基于GPS定位和移动互联网的焊接设备远程监控系统

为方便监控野外施工的焊接设备,有效监管焊接质量、工艺规范和工程进度,开发了一种基于GPS定位和移动互联网的焊接设备远程监控系统。系统在移动通信网络条件允许时,直接将焊接设备的多种数据上传并暂存在中转服务器内,在客户服务器开启时通过互联网将数据转发并存储到客户服务器,供客户管理终端检索。系统由专门制造的焊接设备、中转服务器、客户服务器和客户管理终端组成,客户管理终端是基于Windows的软件设计,主要涉及用户界面、数据解析、数据存储和数据传输。     

毛皮厚度测定标准问题

毛皮行业作为我国的传统行业,到今天已经发生了翻天覆地的变化。随着中国加入世贸组织和经济全球化步伐的加快,我国毛皮行业面临着激烈的国内市场竞争和国际市场竞争。提高竞争能力的主要因素是保证产品的质量,而没有先进的标准,质量的保证也就无从谈起。我们的标准体系中很多属于“老龄化”,无法体现检测手段的进步,满足行业、市场发展的需要。毛皮厚度测定的标准就是其中亟待修订的标准。     

涂层织物的涂层剥离方法

在定量分析前,涂层织物必须进行涂层剥离.以常用的聚丙烯酸酯(PA)、聚氨酯(PU)、聚氯乙烯(PVC)涂层织物为研究对象,选择5种溶剂作为涂层剥离剂,在不同条件下进行剥离试验,找出了对不同涂层都具有剥离效果的3种涂层剥离剂,其中四氢呋喃效果最好,常温下5 min即可将涂层完全剥离.同时,分析了15种可能受溶剂损伤的纤维,并对其中的11种找出了剥离方法.     

纤维定性定量中剥色方法的选择与应用

介绍了印染中的剥色技术,讨论了剥色技术在纤维定性定量中的选择和应用,重点对几种特殊情况剥色方法的选择进行了分析。     

纺织产品基本安全项目的控制与改进

对GB18401-20038YL定的纺织产品基本安全项目的影响因素进行了分析,对常用的控制与改进方法进行了总结,指出了基本安全项目除可分解芳香胺染料外都可以采用不同的途径进行改进;同时讨论了纺织产品基本安全项目的检测结果可能出现的问题,并针对基本安全项目的检测结果容易改进以及存在时效性的特点提出了建议。     

X80管道焊接的整体解决方案

介绍了焊接X80钢管道所需要的焊接材料和焊接设备的特点,以及与目前管道焊接常用的其他焊接方法的对比,推出了一套全新的工艺组合为:中频感应加热器预热,金属粉芯焊丝MT80N1 RMD打底,自保护药芯焊丝Fabshield X80填盖.这套工艺组合,焊工培训所需的时间少,降低了焊工的操纵技能要求,焊缝的拍片合格率很高,焊接效率较以往有较大提高.工程成本也大大降低.     

取样光栅分布反馈激光器阵列器件研究

采用了一种基于取样光栅原理制作多通道增益-折射率耦合型光栅的方法,成功制作了8波长分布反馈(DFB)激光器阵列,阵列中各激光器的阈值电流为30～40 mA,注入电流为100 mA时的平均输出光功率为10mW,阵列器件实现了波长的可选择性激射,相邻激光器间的频率间距为200 GHz,验证了用取样光栅方法制作DFB激光器阵列的可行性。     

采用冒泡原理进行多轨迹识别的方法

为更好地提高业务监控识别的准确性,降低误判率并扩展应用范围,通过引入恒变循环轨迹的概念,将一类问题都归结于剩余类循环轨迹的问题. 提出了一种基于冒泡原理的多轨迹识别算法,利用各轨迹交替特性,依次按轨迹属性值由大到小识别. 实验表明,使用该算法检测共享接入主机,具有很高的收敛性和准确性,更满足现网场景需求.     

多量子阱电吸收调制DFB激光器的一种新型LP-MOCVD对接生长方法

提出了一种提高多量子阱电吸收调制DFB-LD集成器件(EML)耦合效率的对接生长方法.采用LP-MOCVD外延方法,制作了对接方法不同的三种样片,通过扫描电镜研究它们的表面及对接界面形貌,发现新对接结构的样片具有更好的对接界面.制作出相应的三种EML管芯,从测量所得到的出光功率特性曲线,计算出不同对接方法下EML管芯的耦合效率和外量子效率.实验结果表明,这种对接生长方案,可以获得光滑的对接界面,显著提高了激光器和调制器之间的耦合效率(从常规的17%提高到78%)及EML器件的外量子效率(从0.03mW/mA提高到0.15mW/mA).     

在微晶硅薄膜中替代式硼杂质的非受主态行为

已知,在使用PECVD法沉积的硅薄膜中,掺硼所能获得的最高室温电导率要比在同样沉积条件下掺磷硅膜低一个数量级。我们用SIMS及声表面波技术测得,氢化硅膜中起受主作用的活性硼原子在其总掺硼量中仅占0.7％,而绝大部份掺入的硼原子是非活性的。这是由于氢化硅薄膜网络结构中的氢填补了未饱和的B—Si键,使之形成中性的B—H—Si复合体所致。使用低能电子束流辐照掺硼样品,引起退氢化作用,从而使大量的B—H—Si中性复合体转变成活性的B—Si键,能使其电导率提高一个数量级,达到与掺磷硅膜同一水准。