铜钼分离磁-浮联合新工艺研究

国内某含钼铜精矿，铜钼可浮性相近，单一浮选工艺所需药剂量大，废水COD高。针对矿石性质特点和规律，开发出了磁选-浮选联合工艺，相比单一浮选工艺，钼精矿中钼的回收率提高了2.87%；新工艺节省硫化钠60%以上，水玻璃、六偏磷酸钠和煤油节省40%以上，同时废水COD下降60%以上。新工艺具有明显的经济效益和环境效益，为该类型的铜钼矿的开发利用提供了新的技术方案。     

一种基于PID的无位置传感器直流电动机控制方法研究

介绍一种基于PID的无位置传感器直流电动机的控制方法。针对无位置传感器起动过程中的检测原理以及相应的电机控制策略进行了详细的论述,省去了复杂的计算,降低了对电机参数的依赖性。通过仿真可以看出,此控制系统有较好的静态性能,控制精度比较高、稳定性较好。     

新型双定子永磁游标电机电磁性能研究

提出一种在结构上由内、外双定子以及中间转子构成的新型永磁游标电机拓扑结构,永磁体采用内嵌的方式安装在转子内部。在该电机内、外定子上设计有起磁场调制作用的调磁齿,实现对内、外双重气隙磁场的调制作用,提高磁场的利用率,使电机能够输出较大较平稳的转矩。详细阐述该新型双定子永磁游标电机的工作原理,给出具体的设计参数以及二维、三维结构示意图,并运用电磁有限元软件完成对该电机模型的建立,针对其电磁性能进行仿真分析,结果显示该新型双定子永磁游标电机具有有效的谐波调制作用,并能实现较大较平稳转矩输出。     

基于摄动法的表贴式永磁电机转子偏心空载气隙磁场计算

采用摄动法解析计算表贴式永磁电机转子偏心空载气隙磁场,以无量纲的偏心扰动量作为摄动变量,可解决表贴式永磁电机内转子结构和外转子结构的转子偏心磁场解析问题。根据气隙区域及永磁体区域的边界条件求解拉普拉斯方程和泊松方程,通过矢量磁位推导出气隙磁通密度的解析表达式,进而应用麦克斯韦应力张量法计算不平衡磁拉力,并将解析法结果与有限元法结果进行比较,发现二者一致性较好,验证了该方法的正确性和有效性。     

汽轮发电机轴电压产生的原因和处理方法

分析了汽轮发电机轴电压的危害和产生轴电压的原因,并针对不同原因引发的轴电压和轴电流,提出了相应措施。     

考虑高山影响的UHVDC单极大地运行感应电势分析

特高压直流输电系统单极—大地回路运行时,会使附近交流电网遭受直流偏磁危害,地表电位的准确求解是预防和治理直流偏磁危害的重要环节。针对高山对感应电势的影响,首先建立了考虑高山影响的复合土壤结构模型,并运用镜像法与行波法推导出感应电势的计算公式,分析了大地参数对感应电势分布的影响,发现高山的存在抬高了高山与直流接地极之间的感应电势,增大了高山两侧的感应电势差。进而以±800kV天中特高压直流输电工程为例,在Matlab中搭建模型计算哈密地区交流电网中直流电流分布情况。结果表明,各变电站接地极的直流电流仿真值与实测值相符。     

某复杂铜硫矿浮选分离与综合回收试验研究

某复杂铜硫矿原矿硫铁含量高,现场为高碱工艺流程,铜硫分离困难且金银综合回收效率低。采用硫化钠预先活化,“石灰+羧化壳聚糖”作黄铁矿和磁黄铁矿抑制剂,粗选pH=8.5,经一粗两精三扫优先浮选流程可得到含铜24.63%、含金3.41 g/t、含银952.05 g/t,铜回收率84.45%、金回收率32.58%、银回收率75.70%的铜精矿。羧化壳聚糖为清洁高效有机高分子化合物,能高效选择性抑制硫铁矿,在提高主金属铜回收率的同时,伴生金银矿物得到了高效综合回收。     

基于神经网络遗传算法的磁粒研磨TC4材料工艺参数优化

目的利用磁粒研磨光整加工技术提高TC4材料的表面质量,使用BP神经网络建立加工工艺参数和表面粗糙度之间的关系,使用遗传算法寻找最优工艺参数组合。方法使用双级雾化快凝法制备的金刚石磁性磨料对TC4材料工件进行L9(34)正交试验,借助Matlab软件建立结构为4-12-1的BP神经网络,根据正交试验结果训练BP神经网络,探究工艺参数主轴转速n、加工间隙δ、进给速率v、磨料粒径D和表面粗糙度Ra之间的关系。使用决定系数R2评判BP神经网络训练结果,基于训练好的BP神经网络使用遗传算法对工艺参数进行全局寻优。使用计算得到的优化工艺参数进行试验,并测量工件表面粗糙度,与计算得到的表面粗糙度做对比。结果BP神经网络的预测误差在1.5%以下,通过决定系数R2优化的模型可在训练样本较少的情况下进行有效可靠的预测。遗传算法优化的结果,在主轴转速为1021.26 r/min、加工间隙为1.52 mm、进给速率为1.04 mm/min、磨料粒径为197.91μm下,获得最佳表面粗糙度,为0.0951μm。使用调整后的工艺参数,在主轴转速为1020 r/min、加工间隙为1.50 mm、进给速率为1.0 mm/min、磨料粒径为196μm下,试验得到的表面粗糙度为0.093μm,与计算得到的最佳表面粗糙度误差为2.21%。结论采用磁粒研磨光整加工技术与寻优参数结合,可以有效提高TC4材料加工后的表面质量。