Mg:Er:LiNbO3晶体波导基片抗光损伤的研究

以Czochralski技术生长Mg(2mol%)Er(1mol%)LN,Mg(4mol%)Er(1mol%)LN,Mg(6mol%)Er(1mol%)LN,Mg(8mol%)Er(1mol%)LN和Er(1mol%)LN晶体.测试了MgErLiNbO3晶体的红外光谱,Mg(2mol%)ErLN,Mg(4mol%)ErLN OH-吸收峰在3486cm-1附近,Mg(6mol%)ErLN和Mg(8mol%)ErLN晶体OH-吸收峰移动到3535cm-1附近,对MgErLN晶体OH-吸收峰移动机理进行研究.采用m线法测试MgErLN晶体光损伤阈值.Mg(6mol%)Er(1mol%)LN和Mg(8mol%)ErLN晶体光损伤阈值比ErLN晶体提高两个数量级以上.Mg(2mol%)ErLN和Mg(4mol%)ErLN晶体比Er(1mol%)LN晶体提高一个数量级.     

溅射气压对ZrO2薄膜微结构与光学性能的影响

利用射频反应磁控溅射在显微玻璃、单晶硅片、NaCl和石英上沉积ZrO2薄膜.膜厚60～80nm.研究发现,溅射气压升高,薄膜结晶程度降低,同时存在单斜相和四方相;晶粒尺寸增大;折射率上升;透射率在700～1000nm波段上升.这些结果表明溅射气压影响ZrO2薄膜生长机制、微观结构和成份,进而影响其光学性能.     

氧分压对反应磁控溅射ZrO2薄膜光学透射率的影响

从氧空位、表面粗糙度及晶界三方面,讨论了氧分压对射频反应磁控溅射ZrO2薄膜光学透射率的影响.结果表明,随氧分压增大,氧空位的减少使单斜相逐渐占优,缺氧状况的改善使薄膜透射率逐渐升高;高氧分压下,出现颗粒聚集现象,表面粗糙度大幅增加及晶粒的聚集长大,使薄膜透射率下降.     

循环流化床炉内传热特性分析

该文分析了循环流化床锅炉的炉内传热特性，分析比较了循环流化床锅炉与煤粉炉在传热特性上各自的特点，并以实例计算验证了循环流化床炉内传热特性的正确性。     

综合自动化系统VQC实现方式的探讨

综合自动化变电所监控系统软件VQC的方式，在实际运行中存在一些不足，文章结合VQC软件调试及运行维护的实践，就VQC运行监控模式、闭锁策略、控制方案的选择等方面提出改进建议，并介绍相应的有效措施。     

基于DSP嵌入式系统的视网膜电图暗适应仪设计

介绍了一种基于DSP的嵌入式系统，即视网膜电图暗适应仪的硬、软件设计和工作过程。该仪器能全自动记录视网膜电图，并计算各波振幅和潜伏期，光强度-振幅曲线和暗适应曲线，并能对色觉异常患者进行色觉异常定量检测。     

市场调查人员个性特征与调查效果研究

以135名杭州市市场调查人员为被试,使用艾森克人格问卷(EPQ)测定人格维度,以"项目完成率"、"完成质量"2个客观指标与"责任心"、"热情"2个主观指标为评价标准,综合论述了市场调查人员个性特征与调查效果的关系。结果发现:市场调查人员个性特征与调查效果之间有一定关系,其中"精神质"是影响调查效果的重要因素。低精神质,外倾,且神经质得分较高和较低者调查效果好。     

HL-2A装置真空室总体检漏

介绍中国环流器2号A偏滤器托卡马克装置真空室总装检漏及结果.根据其真空室特点设计了不同结构的检漏子系统,用氦质谱检漏仪、四极场质谱计与氦质谱检漏仪相结合的方法(双质谱法)分别进行零部件和真空室总体检漏,对有关检漏技术问题进行了讨论.     

PCVD在狭缝内壁沉积Ti-Si-N薄膜的研究

用脉冲直流等离子体辅助化学气相沉积(PCVD)设备在狭缝的侧壁上沉积Ti-Si-N薄膜.经微观物相分析发现,在狭缝的侧壁上随着测试深度的增加,薄膜中Ti元素逐渐减少,Si含量增加,薄膜的相组成始终为nc-TiN/Si3N4.利用球痕法测定了各深度处薄膜的厚度,显微硬度仪测试了侧壁上深度不同位置处薄膜显微硬度.实验结果表明,随测试深度增加,薄膜厚度和显微硬度下降.     

沉积温度对ZrO2薄膜相结构和透射率的影响

利用射频反应磁控溅射在显微玻璃、单晶硅片、NaCl片和石英上沉积ZrO2薄膜.薄膜厚度80 nm～100 nm.利用X射线衍射仪、透射电子显微镜、X射线能谱仪、分光光度计和原子力显微镜研究了沉积温度对薄膜相结构和O/Zr、透射率的影响.研究发现,沉积温度升高,非晶相减少,结晶相增多;晶粒尺寸增大;沉积温度为370 ℃,透射率明显下降.