电子浴辅助阴极电弧源法合成AlN薄膜影响因素研究

研究了Ｎ２流量、阴极偏压、工作气压等工艺参数对电子浴辅助阴极电弧源法合成ＡｌＮ薄膜质量的影响规律及其原因。     

Cr-N硬质镀层的断裂韧性和冲击疲劳特性研究

采用离子束辅助磁控溅射技术(IBAMS)沉积Cr-N硬质镀层,用压入法评定镀层的断裂韧性,多次冲击试验法测定镀层的多冲疲劳抗力,探讨了多冲疲劳抗力与镀层组织结构和断裂韧性等机械性能的关系。结果表明,通过调节离子束辅助轰击能量,可以提高Cr-N镀层的硬度和断裂韧性。镀层断裂韧性的提高除了与晶块尺寸减小有关外,还与离子轰击导致镀层致密度增加相关。在冲击载荷作用下Cr-N镀层的失效方式为内聚力型疲劳剥落,随硬度和断裂韧性增加,镀层的抗多次冲击疲劳能力提高。     

功能梯度材料及薄膜的研究现状与前景

介绍了功能梯度材料弄清肆展现状,功能梯度薄膜的结构与性能及合成方法,以及功能梯度薄膜的应用与前景。     

钛合金双层辉光等离子体渗钽工艺的研究

利用双层辉光等离子渗金属技术,以纯钽作为源极,氩气为工作气体,利用不等电位空心阴极效应,在钛合金表面进行渗钽试验研究。用扫描电子显微镜（SEM）观察分析了钛钽合金渗层的截面形貌。用显微硬度仪测量渗层的显微硬度。结果表明,在Ti6A14V合金基材表面成功形成钛钽合金扩散层约为10μm厚。表面显微硬度值达到530HV。工艺参数对渗钽层的厚度有较大影响,渗钽最佳工艺参数范围为工件电压550～600V,源极电压850～900V,极间距15～40mm,温度800～900℃。     

电子浴辅助阴极电弧源活性反应离子镀合成AlN薄膜

利用电子浴辅助阴极电弧源活性反应离子镀法 ,在 Si、Mo和不锈钢等基材上合成 Al N薄膜 ;采用 SEM、XRD及 IR对薄膜的表面形貌、晶体结构进行了分析。结果表明 ,用此法可以合成高质量的 Al N薄膜 ,而且具有合成速度快、设备简单等优点 ,有较好的开发和应用前景     

钛合金双层辉光无氢渗碳

采用双层辉光离子无氢渗碳方法进行钛合金表面处理。结果表明,合金表面形成了含TiC,C,TiAl和V的复合层, 提高钛合金的硬度及耐磨擦性,同时避免了氢脆。经过处理的钛合金表面硬度达HK1100,比基体硬度提高了近4倍。钛合金双 层辉光离子无氢渗碳方法是可行的。     

网状阴极法在碳钢表面沉积钽薄膜

介绍了一种新型的在钢铁基体上制备钽薄膜的方法. 该方法用网状钽片作阴极, 它既是放电气体的离解源, 又是沉积钽膜的钽离子供给源, 其设备简单、价格低廉. 实验中发现, 在各个参数配比合适的条件下, 可制备出结构为bcc(体心立方)和tetragonal(四方晶系)的钽薄膜. 薄膜较致密且均匀, 与基体的结合好. 同时分析了在最佳工艺参数条件下合成钽膜的组织结构、表面和断口形貌、结合力等.     

纳米持现状与展望

本文介绍了纳米技术的发展历史、世界各国研究的成果，介绍了纳米材料的特性、纳米材料制备的方法，着重介绍了我国在纳米技术方面研究的进展，以及纳米技术的应用及展望。     

碳60新材料研究的现状及展望

文本简要介绍了碳60发现的历史、碳60的几何形状及晶体结构、碳60合成的方法及形成机理,以及碳60的工业应用前景。     

纯铜加弧辉光离子渗钛的研究

介绍了加弧辉光离子渗钛新技术，利用此技术在纯铜表面形成一层均匀的渗钛层，探讨了纯铜渗钛后渗层的组织特征、渗层合金成分分布、渗层的相组成及其显微硬度分布。