偏压对磁控溅射沉积Al—Zn镀层成分和结构的影响

采用扫描电镜（SEM）、X射线衍射仪、X射线能谱（EDS）和俄歇电子能谱仪（AES）,研究了基片偏压对磁控溅射沉积Al-Zn镀层组成和结构的影响。随着基片偏压的增加镀层的Zn含量呈降低趋势,在不同基片偏压下可获得不同择优取向的Al-Zn镀层。     

以人为本构筑企业的核心竞争力

分析了以人为本构筑企业核心竞争力的原因,探索了以人为本构筑企业核心竞争力的途径。     

脉冲激光和磁控溅射沉积Mo薄膜研究

采用脉冲激光（PLD）和磁控溅射（MS）沉积技术制备了Mo薄膜，用扫描电镜（SEM）、白光干涉仪和X射线衍射仪（XRD）分别表征了薄膜的表面形貌和组织、表面粗糙度和薄膜密度。结果表明，PLD沉积的Mo的表面形貌受脉冲能量和基体温度的影响较大，能量越高、表面缺陷增多。MS沉积的Mo薄膜较致密，呈典型的柱状生长行为。PLD秽MS沉积的Mo薄膜的表面粗糙度均较好，R小于20nm。对实验结果进行了讨论。     

离子束辅助沉积铌提高铀的抗腐蚀性能研究

利用离子注入技术在铀表面进行了离子束辅助沉积铌和离子注入铌形成表面改性层，并对改性层的厚度、注入元素的分布进行俄歇电子能谱（AES）分析和表面相及结构的X射线衍射谱（XRD）分析，用电化学极化法测试抗腐蚀性能。结果表明：离子束辅助沉积表面改性层比离子注入表面改性层明显增厚，铀的耐蚀性得到进一步改善。最后讨论了注铌改性层耐蚀性提高的原因。     

铀上化学镀非晶态Ni-P镀层研究

对在U上化学镀Ni-P工艺进行了研究,并用扫描透射电镜（STEM）,X射线衍射仪研究了P含量为9．00－10．50（质量分数）的Ni－P镀层性能、经不同温度热处理后其组织结构的转变以及室温稳定性。结果表明：镀后镀层组织为非晶态,但局部存在短程有序的尺度差异,室温下非晶态组织是稳定的;高温下,非晶态将转变为Ni、Ni3P晶体组织。     

对现代企业的战略管理相关问题的再探讨

十一届三中全会上我国确立了社会主义市场经济体制,计划经济逐步退出市场,一方面为企业提供了更为广阔的发展空间,另一方面加剧了现代企业之间的竞争。而企业如果想在这种激烈的竞争当中立于不败之地,就必须跟上时代步伐,采用现代化的战略管理模式。就目前来说,我国一大部分企业并没有做好战略管理工作。笔者在文中论述了做好企业战略管理的重要意义,及现阶段我国现代企业战略管理中存在的问题,并根据问题提出了具有可行性、针对性的解决措施。     

铀表面Ti/Al复合镀层中Ti膜表面氧化结构研究

采用电子能量损失谱(EELS)和俄歇电子能谱(AES)研究了铀表面磁控溅射离子镀Ti/Al复合镀层中Ti膜在6.5×10-6PaO2、150℃～400℃和0.05MPaO2、200℃～500℃环境中表面化学结构变化,并与块状金属Ti的行为进行了比较.结果表明,Ti膜表面结构随着氧化温度和氧分压而变化.在0.05MPaO2足氧气氛中,在200℃～500℃下氧化时,Ti膜与块状金属Ti表面形成的氧化物均为TiO2.在6.5×10-6PaO2环境中,在较高温度(400℃)下由于表面缺氧Ti膜表面仅形成TiO,在较低温度下(≤250℃)由于O的扩散速度降低,Ti膜逐步向TiO、Ti2O3、TiO2转变,最后在表面形成了TiO2.O在Ti膜中的扩散速度较块状金属Ti明显加快.结合热力学对Ti膜氧化物结构变化进行了讨论.     

磁控溅射沉积U薄膜性能研究

采用X射线光电子能谱仪(XPS)和扫描透射电镜(STEM)分析了在Al薄膜基材上磁控溅射沉积U薄膜的表面形貌、组织和结构;分别采用排代法、霍美尔(T20S)粗糙度测量仪测量了薄膜的密度和表面粗糙度.结果表明溅射沉积的U薄膜由金属U和少量UO2组成,薄膜结构属微晶和无定形态,密度是块材密度的(75±5)%,表面粗糙度小于0.3 μm.     

金属铀与铝薄膜界面的俄歇电子能谱研究

以磁控溅射沉积方法 ,采用循环氩离子轰击镀和未循环轰击镀工艺在金属铀上制备了铝薄膜。俄歇电子能谱分析结果表明 :循环氩离子轰击镀获得的铝薄膜和铀基体的界面扩散比未循环轰击镀的显著增强 ,且界面发生化学反应 ,生成了UAl3和Al2 O3相。