全文获取类型
收费全文 | 151篇 |
免费 | 16篇 |
国内免费 | 30篇 |
专业分类
电工技术 | 2篇 |
综合类 | 2篇 |
化学工业 | 3篇 |
金属工艺 | 1篇 |
机械仪表 | 6篇 |
轻工业 | 1篇 |
武器工业 | 8篇 |
无线电 | 143篇 |
一般工业技术 | 5篇 |
自动化技术 | 26篇 |
出版年
2024年 | 2篇 |
2023年 | 7篇 |
2022年 | 5篇 |
2021年 | 2篇 |
2020年 | 6篇 |
2019年 | 3篇 |
2018年 | 3篇 |
2017年 | 2篇 |
2016年 | 8篇 |
2015年 | 3篇 |
2014年 | 4篇 |
2013年 | 4篇 |
2012年 | 1篇 |
2011年 | 5篇 |
2009年 | 14篇 |
2008年 | 5篇 |
2007年 | 8篇 |
2006年 | 4篇 |
2005年 | 4篇 |
2004年 | 5篇 |
2003年 | 6篇 |
2002年 | 5篇 |
2001年 | 3篇 |
2000年 | 3篇 |
1999年 | 7篇 |
1998年 | 8篇 |
1997年 | 2篇 |
1995年 | 17篇 |
1994年 | 12篇 |
1993年 | 6篇 |
1992年 | 8篇 |
1991年 | 7篇 |
1990年 | 7篇 |
1989年 | 10篇 |
1987年 | 1篇 |
排序方式: 共有197条查询结果,搜索用时 15 毫秒
191.
随着红外探测技术的不断发展,市场对红外探测器提出了越来越多的要求,如高分辨率、高工作稳定性、低成本、小型化等,红外探测器光敏芯片的制备技术随之向大面阵、小间距方向不断探索。基于市场需求,本文从技术发展的角度,研究采用离子注入技术、干法刻蚀技术制备台面结型焦平面阵列,实现高性能、窄间距、小型化光敏芯片的制备,为未来高分辨率芯片的制备奠定技术基础。文章介绍了128×128(15μm)、128×128(10μm)两款器件的制备,两款器件中测I-V性能良好,其中,128×128(15μm)器件杜瓦封装组件后性能表现良好。 相似文献
192.
193.
194.
简要报道昆明物理研究所锑化铟体晶材料、弹用锑化铟红外探测器组件和320×256锑化铟焦平面器件的最新进展. 相似文献
195.
196.
近年来,为了满足新一代百万像元、高集成度、高性能红外焦平面探测器的发展需求,人们对高晶格质量、高表面状态InSb晶片的要求越来越高。为了提高用生长态晶体加工的InSb晶片的性能,对晶片高温热处理进行了研究。通过采用特殊设计的晶片承载装置并结合相应的晶片热处理配合方法,优化了晶体生长态遗传的固有缺陷以及由晶片加工过程引入的加工缺陷;改善了InSb晶片的化学计量比,释放了晶片内部的残余应力;提高了晶格质量,优化了晶片整片的平面度,最终提高了InSb晶片的整体质量,为制备高性能大规格红外焦平面探测器奠定了材料基础。 相似文献
197.
常用的触点式电位器存在着分辨力低、噪声大、寿命短等缺点
!
如果改用磁敏电位器, 则
可全面改善, 并且在调节输出电压时, 可进行无反转的操作! 如若把它应用于电动阀门检测,
拾音器针压控制、伺服电流反馈、摄像机光阑自动控制、磁带引力控制、注入机油压控制、风
向计方位检测、液体流量控制等方面, 也不失为一种具有发展前途的新型传感器 相似文献