碳60新材料研究的现状及展望

文本简要介绍了碳６０发现的历史，碳６０的几何形状及晶体结构，碳６０合成的方法及形成机理，以及碳６０的工业应用前景。     

用网状阴极法在碳钢表面沉积氮化钽薄膜

介绍了一种新型的在钢铁基体上制备氮化钽薄膜的方法－－网状阴极法。其设备简单、价格低廉。试验中发现，在各个参数配比合适的条件下，可制备出结构为fcc(面心立方）和hex（密排六方）的氮化钽薄膜。薄膜较致密且均匀，与其体的结合好。同时分析了在最佳工艺参数条件下合成氮化钽膜的成分、组织、表面、断口形貌和结合力等。该方法为氮化钽薄膜作为结构材料使用提供了一种新的途径。     

基体温度对Ti6Al4V表面渗Mo合金层性能的影响

利用双层辉光离子渗金属技术在Ti6A14V表面渗Mo，形成了表面改性合金层，就910—990℃渗Mo时基体温度对表面合金层性能的影响进行了研究。结果表明，渗Mo后的表面合金层由扩散层和沉积层组成，沉积层呈(211)晶面的择优取向。随着基体温度的升高，扩散层的厚度增加，并且合金层表面粗糙度增大。渗Mo后的表面合金层硬度较基体Ti6A14V的大大提高，而基体温度变化对合金层硬度没有明显影响。用涂层压入仪对沉积层和扩散层间的结合强度进行了评定。研究表明，随着基体温度的升高，临界压入载荷Pc增大，沉积层和扩散层间的结合强度增大。     

加弧辉光离子无氢渗碳对钛合金表面粗糙度的影响

利用加弧辉光离子渗镀技术对Ti-6Al-4V(TC4)钛合金进行离子无氢渗碳，在改善表面摩擦学性能的同时，还有效的避免了其它有氢介质渗碳所产生的钛合金氢脆问题，是一种新的钛合金表面改性技术。介绍了加弧辉光离子无氢渗碳的原理并着重研究了不同温度、不同靶距条件下钛合金表面粗糙度的变化。研究表明，高温加弧辉光离子无氢渗碳在一定程度上使得钛合金的表面粗糙度变差，其中渗碳温度和靶距的影响比较明显。     

温度对AZ91D镁合金表面弧辉等离子沉积TiN薄膜的影响

采用弧辉等离子沉积工艺在镁合金AZ91表面涂覆了TiN薄膜。研究了沉积温度对膜层的厚度、结合力及硬度的影响。用扫描电镜（SEM）、X射线衍射（XRD）和辉光放电光潜（GDS）分析了涂层的成分和微观结构。结果表明，随着控制温度的升高，膜层厚度呈缓慢增加的趋势，但温度过高或过低结合力明显下降，以160～180℃最佳。180℃时的硬度HK0.01最高，达14630MPa。     

非晶态Si涂膜TiFe贮氢材料的制备及其性质

用溅射法将工业硅涂膜到TiFe合金上,在外表面形成一层非晶态Si膜,经贮氢性能测试活化性能较原合金有明显的改善,XRD和XPS分析表明在TiFe合金上存在非晶态Si,在TiFe外表面有大量Si元素,由SEM图看出,涂膜Si和未涂膜Si的合金,贮氢前后在形貌上均存着明显差别,初步认为是一种可开发的贮氢材料。     

网状阴极溅射法在钛合金表面渗镀Ta的耐蚀性研究

研究设计了一种网状阴极溅射靶 ,它是由多个空心阴极并列交叉组合而成。结构简单 ,溅射率高。将其用于双层辉光离子渗钽中 ,在钛合金TC4(Ti 6Al 4V)表面可形成纯Ta沉积层和合金扩散层的复合层组织 ,进一步提高了钛合金的耐蚀性 ,是一种高耐蚀合金     

钛合金双层辉光离子无氢碳氮共渗摩擦性能研究

利用双层辉光离子渗金属原理改善钛合金Ti6Al4V的耐摩擦性。使用蜂窝状高纯度固体石墨作为源极，钛合金Ti6Al4V做阴极，一定比例的氩气、氮气作为载气。依靠辉光放电空心阴极效应，溅射出原子、离子状的碳元素，碳、氮元素混合形成等离子体，靠阴极负偏压把碳、氮吸引到Ti6Al4V的表面，依靠轰击和扩散在Ti6Al4V材料表面形成具有特殊物理、化学性能的合金层。X射线衍射检测显示渗层内形成了包含TiC，TiN的硬度相；辉光放电光谱（GDS）检测结果显示，在渗层内碳、氮元素分们呈梯度形式；硬度测试显示渗层硬度由表及里呈现梯度下降，表面硬度提高两倍以上；摩擦磨损检测表明Ti6Al4V材料经无氢碳氮共渗处理后，其粘着现象明显降低，摩擦系数降低一半多，耐磨性大大提高。     

薄膜生长过程的分子尺度模拟

概述了薄膜生长过程分子尺度模拟的原理及方法,并对不同模拟方法的国内外研究现状进行了分析综述.     

国外金刚石薄膜的合成技术

一、前言众所周知,金刚石具有:很高的硬度;耐磨;抗席蚀;它的绝缘性能和热传导度都很高;以及在光学上具有很高透明度和折射率等一系列优良性能。自古以来,人们用它作为装饰品的宝石,在工业上,也具有十分重要的应用价值。但是,长期以来不能被人们充分的利