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61.
为探究添加桑葚辅料发酵对紫薯酒花青素含量和风味的影响,向紫薯汁中添加5%和10%桑葚干进行发酵,检测3种紫薯酒的基本理化指标、花青素含量和挥发性成分含量并进行分析。结果表明:添加桑葚辅料使紫薯酒中花青素含量增加13.5%~39.4%; 3种紫薯酒中共检测到35种挥发性成分,主要是醇类和酯类化合物;紫薯酒中主要有月桂酸乙酯、棕榈酸乙酯、4-萜烯醇等风味物质,添加桑葚发酵后乙酸乙酯、乙酸异戊酯、辛酸乙酯、癸酸乙酯等为主要风味物质,增加紫薯酒风味的丰富性;添加5%桑葚辅料组紫薯酒感官评价得分最高,兼具良好的色泽及果香酒香。 相似文献
62.
采用变温及时间分辨光致发光谱研究了MBE设备生长的具有不同盖帽层的InAs量子点样品.发现引入InGaAs盖帽层可以使InAs量子点发光的半高宽减小,且向长波长移动.InGaAs/InAlAs联合盖帽层可以进一步改善InAs量子点发光性能,使得室温发光波长超过1.3μm;在10~300K温度范围内,发光峰值能量及半高宽随温度的变化都较小.随温度升高,InAs量子点的发光寿命首先增大,当温度升高到临界温度TC后,发光寿命逐渐减小.但覆盖不同盖帽层的InAs量子点样品,其发光寿命具有不同的温度关系,联合盖帽层样品具有较大的TC及发光寿命.根据应力及载流子迁移模型对以上实验结果进行了分析. 相似文献
63.
采用RF磁控溅射技术以ZnO2Al2O3(2wt%Al2O3)为靶材在石英玻璃衬底上制备多晶ZnO:Al(AZO)薄膜,通过XRD、AFM、AES以及Hall效应、透射光谱、折射率等手段研究了RF溅射功率(50-300w)对薄膜的组织结构和电学,光学性能的影响。分析表明:所制备的AZO薄膜具有c轴择优取向,并且通过对不同功率下薄膜载流子浓度与迁移率的研究发现对于室温下沉积的AZO薄膜,晶粒间界中的O原子吸附是影响薄膜电学性能的主要因素。同时发现当功率为250W时薄膜的电阻率降至最低(3.995×10^-33Ω·cm),可见光区平均透射率为91%。 相似文献
64.
探讨了白酒厂发酵丢糟原料NaOH.过氧乙酸预处理后,多酶复配糖化制备糖液的工艺。研究发现,白酒丢糟经预处理(2%NaOH,固液比1:10(w:v),85℃,90min;6%过氧乙酸,固液比1:5(w:v),75qC,90min),固体中96.20%纤维素被保留,71.90%木质素被去除;预处理后固体部分利用多酶复配糖化,在主要添加纤维素酶NS22086的基础上,补充B.葡萄糖苷酶NS22118、木聚糖酶NS22083、复合酶NS22119、复合酶NS22002及葡萄糖淀粉酶NS22035,经48h糖化水解,酶解液中总糖(以还原糖计)、葡萄糖和木糖浓度分别为107.30g/L、57.44g/L和16.53g/L。该条件最终得到酶解液中总糖、葡萄糖和木糖产率分别为659.13mg/g、317.22mg/g和96.01mg/g(预处理后干丢糟)的较高水平,为进一步利用生物质材料降解糖制备燃料酒精、食用酒精、食用冰乙酸以及焦糖色的工艺提供了重要参考。 相似文献
65.
66.
基于小波变换和神经网络的PCB检测 总被引:3,自引:0,他引:3
小渡变换是空间、时间和频率的局域变换,它能通过伸缩和平移等运算对覆盖整个频域的信号逐步进行多尺度细化分析.人工神经网络以其独特的非线性、非凸性、自适应性和处理各种信息的能力.广泛应用于工业领域.本文将小波变换快速算法在图像处理领域中表现出的多尺度分析与BP神经网络算法相结合.运用于电子工业检测系统中.提出对印制电路板PCB进行边缘检测、缺陷分类的方法. 相似文献
67.
吸收层与倍增层分离的4H-SiC雪崩光电探测器 总被引:1,自引:0,他引:1
设计和制备了吸收层和倍增层分开的4H-SiC穿通型雪崩紫外光电探测器.设计器件的倍增层和吸收层厚度分别为0.25和1μm.采用multiple junction termination extension(MJTE)方法减少器件的电流集边效应和器件表面电场.对器件的暗电流、光电流和光谱响应进行了测量.器件在55V的低击穿电压下获得了一个高的增益(>104);穿通前器件暗电流约为10pA数量级;0V偏压下器件光谱响应的紫外可见比大于103.光谱响应的峰值波长随反向偏压的增大而向短波方向移动,在击穿电压附近光谱响应的峰值波长移到210nm,此波长远远小于在0V时的响应峰值.结果显示器件在紫外光探测中具有优良的性能. 相似文献
68.
金属-半导体-金属(MSM)结构4H-SiC紫外光电探测器的研制 总被引:5,自引:2,他引:3
MSM结构探测器具有结构与工艺简单、制备成本低、量子效率高等特点而在探测器应用中得到重视。本文制备了采用镍作为肖特基接触形成的MSM4H—SiC紫外光电探测器,并测量和分析了在不同的偏压下其光电特性。结果表明,该探测器的暗电流非常小,在偏压为15V的时候,漏电流密度约为70nA/cm^2,光电流比暗电流高约2个数量级,其光谱响应表明,其最高光谱响应与380nm的比值约为1000倍,说明该探测器具有良好的紫外可见比。 相似文献
69.
采用磁控溅射方法分别在n型4H-SiC上沉积Cu,Ni金属薄膜形成Schottky接触,并进行不同温度下的退火,通过I-V和C-V测试,研究不同退火温度对Schottky势垒高度以及理想因子的影响. 研究结果表明,对Cu,Ni金属,适当的退火温度能提高其与4H-SiC所形成的Schottky势垒高度,改善理想因子,但若退火温度过高,则会导致接触的整流特性退化.器件在退火前后,反向漏电流都较小. 热电子发射是其主要的输运机理. 所制备的金属半导体接触界面比较理想,无强烈费米能级钉扎 相似文献
70.