宽厚板轧机工作辊断裂原因分析及改进

从轧制时传动扭矩、辊速差和板形状态分析了宽厚板轧机工作辊辊头断裂的原因,通过优化梯形速度轧制、调整压下规程和建立扭矩联锁保护的措施,降低了轧辊消耗,确保了正常生产和设备安全。     

长春光机所深紫外光学薄膜技术研究进展

综述了深紫外光学薄膜技术在中科院长春光学精密机械与物理研究所的研究进展。为满足高性能深紫外光学系统对薄膜光学元件的需求,在以下方面开展了系统研究:定制了两台深紫外光学薄膜专用沉积设备,分别用于高性能深紫外光学薄膜的热蒸发与离子束溅射沉积工艺,实现了φ410mm光学元件的镀膜;通过优化薄膜沉积工艺,双面镀膜样品在193nm处典型透过率为98.5%～99%;对影响光学元件面形精度的因素进行了考察,可实现的膜厚均匀性为0.1%(rms),能够满足高质量深紫外光学系统的容差要求;采用X射线衍射方法对薄膜应力进行了测量,并采用有限元方法分析了应力对元件面形的影响;针对影响薄膜实用性能的因素,提出了针对性的解决方法,采用紫外辐照方法恢复了环境污染引起的透过率下降,发展了基于晶振监控法的膜厚精确控制方法。基于这些研究的阶段性成果,明确了下一步的研究方向。     

微碱法提取山药糖蛋白的工艺研究

用微碱性溶液提取糖蛋白,采用单因素试验和4因素3水平正交试验,研究提取时间、提取温度、料液比(g/mL)和提取pH值对糖蛋白提取率的影响。试验结果表明,微碱法提取山药糖蛋白的最优工艺条件为:提取温度为60℃、提取时间为2.0h、提取料液比(g/mL)为1:15、pH值为10,此时山药糖蛋白最高提取率为0.74%。     

谷糠多酚对酒精性胃黏膜损伤的保护作用

目的：初步阐明谷糠多酚对酒精性胃黏膜损伤的保护作用以及具体分子机制,为谷糠多酚在饮酒人群胃黏膜损伤营养干预方面的应用提供科学依据。方法：雄性Wistar大鼠连续3 周每天灌胃50 mg/kg mb谷糠多酚,干预结束后通过灌胃体积分数75%乙醇溶液建立急性酒精性胃黏膜损伤模型;利用不同剂量（1～15 μg/mL）谷糠多酚对人胃黏膜上皮细胞（GES-1）处理24 h,继而通过1 000 mmol/L酒精继续作用12 h建立酒精性GES-1细胞损伤及干预模型;通过解剖观察大鼠胃组织形态学及病理结构,评价谷糠多酚对大鼠胃黏膜组织的保护作用;结合细胞形态变化及存活情况评价谷糠多酚对GES-1细胞的保护作用;通过测定氧化应激和细胞凋亡相关指标,评价谷糠多酚对急性酒精性胃黏膜损伤大鼠及GES-1细胞的抗氧化和抑制凋亡能力的影响。结果：谷糠多酚可以有效预防酒精引起的大鼠胃黏膜及GES-1细胞损伤,极显著缓解酒精引起的GES-1细胞活性氧（reactive oxygen species,ROS）水平升高（P＜0.01）;同时极显著缓解大鼠胃黏膜组织和GES-1细胞中丙二醛（methane dicarboxylic aldehyde,MDA）水平升高（P＜0.01）,提高超氧化物歧化酶（superoxide dismutase,SOD）活力,明显抑制酒精引起的细胞凋亡。结论：谷糠多酚能够通过缓解酒精引起的胃黏膜上皮细胞氧化损伤从而保护胃黏膜。     

熔池内Li_SF_6缓慢燃烧可行性的实验研究

以实验为基础,对锂/六氟化硫(Li/SF6)在熔池反应器内缓慢燃烧的可行性进行了研究。在分别进行的3个实验中,将压差为0.06MPa的六氟化硫气体经喷嘴喷入装有液态金属锂,初温为430℃的密闭熔池反应器内。在液面处,六氟化硫与液态锂发生缓慢的燃烧反应。通过控制参加燃烧的六氟化硫流量,使反应器内达到预设定的温度,预设其值分别为500、565、780℃,并在此温度值稳定工作一段时间。根据实验数据,对实验现象进行了分析,为避免实验中出现的喷嘴堵塞现象采取了有效解决措施。实验验证了在密闭熔池内,Li/SF6在液面处发生的缓慢燃烧是完全可以控制的。在控制系统的调节下,温度经过一次调整即可达到预设定值,最大温度波动范围在±5℃以内,压力值完全取决于反应器内部的温度。     

软X射线多层膜光栅

详细介绍了软X射线多层膜光栅的国内外发展概况和广阔的应用领域，全面分析了它的制作工艺，并指出制作多层膜光栅的关键技术及解决方案。     

混凝土塑性收缩裂缝的防治

混凝土是一种非匀质脆性材料，由骨料、水泥石，以及存留其中的气体和水组成。在温度和湿度变化的条件下硬化并产生体积变形，由于种种材料变形不一致，互相约束而产生初始应力(拉应力、剪应力)造成骨料与水泥石粘结面或水泥石本身之间出现裂缝，下面我们探讨一下施工中常见的塑性收缩裂缝的防治。     

木工电机铝合金外壳制造方法

介绍木工电机的外壳铸铝工艺、参数的选择及设备。经过十几年的实践证明，采用的工艺是比较合理的，生产出大批量的优质产品，为企业、国家创造了较大的利润。     

极紫外投影光刻两镜微缩投影系统的光学设计

极紫外投影光刻（EUVL）两镜微缩投影物镜通常采用Schwarzschild结构和平场结构。本文分析了这两种结构在EUVL不同发展阶段的设计特点，并依据有限距反射系统像差理论，从解析解出发，设计了两套平场两镜系统，分别用于对分辨力为70nm、无遮拦、环形视场扫描曝光系统及目前研制的EUVL 32nm技术节点小视场曝光系统的研究。系统设计指标满足极紫外投影光刻要求。