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为了进一步改善AZ31B镁合金的耐磨和耐蚀性能,采用微弧氧化技术且在电解液中添加质量浓度为4g/L的MgO纳米颗粒,制备了氧化物陶瓷膜。采用扫描电子显微镜观察其表面和截面形貌,采用X射线衍射仪测试微弧氧化(MAO)膜的物相组成,利用电化学工作站,盐雾试验箱测试耐腐蚀性,利用球-盘磨损实验测试耐磨性。结果表明:添加MgO纳米颗粒后,膜层孔洞的填充,膜层成分中MgO含量的增加,使腐蚀电流密度降低至4.28×10~(-9) A/cm~2;中性盐雾试验结果表明腐蚀以点蚀和裂纹的形式发生,MgO的嵌入使腐蚀点减少和内部致密层厚度增加,从而使2N荷载、干摩擦条件下样品的摩擦系数和磨损率分别减小至0.228和1.39×10~(-5) mm~3/(N·m),耐蚀性和耐磨性得到改善。 相似文献
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介绍了一种新开发的挤压粉磨设备--“内循环式辊压磨”的总体方案、驱动方式、主要部件的结构设计及其工作原理。从相对传统的球磨机和当代的辊式磨所进行的分析比较,表明“内循环式压磨”是磨机技术上的一个创新。 相似文献
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研究了非晶态TiO2/WO3薄膜降解亚甲基蓝的光催化活性、失活及活性再生等问题。在本实验条件下,新制非晶态TiO2/WO3薄膜对亚甲基蓝的降解率为93.8%。试验表明,使用6次后其对亚甲基蓝的降解率仍可达85%以上,经10次使用后薄膜基本丧失光催化活性。对于失活的光催化薄膜,分别采用(a)蒸馏水浸泡30 min、(b)乙醇浸泡30 min、(c)蒸馏水超声处理30 min、(d)乙醇中超声处理30 min对其进行活性再生实验。上述4种方法可将使用9次后的光催化膜对亚甲基蓝的降解率从10.3%分别恢复至23.2%、28.3%、79.2%、90.5%。 相似文献
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为研究离子源循环轰击对薄膜结构和电学性能的影响,通过离子源轰击辅助直流磁控溅射在200℃下沉积不同循环周期Ti N薄膜,采用场发射扫描电镜、原子力显微镜、X射线衍射仪表征薄膜表面形貌及组织结构。采用纳米压痕仪检测涂层的硬度和弹性模量。采用双电测四探针电阻仪测试室温下薄膜的电学性能。结果表明:离子源轰击在薄膜中形成了分层结构,膜层更加致密光滑,平均粗糙度由5.2 nm下降为2.7 nm。随着离子源循环轰击周期增加薄膜结晶性增强,并且当离子源循环轰击周期为3次时出现了Ti N(200)峰,薄膜硬度和弹性模量提高。当经过2次离子源循环轰击时薄膜电阻值最低为8.1μΩ·cm。 相似文献
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多层平板单元组合沉淀池技术,通过在沉淀池中增加平板来增加沉淀面积,从而提高沉淀能力和减少占地面积,并有助于高浓度活性污泥法的实现,进而缩小生化系统占地面积。在某污水处理厂进行了规模为840 m~3/d的中试研究,结果表明:多层平板单元组合沉淀池能提高表面水力负荷1. 6倍,与斜管(板)沉淀池接近,同时彻底解决了生物膜和藻类引起的堵塞问题。但和斜管(板)沉淀池一样,在污水处理过程中,平板沉淀池可以承受的表面水力负荷远未达到成倍增加的程度,存在严重的局限性。这是因为沉淀类型为拥挤沉淀,易发生清水与污泥层的掺混。 相似文献