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实验室信息管理系统(LIMS)是实验室提高工作效率、提升数据质量的重要工具,针对武汉产品质量监督检验所LIMS系统现状,提出LIMS系统应加强样品信息自动采集系统,仪器设备数据采集系统、与其他管理软件集成系统的搭建思路. 相似文献
52.
基于AlxNy绝缘介质膜的新型窗口大功率半导体激光器 总被引:2,自引:1,他引:1
提升半导体激光器的腔面抗光学灾变(COD)损伤的能力,改善半导体激光器的工作特性,一直是大功率半导体激光器器件工艺研究的难点.基于薄膜应力使基底半导体材料带隙变化的原理,采用直流磁控溅射方法在不同条件下溅射生成不同内应力的AlxNy绝缘介质膜.通过研究大功率半导体激光器腔面退化机理,借助AlxNy等应力膜设计制作了一种新型非吸收透明窗口结构的宽条形半导体激光器,使器件平均最大输出功率提高46.5%,垂直发散角达到21°,水平发散角达到6.1°,2000 h加速老化试验,其千小时退化速率小于0.091%. 相似文献
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54.
4H-SiC低压热壁CVD同质外延生长及特性 总被引:1,自引:1,他引:0
为了获得高质量4H-SiC外延材料,研制出一套水平式低压热壁CVD(LP-HWCVD)生长系统,在偏晶向的4H-SiCSi(0001)晶面衬底上,利用“台阶控制生长”技术进行了4H-SiC的同质外延生长,典型生长温度和压力分别为1500℃和1.3e3Pa,生长速率控制在1.0μm/h左右.采用Nomarski光学显微镜、扫描电镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)、X射线衍射、Raman散射以及低温光致发光测试技术,研究了4H-SiC的表面形貌、结构和光学特性以及用NH3作为n型掺杂剂的4H-SiC原位掺杂技术,并在此基础上获得了4H-SiCp-n结二极管以及它们在室温及400℃下的电致发光特性,实验结果表明4H-SiC在Si 相似文献
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广州锦兴纺织漂染有限公司;杭州绿风科技有限公司;
摘要:介绍了一种新型成衣水洗方式即臭氧空气水洗工艺。通过实践发现,冷水臭氧水洗工艺优于热水臭氧水洗工艺;并指出臭氧水洗是将污染物转化为无毒的二氧化碳、水或氧气,因而不产生污染残留物;同时臭氧水洗后还可赋予衣物残旧效果和蓬松柔软的手感。 相似文献
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60.
运行中的气体绝缘组合电器由于存在内部缺陷往往会产生局部放电等现象,SF_6气体在其作用下会发生分解,使设备绝缘性能降低,严重时会发生事故。因此可通过对SF_6气体的分解组分H_2S进行检测,达到对设备进行实时监测的目的。文中通过水热法合成了一种MoO_3@CuMoO_4敏感材料并进行了SEM、XRD表征;将MoO_3@CuMoO_4传感器用于对H_2S的检测,表现出了优异的气敏性能。在最佳工作温度下,对100 ppm H_2S灵敏度达到了89,响应时间为162 s,检测下限为100 ppb。 相似文献