似文献
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