SiC颗粒增强的AZ91D镁合金微弧氧化膜层的结构与性能研究

在硅酸盐体系的电解液中加入SiC粉末,对AZ91D镁合金进行微弧氧化处理.用SEM、XRD分析加入SiC粉末对微弧氧化膜层的表面形貌特征和物相成分的影响.结果表明,加入SiC粉末后微弧氧化膜层表面的微孔变少且直径减小;膜层物相成分中增加了SiC相.在w(NaCl)=3.5%溶液中的电化学腐蚀实验结果表明,加入SiC粉末后所制备的膜层的耐腐性能显著提高.在硅酸盐体系的电解液中加入SiC粉末(浓度为5g/L),频率600Hz、占空比30%、平均电流密度15A/dm<'2>时,可获得耐腐蚀性能较好的微弧氧化膜层.     

Ca含量对Mg-5Zn-2Al合金铸态组织和性能的影响

采用光学显微镜、XRD和SEM等手段,研究了Ca对Mg-5Zn-2Al合金铸态显微组织和力学性能的影响.结果表明:Ca的加入对Mg-5Zn-2Al合金铸态的晶粒能够显著地细化.合金的抗拉强度和伸长率均呈现先上升后下降的变化趋势.该合金中加入0.2wt％Ca细化效果最明显,其合金铸态时的抗拉强度和伸长率分别为为233MPa和13.33％.     

AlNp/Al(Mg)复合材料的研究进展

氮化铝（AlN）作为一种性能优良的陶瓷材料,在热学、力学、电学等领域有较大的应用价值。将AlN陶瓷加入Al、Mg等金属中形成的金属基复合材料可以获得良好的综合性能。介绍了AlN的结构与性质,并综述了AlN增强Al基、Mg基复合材料的制备方法、显微组织及力学性能和热物理性能方面的研究现状。探讨了该类复合材料存在的问题,并对未来的应用研究方向做了展望。     

影响AZ91D镁合金微弧氧化热损耗率和膜层质量的因素

测量并分析了电解液中NaOH的质量密度、电源频率和反应时间对AZ91D镁合金微弧氧化过程中热损耗率、成膜速率和致密度的影响和作用机理。试验结果表明,在NaOH的质量浓度为2.0g@L、频率为500Hz、反应时间为20min时,分别能使热损耗率降低到8.65%、5.34%、8.63%,且以上各参数值对应的膜层质量能达到最好。     

影响AZ91D镁合金微弧氧化热损耗率的因素

测量并分析了电解液中NaOH的浓度、电源频率和反应时间对AZ91D镁合金微弧氧化过程中溶液单位发热量和热损耗率的影响,提出了降低电解液热损耗率的技术途径。结果表明,控制NaOH的浓度在2.0 g/L以内、适当降低电源频率、反应时间在20~25 min之内可以显著降低热损耗率。     

Mg-20Al-0.75Sb镁合金在半固态等温热处理过程中的组织演变

Mg-20Al-0.75Sb镁合金是针对半固态等温热处理而开发的一种半固态合金。本文研究了合金固相率为40%时,保温时间对半固态浆料组织的影响,并分析了Mg-20Al-0.75Sb镁合金中Al、Sb对半固态浆料组织的影响。实验结果表明该合金40%时的最佳等温热处理工艺参数为:485℃保温60～105min,此时获得的半固态浆料组织细小、均匀,平均尺寸为59μm,且持续时间可达45min。     

AZ91D镁合金板材电脉冲轧制工艺研究

利用自主研发的电脉冲轧制设备,对AZ91D镁合金板材进行了电脉冲轧制实验,证明了AZ91D镁合金具有一定的可轧性,并获得了合适的工艺参数。对高能电脉冲和轧制力共同作用下AZ91板材变形量、力学性能及微观组织的变化机理进行了分析,并与常规轧制进行了比较。结果表明,由于电塑性效应的影响,与常规轧制相比,道次累计变形量达到了40%,显微组织变化明显,晶粒明显细化,晶粒和晶界明显拉长,抗拉强度等力学性能有显著提高。     

触变成形AZ91D镁合金的组织与二次凝固行为

采用光学显微镜和扫描电镜对AZ91D镁合金组织进行分析,研究AZ91D镁合金在半固态触变成形过程中的组织特征与二次凝固行为。结果表明,成形件的充型过程是按先底部后上部的顺序填充。触变成形件中心线部位的组织中初生相含量比边缘部位的高,产生宏观上的液相偏析。沿高度方向上,中心线处的初生相颗粒尺寸从上部到底部,先减小后增大。二次凝固过程包括3个阶段：第1阶段是初生α-Mg相生长;第2阶段是液相内部重新形核并生长成细小的等轴晶;第3阶段是剩余的液相发生共晶反应形成共晶体。共晶反应按离异方式生长,共晶组织中的Mg17Al12在初生相颗粒周围形成“晕圈”。     

不同含碳物质对AZ91D镁合金变质效果的影响

对比研究了活性炭与石墨对AZ91D变质效果的影响,分别采取单独和与铝粉混合两种不同的方式加入.实验表明:单独加入时,活性炭与石墨的变质效果大至相同,晶粒尺寸由未变质时的400μm降至240μm;两种物质与铝粉混合加入后,石墨与铝粉混合的变质效果较好,晶粒尺寸达到150μm.     

AZ91D镁合金微弧氧化工艺参数的研究

微弧氧化技术是一种在金属表面原位生长陶瓷膜的先进成形技术,是镁合金表面处理技术的重点发展方向,微弧氧化过程复杂,选择合适的工艺参数,优化工艺过程,对进一步提高膜层的性能来说至关重要。本课题通过试验研究了电流密度、占空比、频率和氧化时间对AZ91D镁合金陶瓷膜性能的影响,对工艺参数进行了优化。试验结果表明,AZ91D镁合金微弧氧化最佳的工艺参数:电流密度为1.0A/dm2、频率为600Hz、占空比为20%、微弧氧化时间为20min。